「pattern-formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(33ページ目) - Weblio英語例文検索

To increase the quantity of light to be irradiated by a projector-type head lamp for vehicles constituted so as to form a light distribution pattern for a low beam, without hindrance in the formation of the light distribution pattern for a low beam.例文帳に追加

ロービーム用配光パターンを形成するように構成されたプロジェクタ型の車両用前照灯において、ロービーム用配光パターンの形成に支障を生じることなく、その照射光量の増大を図る。 - 特許庁

To provide a pattern formation method in which chemical and physical damages by irradiation of ultraviolet rays are avoided to an object of a pattern formed by an ultraviolet-curing ink, and to provide a liquid droplet ejector.例文帳に追加

紫外線硬化性インクによって形成するパターンの対象物に対して、その紫外線照射による化学的、物理的損傷を回避させたパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

After a resist pattern formation process with a prescribed layer of a semiconductor wafer, a selected wafer is irradiated with an inspection light which causes fluorescence emission in the resist pattern, for example, ultraviolet ray (UV) of a prescribed wavelength band.例文帳に追加

半導体ウェハ所定層におけるレジストパターン形成工程終了後、選ばれたウェハは、そのレジストパターンに対して蛍光発光させる検査用の光、例えば所定の波長帯を有する紫外線（ＵＶ）を照射する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method for easily manufacturing a micro phase separation structure film with aligned orientation directions by a large area, and forming a pattern of nanometer scale using the micro phase separation structure film.例文帳に追加

配向方向のそろったミクロ相分離構造膜を容易に、大面積で製造することができ、このミクロ相分離構造膜を用いてナノメートルスケールのパターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method suitable for fine pattern formation with an electron beam, X-ray or extreme ultraviolet radiation, and a radiation-sensitive resin composition and a radiation-sensitive acid generation group-containing resin for use in the same.例文帳に追加

電子線、Ｘ線、極紫外線による微細パターン形成に好適なパターン形成方法並びにそれに用いられる感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生基含有樹脂を提供する。 - 特許庁

The shape of the mirror face can be deformed into a prescribed shape stepwise depending on the formation pattern of the strength distribution pattern 2a, and spherical abrasion correction can effectively be performed to recording layers, for example, three or more layers.例文帳に追加

また、強度分布パターン２ａの形成パターンによってはミラー面の形状を段階的に所定形状に変形でき、例えば３層以上の記録層に対応して有効に球面収差補正を行うことができる。 - 特許庁

To provide a conductor pattern formation apparatus which can form a sintered conductor pattern even on a substrate having no heat resistance and can prevent short-circuitting of a circuit by preventing the transferring of a satellite (mist) and has good productivity.例文帳に追加

本発明は、耐熱性のない基板にも焼結した導体パターンを形成でき、サテライト(mist)の転写を防止して回路のショートを防止できる、生産性のよい導体パターン形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Since the minute defect of the mold which causes the destruction of the mold by an imprint and the defect of the transfer pattern can be reduced, the extension of the life of the mold and the formation of a good transfer pattern with defects reduced are made possible.例文帳に追加

これにより、インプリントによるモールド破壊や転写パターン欠陥の原因になるモールドの微小欠陥を低減できるため、モールドの長寿命化と欠陥の少ない良好な転写パターン形成が可能となる。 - 特許庁

To enable to melt by heating after pattern formation by using a photosensitive resin compsn. capable of forming a pattern by exposure through a photomask and subsequent development.例文帳に追加

感光性樹脂組成物を用いて得られるパターン形成された接着剤であって、表面に凹凸形状を有する各種形状の電子素子に使用しても、良好な接着性を発現する接着剤を提供する。 - 特許庁

The minute drops 24 are positively charged by a variable DC power supply 26, and become fine particles of the solute since the solvent 28 evaporates during flight, and attach to the pattern formation region of the substrate 12, forming a pattern.例文帳に追加

微小液滴２４は、可変直流電源２６によってプラスに帯電し、飛翔中に溶媒２８が蒸発して溶質微粒子となって基板１２のパターン形成領域に付着し、パターンを形成する。 - 特許庁

The CPU forms the image corresponding to the image data (SB5), without forming a tracking pattern image, when detecting the indication for releasing the formation of the tracking pattern image from the decoded release information (SB4: YES).例文帳に追加

そして、ＣＰＵは、復号した解除情報から追跡用パターン画像の形成を解除する指示を検出すると（ＳＢ４；ＹＥＳ）、追跡用パターン画像を形成させずに、画像データに応じた画像を形成させる（ＳＢ５）。 - 特許庁

Here, the auxiliary layer is not dissolved due to the formation of a passive film and it becomes possible to form the pattern by the protective functional layer dissolving.例文帳に追加

ここで補助層は不動態膜が形成されることにより溶出することはなく、保護機能層が溶出することによりパターニングすることが可能となる。 - 特許庁

To provide an advertisement distribution system and an advertisement distribution method which permits advertisement formation conforming with a behavior pattern of an objective person on a moving path of the objective person.例文帳に追加

対象者の移動経路上において、その行動様式に合わせた広告が可能な広告配信システムおよび広告配信方法を提供する。 - 特許庁

Some of core members 4a and 4b and coil pattern 3 of a coil unit 1 are mounted in the part-mounting inhibiting region α for the formation of the coil unit 1.例文帳に追加

この部品搭載禁止領域αにコイル装置１のコア部材４ａ，４ｂおよびコイルパターン３の一部分を入り込ませてコイル装置１を形成する。 - 特許庁

To deposit materials with which fine pattern formation is difficult to an easily patterned state by etching and other conventional techniques.例文帳に追加

エッチングやその他の従来の手法により、微細パターン形成が困難な材料を容易にパターニングした状態に成膜することができるようにする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device for forming a uniform, flat element isolation region, without depending on the formation pattern of the element isolation region.例文帳に追加

素子分離領域の形成パターンに依存せず、均一で平坦な素子分離領域を形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In case the pattern formation has not been completed, a stage 5 is transferred to a predetermined position under a drawing unit 3 by step S9 as a stage transfer process.例文帳に追加

パターンが完成していない場合は、ステージ移動工程としてのステップＳ９によって、ステージ５を描画ユニット３の下の所定の位置に移動する。 - 特許庁

A chemical resistance layer 21 is formed on the insulating layer 1, and partially provided at an edge part in a formation area for the conductor pattern 2.例文帳に追加

耐薬品性層２１は、絶縁層１の上に形成されており、導体パターン２の形成領域において縁部分に部分的に設けられている。 - 特許庁

To provide a resist development method and a device for realizing highly precise fine pattern formation in a process for manufacturing a semiconductor device such as a super-LSI.例文帳に追加

超ＬＳＩ等の半導体デバイスの製造工程において、高精度微細パタン形成を実現するレジスト現像方法および装置を提供する。 - 特許庁

To effectively prevent characteristic deterioration due to a pattern shift in gate formation while suppressing increase in cell area, and to reduce resistance in a power supply voltage feeder line.例文帳に追加

セル面積増大を抑制しつつゲート形成時のパターンずれによる特性低化を有効に防止し、さらに電源電圧供給線を低抵抗化する。 - 特許庁

The chemical resistance layer 21 is formed on the insulating layer 1, and partially provided at an edge part in a formation region for the conductor pattern 2.例文帳に追加

耐薬品性層２１は、絶縁層１の上に形成されており、導体パターン２の形成領域において縁部分に部分的に設けられている。 - 特許庁

Since positioning is performed on the basis of the pattern of the light-shielding part, the accuracy of positioning of a substrate in formation processing of a colored layer can be improved.例文帳に追加

遮光部のパターンに基づいて位置決めを行うので、着色層形成処理時における基板の位置決め精度を向上させることができる。 - 特許庁

A PL signal formation portion 103 forms a pilot signal so that the pilot signal has a predetermined pattern in which the pilot signal changes in time in a pilot carrier.例文帳に追加

ＰＬ信号生成部１０３は、パイロットキャリアにおいてパイロット信号が所定の時間的に変化するパターンを持つようにパイロット信号を生成する。 - 特許庁

To provide a conductive paste superior in formation accuracy of a fine pattern even when carrying out continuous printing, and to provide a wiring board using the same.例文帳に追加

連続印刷を行う際にも、ファインパターンの形成精度に優れた導電性ペーストおよびそれを用いた配線基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a photosensitive resin film by which in-plane film thickness variation of the photosensitive resin film before pattern image formation can be diminished.例文帳に追加

パターン画像を形成する前の感光性樹脂膜の面内膜厚変動を小さくすることができる感光性樹脂膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

A lead frame 1 comprises: a shape pattern formation region 2 for four pieces of semiconductor packages; and a frame portion 5 having an outer edge 3 and a boundary 4.例文帳に追加

リードフレーム１は、半導体パッケージ４個分の形状パターン形成領域２と、外縁部３と境界部４とを有する枠体部５とからなっている。 - 特許庁

PATTERN FORMATION METHOD, AND COLOR FILTER, LIQUID CRYSTAL DISPLAY, ELECTRICAL CIRCUIT, ELECTRONIC ELEMENT, SELF-LIGHT-EMITTING ELEMENT AND SEMICONDUCTOR DEVICE PRODUCED BY THE METHOD例文帳に追加

パターン形成方法並びにその方法により製造されたカラーフィルタ、液晶表示装置、電気回路、電子素子、自発光素子及び半導体装置 - 特許庁

To provide the formation of a resist pattern which is improved to the extent such that the resist profile of chemically amplified resist can be controlled.例文帳に追加

化学増幅型レジストのレジストプロファイルをコントロールすることかできるように改良された、レジストパターンの形成方法を提供することを主要な目的とする。 - 特許庁

To provide a resist composition giving a resist film with high etching durability and reduced LWR (line width roughness) in EUV lithography that can achieve formation of an ultrafine pattern.例文帳に追加

極微細パターンを形成可能なＥＵＶリソグラフィーにおいて、エッチング耐性が高く、ＬＷＲを低減したレジスト膜を与えるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

Openings 11A are provided to a copper foil 11 placed on a base film 12 by pattern etching, and the copper foil 11 on the base film 12 is subjected to a blackening treatment for the formation of the electromagnetic shielding film 10.例文帳に追加

基材フィルム１２上の銅箔１１にパターンエッチングにより開口１１Ａを形成した後、黒化処理を施した電磁波シールド性フィルム１０。 - 特許庁

The speed fluctuation pattern updating processing can be executed thereby, even if executing an image formation operation, such as a single rotation of the intermediate transfer belt 8.例文帳に追加

これにより、中間転写ベルト８が一回転するような画像形成動作が行われなくても、速度変動パターン更新処理を実施することのできる。 - 特許庁

A filter forming device for forming a filter film 6 of a fixed pattern on an inner surface 4 of a face is equipped with a main machine for paint-film formation and a conveyor 11.例文帳に追加

フェース内面４に所定パターンのフィルター膜６を形成するフィルター形成装置は、塗膜を形成する主機と、搬送コンベヤ11とを備える。 - 特許庁

A pattern formation means 3 which is arranged on the optical axis of the light source 2 and which is used to form slit light on the basis of the light from the light source 2 is installed.例文帳に追加

光源２の光軸上に配置され、上記光源２からの光からスリット光を形成するためのパターン形成手段３を設ける。 - 特許庁

To prevent false recognition of a chip coordinate correction value due to an unstabilized electrical contact test of an inspection start chip, caused by defective pattern formation in a wafer outermost circumference.例文帳に追加

ウェハ最外周でのパターン形成不備による検査スタートチップの電気接触試験の不安定化によるチップ座標補正値の誤認識を防止する。 - 特許庁

To provide a method for upgrading the throughput of a block copolymer for self-formation by annealing it as used in creating a pattern of manufacturing process, etc. of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造プロセス等のパターン形成に用いられるブロックコポリマーのアニーリングによる自己組織化のスループットを向上できる方法を提供する。 - 特許庁

The exothermic body in which pattern formation has been carried out in advance may be installed and the thickness of the exothermic body may be made uniform by carrying out the sand blast or the dry etching same as the above.例文帳に追加

先にパターン形成した発熱体を設け、上記と同様にサンドブラスト処理又はドライエッチング処理して、発熱体の厚さを均一化しても良い。 - 特許庁

Banks are formed in a predetermined pattern formation area PI on a substrate P, and a conductive membrane EP is formed by discharging liquid drops in a groove between the banks.例文帳に追加

基板Ｐ上の所定のパターン形成領域ＰＩにバンクが形成され、バンク間の溝内に液滴吐出により導電性膜ＥＰが形成される。 - 特許庁

The alignment layer 3, the light selection reflecting pattern layer 4, the hologram formation layer 5 and the reflective layer 6 may be sequentially layered on one surface of the base material 2.例文帳に追加

基材２の片面に配向膜３、光選択反射パターン層４、ホログラム形成層５および反射性層６を順に積層したものでもよい。 - 特許庁

A plurality of position accuracy measurement patterns 16 comprising openings are formed in the circumference of the pattern formation inhibition region 19 within a light-shielding zone 14.例文帳に追加

遮光帯領域１４内のパターン形成禁止領域１９の周囲に、開口部からなる複数の位置精度測定用パターン１６が形成されている。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition suitable for a liquid immersion exposure process in a resist pattern formation and for image development using an organic solvent.例文帳に追加

レジストパターン形成における液浸露光プロセスに好適で、かつ有機溶剤による現像にも適している感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an electroconductive ink that enables formation of a highly fine electrode circuit pattern by a screen printing method and exhibits good electroconductivity and excellent adhesion.例文帳に追加

スクリーン印刷法による高精細な電極回路パターンの形成を可能にし、かつ導電性が良好で密着性に優れる導電性インキを提供する。 - 特許庁

To provide an alkali-soluble silicone resin excellent in weatherability, light resistance and heat resistance, and usable in a photosensitive resin composition enabling fine pattern formation.例文帳に追加

耐候性、耐光性、耐熱性に優れ、微細パターンの形成が可能な感光性樹脂組成物に使用可能なアルカリ可溶性シリコーン樹脂を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the composite substrate includes: a pattern formation processes (S11-S13); an ion implantation process (S14); a bonding process (S15); and a separation process (S16).例文帳に追加

複合基板の製造方法は、パターン形成工程（Ｓ１１〜Ｓ１３）とイオン注入工程（Ｓ１４）と接合工程（Ｓ１５）と剥離工程（Ｓ１６）とを含む。 - 特許庁

The pattern formation defect region is calculated by performing convolution operation of the correspondence relation on the layout used for forming the step portion.例文帳に追加

前記パターン形成不良領域は、前記段差部の形成に用いたレイアウトに対して前記対応関係の畳み込み演算を行うことによって算出される。 - 特許庁

To provide a substrate inspection device and substrate inspection method for reducing the substrate cost and improving the yield in an inspection stage, prior to pattern formation.例文帳に追加

パターン形成前の検査段階において、基板コストの削減と歩留まりの向上を図ることができる基板検査装置および基板検査方法を提供する。 - 特許庁