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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > patternedの意味・解説 > patternedに関連した英語例文

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patternedを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 3853



例文

A lithographic equipment includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁

In the manufacturing method of the thin film transistor comprising the process of patterning at least one element of the thin film transistor (TFT) on an intermediate transfer medium and the process of transferring the at least one patterned element onto a long-length support body, the manufacturing method of the thin film transistor has the process of executing heating treatment to the at least one patterned element.例文帳に追加

薄膜トランジスタ(TFT)の少なくとも一つの要素を中間転写媒体上にパターニングする工程、該パターニングされた少なくとも一つの要素を、長尺支持体上に転写する工程を有する薄膜トランジスタの製造方法において、 前記パターニングされた少なくとも一つの要素に、加熱処理を行う工程を有することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。 - 特許庁

In the post processing method of the resist pattern, a coating film is formed on a substrate having a patterned resist film by using a coating forming agent containing a water-soluble resin, the coating film and the patterned resist film are heated, the coating film is brought into contact with water vapor to expand the coating film, and the coating film is removed.例文帳に追加

本発明に係るレジストパターンの後処理方法では、パターン形成されたレジスト膜を有する基板上に、水溶性樹脂を含有する被覆形成剤を用いて被膜を形成した後、上記被膜及びパターン形成された上記レジスト膜を加熱すると共に、上記被膜に水蒸気を接触させることにより被膜を膨張させ、次いで上記被膜を除去する。 - 特許庁

Dry etching is selectively applied to the first conductive film 35, the second conductive film 37, and the third conductive film 39 to form a first gate electrode composed of the first conductive film 35A and the third conductive film 37A which are patterned, and to form a second gate electrode composed of the second conductive film 37A and the third conductive film 39A which are patterned.例文帳に追加

第1の導電膜35、第2の導電膜37及び第3の導電膜39に対して選択的にドライエッチングを行なって、パターン化された第1の導電膜35A及び第3の導電膜37Aよりなる第1のゲート電極を形成すると共に、パターン化された第2の導電膜37A及び第3の導電膜39Aよりなる第2のゲート電極を形成する。 - 特許庁

例文

The patterned coating film 1 containing a colored particle is formed by applying the coating material once while adjusting a mass ratio of the colored particle 1a to a coating film forming component 1b so that the colored particle does not exist to a depth of 5 μm from the surface of the patterned coating film but exists at the least in a range of 5-100 μm.例文帳に追加

塗膜形成成分1bに対する着色粒子1aの質量比を調節することにより、着色粒子を含んだ模様塗膜1において、前記着色粒子が前記塗膜の表面から5μmの領域には存在せず、5〜100μmの領域には少なくとも存在することを特徴とする、1回の塗装により形成される模様塗膜。 - 特許庁


例文

In a transfer sheet 11 including a support substrate 1, a photocatalyst layer 7 on the support substrate 1, and organic material patterned traces 9r, 9g, 9b as transfer material patterned traces provided on the photocatalyst layer 7, a surface side of the photocatalyst layer 7 is composed of a hydrophilic area 7a that has become of hydrophilic nature by light irradiation to the photocatalyst layer 7 and a hydrophobic area 7b.例文帳に追加

支持基板1と、支持基板1上の光触媒層7と、光触媒層7上に設けられた転写材料パターンとしての有機材料パターン9r,9g,9bを備えた転写シート11において、光触媒層7の表面側は、光触媒層7への光照射によって親水性となった親水性領域7aと疎水性領域7bとで構成されている。 - 特許庁

The exposure phase includes fast switching for the conditioning of the radiation beam to a second beam condition, with the second beam condition which is different from the first beam condition, forming the patterned radiation beam by imparting the radiation beam with the second beam condition with a second pattern in its cross-section, with the second pattern being provided by a patterning device, and projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

露光段階は、放射ビームを、第1のビーム条件とは異なる第2のビーム条件に調整する高速切替えステップと、第2のビーム条件を含む放射ビームに、その断面のパターニングデバイスが提供した第2のパターンを付与することによりパターン形成された放射ビームを形成するステップと、基板のターゲット部分上にパターン形成されたビームを投影するステップとを含む。 - 特許庁

The method of controlling dimensions of structures formed on the substrate using the etching process includes a step 204 of measuring pre-etching dimensions of the respective elements of a patterned etching mask, a step 206 of adjusting the process recipe of the etching process using the results of the pre-etch measurements, and a step 208 of adjusting the process recipe of the etching process, using the patterned etch mask.例文帳に追加

エッチングプロセスを用いて基板上に形成された構造物の寸法を制御する方法がパターン化されたエッチングマスクのそれぞれの素子のエッチング前の寸法を測定するステップ204、前記エッチング前の測定結果を用いてエッチングプロセスのプロセスレシピを調整するステップ206及びパターン化されたエッチングマスクを用いてエッチングプロセスを行い、プロセスレシピを調整するステップ208を有する。 - 特許庁

The method for manufacturing the pellicle patterned layer comprises the steps of providing a substrate having a plurality of partition walls and separately forming a plurality of accommodation spaces between the adjacent partition walls, discharging ink containing a high-boiling point solvent in the plurality of accommodation spaces using at least two nozzles, and solidifying the ink to form the pellicle patterned layer.例文帳に追加

本発明の薄膜パターン層の製造方法は、複数の隔壁を有し、隣接する前記隔壁との間に別々に複数の収容空間が形成されている基板を提供する工程と、少なくとも二つのノズルを用いて、前記複数の収容空間内に高沸点溶剤の含むインクを吐出する工程と、前記インクを固化して、薄膜パターン層を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

例文

To provide a liquid state material forming a highly fine-patterned membrane on a substrate plate simply and inexpensively by removing a solvent, a method for producing a substrate plate having a membrane forming the substrate plate equipped with the highly fine-patterned membrane by using such the liquid state material, and method for producing an electro-optical device and an electronic instrument by using such the method of production.例文帳に追加

溶媒を除去することにより、基板上に高精細なパターンの膜を簡単かつ安価に形成可能な液状材料、かかる液状材料を用いて高精細なパターンの膜を備えた基板を形成することができる膜付き基板の製造方法、および、かかる製造方法を用いた電気光学装置の製造方法および電子機器の製造方法を提供すること。 - 特許庁

例文

The elastic element 130 is arranged on the second surface 110b and further encloses the second patterned metal layer 114, while being brought into contact with the lower mold chase 220 and arranged between it and the substrate 110.例文帳に追加

弾性要素130は、第2表面110b上に配置されるとともに、第2のパターン化金属層114を囲み、下側モールドチェイス220と接触させ、基板110との間に配置される。 - 特許庁

To provide an effective magnetic recording medium manufacturing method for forming a non-magnetic separation areas between magnetic patterns in a short time period and manufacturing a magnetic recording medium such as a discrete track medium or a bit patterned medium.例文帳に追加

磁性パターン間に非磁性の分離領域を短時間で形成することができ、ディスクリートトラック媒体やビットパターンド媒体のような磁気記録媒体を製造するのに有効な方法を提供する。 - 特許庁

A channel region 12 and a gate oxidized film 13 are patterned on a prescribed region on a P-type element region 11 in the substrate of signal- crystal Si, and a gate electrode 14 on them, for example, as shown in Fig. (a).例文帳に追加

(a)に示すように、単結晶Siの基板における例えばP型の素子領域11上の所定領域に、チャネル領域12、ゲート酸化膜13、その上にゲート電極14をパターニングする。 - 特許庁

The entire surface is coated with a photosensitive organic insulating protective film 15 which is patterned, and an opening part 16 is formed at the upper part of the fuse part 13, while an opening part 19 is formed at the upper part of the pad electrode 17.例文帳に追加

全面に感光性の有機絶縁保護膜15を塗布し、パターンニングして、ヒューズ部13の上部に開口部16及びパッド電極17の上部に開口部19を形成する。 - 特許庁

A liquid crystal panel 10 for display has a polarizing plate 15 on the side to be laminated with the patterned retardation plate 20, and the surface of the polarizing plate 15 is coated with an acrylic resin film 16.例文帳に追加

表示用液晶パネル10はパターン化位相差板20との貼り合わせ側において偏光板15を有しており、かつ、偏光板15の表面にアクリル系樹脂膜16が被覆される。 - 特許庁

The sacrificial layer 118 is patterned so that a bulkhead arrangement space R1 in which an ink bulkhead 140A of a bulkhead layer 140 is arranged, and a bump connecting space R2 in which a bump 64 is arranged can be formed.例文帳に追加

そして、犠牲層118をパターニングして、隔壁層140のインク隔壁部140Aが配置される隔壁配置空間R1、及び、バンプ64が配置されるバンプ接続空間R2を構成する。 - 特許庁

In the printed wiring board, an insulating layer 6, a patterned circuit layer 8, and a solder resist layer 20 are sequentially laminated on a base 2.例文帳に追加

基材2上に、絶縁層6とパターン化された回路層8とソルダーレジスト層20とを順次積層してなるプリント配線基板において、前記ソルダーレジスト層は、前記絶縁層の材料と同一材料よりなる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which makes physical properties of a film after curing comparable favorably with those of a film cured at a high temperature, a method for producing a patterned cured film using the resin composition and electronic components.例文帳に追加

硬化後の膜の物性が、高温で硬化したものと遜色ない性能が得られる感光性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたパターン硬化膜の製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition from which a cured film having good film properties even at low temperature is obtained, and to provide a polybenzoxazole film, a method for producing a patterned cured film and electronic components using the resin composition.例文帳に追加

低温でも良好な膜特性を持つ硬化膜が得られる感光性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたポリベンゾオキサゾール膜、パターン硬化膜の製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

With the photosensitive film 47 as a mask, the second metal layer 45 is patterned so as to have a width (W2) narrower by about 1-4 μm than the photosensitive film width (W1) by an isotropic wet etching method ((b) in Fig.5).例文帳に追加

感光膜47をマスクとして第2金属層45を等方性のウェットエッチング方法で感光膜の幅(W1)よりも1μm乃至4μm程度小さな幅(W2)にパターニングする(図5(b))。 - 特許庁

Then a light shielding film 23 is patterned so that the upper parts of the light receiving areas 3R, 3G, 3B are exposed and the upper whole surface of the CCD element 10 except the light receiving areas 3R, 3G, 3B is covered.例文帳に追加

次に、受光領域3R、3G、3Bの上方を露出させ、この受光領域3R、3G、3B以外のCCD素子10の上方全面を覆うように、遮光膜23をパターニングする。 - 特許庁

An amorphous Si thin film in film thickness of 35 nm is formed with reference to a substrate 2, it is patterned to be in a prescribed shape, and then an amorphous Si thin film in a film thickness of 50 nm is formed additionally.例文帳に追加

基板2に対して35nmの膜厚で非晶質Si薄膜を形成し、これを所定形状にパターニングしてから50nmの膜厚で非晶質Si薄膜を更に形成する。 - 特許庁

The liquid repellent layer 12 may be arranged before patterning the resin film 11 or be formed on the surface of the patterned resin film 11 by low-pressure plasma less than 1 Pa after patterning.例文帳に追加

撥液層12は、樹脂膜11をパターニングする前に配置しておいてもよいし、パターニング後、1Paよりも低圧のプラズマによる表面処理で、パターニングした樹脂膜11の表面に形成してもよい。 - 特許庁

To provide a method for patterning a conductive film in which short circuit due to deposition of plating particles can be prevented when a conductive film is patterned by plating, and to provide a process for manufacturing a droplet ejection head.例文帳に追加

メッキによる導電膜パターンの形成時に、メッキ粒子の析出に起因するショートを防止した、導電膜パターンの形成方法、及び液滴吐出ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterned medium wherein servo information is previously written in a manufacturing process and there is no need to write the servo information later, to provide a manufacturing method thereof, a mold thereof and a recording and reproducing device thereof.例文帳に追加

製造過程でサーボ情報が予め書き込まれ、後からサーボ情報を書き込む必要のないパターンドメディア、その製造法、その型材、及びその記録再生装置を提供することである。 - 特許庁

In the magnetic recording medium, a thin film first magnetic layer and a patterned second magnetic layer are continuously provided in a multiple magnetic layer so as to improve the recording density of the recording medium.例文帳に追加

磁気記録メディアの記録密度を向上させるために、薄膜形状の第1磁性層とパターン形状の第2磁性層とが連続して多重磁性層に構成される磁気記録メディアである。 - 特許庁

In the method of manufacturing the optical device, a resist film 3 is patterned on the SiO_2 film 2 so as to satisfy 1.0≤L/H, where H represents the thickness of the SiO_2 film 2 and L represents the thickness of the resist film 3.例文帳に追加

この光デバイスの製造方法では、SiO_2膜2の厚さHとレジスト膜3の厚さとの関係が1.0≦L/Hを満たすようにしてSiO_2膜2上にレジスト膜3をパターン形成している。 - 特許庁

Then filter films 25R, 25G, 25B for transmitting only specific light out of light components received from a light source are respectively formed on the light transmitting film 21 exposed from the lower part of the patterned light shielding film 23.例文帳に追加

その後、このパターニングされた遮光膜23下から露出した光透過膜21上に、光源から受けた光のうち特定の光だけを透過させるフィルタ膜25R、25G、25Bをそれぞれ形成する。 - 特許庁

A low reflecting film 6 and a high reflecting film 10 are respectively separately patterned to one side 4a and the other side 4b of a transparent substrate 4 and the films 6, 10 configure the black matrix.例文帳に追加

低反射膜6と高反射膜10とを、それぞれ透光性基板4の一方面4aと他方面4bとに分けてパターンニングし、当該各膜6、10によってブラックマトリックスを構成した。 - 特許庁

To provide a resin transfer material, free of remaining of a resin layer in unwanted portions and capable of attaining reliable pattern formation, when being patterned after transfer, and capable of improving reliability.例文帳に追加

転写後において、パターニングしたときに、不必要な部分に樹脂層が残存せず、確実なパターン形成を達成することができ、信頼性を向上させることのできる、樹脂転写材を提供すること。 - 特許庁

The BiTe-based thin film is patterned and a c-axis orientation degree which is a ratio of the peak value of a (001) plane to the peak value of a (015) plane in X-ray diffraction is at least 1.0.例文帳に追加

そのBiTe系薄膜は、パターニングされており、かつ、X線回折における(001)面のピーク値と(015)面のピーク値との比であるc軸配向度が、1.0以上であることを特徴とする。 - 特許庁

A first layer conductor 15 and a conductor adhesive layer 16 are laminated and pressed on the first layer insulating base material Li, and the first layer conductor 15 is patterned to form a first layer conductor pattern 15p.例文帳に追加

第1層絶縁基材Liに第1層導体15および導体接着剤層16を積層プレスし、第1層導体15をパターニングして、第1層導体パターン15pを形成する。 - 特許庁

Patterned paper comprises fragments of a safflower dispersed and carried as a pattern forming material in paper, in which CIE chromaticity values, a* is 4 to 30 and b* is 0 or larger, and (b*-10)/a*≤0.5.例文帳に追加

ベニバナ細片を模様形成体として紙中に分散担持せしめた模様紙であって、CIE色度a*値が4〜30の範囲にあり、b*≧0で、且つ(b*−10)/a*≦0.5であることを特徴とする模様紙。 - 特許庁

A conductive film is formed on all the surface, and the conductive film is patterned so as to be electrically connected to the first metal wiring layer 4 whose surface is exposed, and an island-like metal film 6 is formed.例文帳に追加

全面に導電膜を形成し、導電膜が表面が露出した第1の金属配線層4と電気的に接続するように導電膜をパターニングし、島状の金属膜6を形成する。 - 特許庁

When water is applied to the patterned nonwoven fabric, water is absorbed in the thermally embossed area to exhibit a semitransparent state while keeping the opaque state of the non-embossed area to develop the pattern on the fabric.例文帳に追加

この模様の付された不織布に水を含ませることにより、熱エンボス加工領域は、水を吸水して半透明状態を呈し、一方非エンボス加工領域は白色のままであり、模様が浮き出る。 - 特許庁

Thus, the tapered shape of the side face (metal etching shape) of the patterned metal wiring 14 is intensified (the slope of the side face becomes gentle), and thereby the thickness of a passivation protective film covering the bent part 16 is increased.例文帳に追加

これにより、パターニングされた金属配線14の側面(メタルエッチング形状)もテーパー形状が強くなる(側面が寝てくる)ため、屈曲部16を覆うパッシベーション保護膜の膜厚が厚くなる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method wherein an object film formed on a substrate such as a silicon wafer is patterned into a specified shape by using a masking material high in etch resistance.例文帳に追加

高いエッチング耐性を持ったマスク材を用い、シリコンウェハーなどの基板上に形成した被加工膜を所定の形状にパターニングすることが可能となる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a bonding method for mutually bonding two base materials through a bonding film inexpensively patterned into minute shapes and a bonded body equipped with the bonding film bonded by the bonding method.例文帳に追加

2つの基材同士を、低コストで微細な形状にパターニングされた接合膜で接合する接合方法、かかる接合方法で接合された接合膜を備える接合体を提供すること。 - 特許庁

This bandpass filter comprises a base which is made of low-temperature co-fire ceramic and has one or more holes, and a coplanar waveguide which is patterned on the base and covers one or more holes.例文帳に追加

低温同時焼成セラミック製であり、1または1以上の孔を有するベースと、前記ベースの上にパターニングされ、前記1または1以上の孔を覆うコプレーナ導波部と、を備えるバンドパス・フィルタ。 - 特許庁

After an insulating film 21c and a silicon film 12c are patterned onto a semiconductor substrate 10, and a capacity formation section C is formed; a sidewall insulating film 14c is formed on the side of the capacity formation section C.例文帳に追加

半導体基板10上に絶縁膜21c及びシリコン膜12cをパターニングして容量形成部Cを形成した後、容量形成部Cの側面上に側壁絶縁膜14cを形成する。 - 特許庁

An anti-abrasion matte resin layer 5 containing the inorganic anti-abrasion agent 4 and a delustering agent is formed over the entire surface of a base material 1 and a patterned lustrous resin layer 6 is formed on the layer 5 to constitute the decorative material.例文帳に追加

基材1上に無機耐摩剤4及び艶消剤を含有する耐摩耗艶消樹脂層5を全面に設け、その上に模様状の艶出樹脂層6を設けて化粧材を構成する。 - 特許庁

A sheet material 11 in which an electrode member 10 for forming an electrode terminal is patterned and formed is arranged between the first and the second metallic mold half objects, in such a manner that the electrode member is positioned facing the cavity.例文帳に追加

電極端子を形成するための電極部材10をパターン形成したシート材11を、キャビティに面して電極部材が位置するように、第1および第2金型半体の間に配置する。 - 特許庁

To provide a thin film magnetic head having a recording head part capable of efficiently and securely inverting a magnetization direction of an isolated bit of a patterned medium arranged for high-density recording.例文帳に追加

高密度記録のために配置されたパターンドメディアの孤立しているビットの磁化方向を、効率よく、かつ確実に反転させることのできる記録ヘッド部を有する薄膜磁気ヘッドを提供する。 - 特許庁

Each recording area has data area patterns 58, where the shape of magnetic material is patterned and a plurality of servo area patterns 60 which are provided with a prescribed phase in the circumferential direction of the substrate.例文帳に追加

各記録領域は磁性体形状がパターン化されたデータ領域パターン58および基板の円周方向に所定の位相で設けられた複数のサーボ領域パターン60を有している。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a high-definition color conversion substrate having a predetermined film thickness to be patterned preferably and to be produced efficiently without deteriorating the organic molecules or generating an incomplete transfer.例文帳に追加

有機分子を劣化させることなく、かつ転写残りがなく効率的に生産でき、高精細で所定の膜厚を有し、良好なパターニングが可能な、色変換基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

On that substrate 1S, a groove (trench) 6 is patterned which has a depth deeper than that of the p^--type well 3, and a secondary gate electrode 10G1 is provided inside the groove 6 via an insulating film 9.例文帳に追加

その基板1Sには、深さがp^−型ウェル3より深い溝6(トレンチ)がパターニングされており、その溝6の内部に絶縁膜9を介して設けられた第2ゲート電極10G1が設けられている。 - 特許庁

The transparent electrode has a transparent area 52 and an uneven area 52b patterned into many islands and the reflecting electrode is formed on the inter-layer insulation films while being placed on the uneven area.例文帳に追加

透明電極は、透過領域52aおよび多数の島状にパターニングされた凹凸領域52bを有し、反射電極は、凹凸領域に重ねて層間絶縁膜上に形成されている。 - 特許庁

A gate matallic layer is stacked on the dispersion mask and is patterned, so as to form a gate electrode 7 on the opening of the dispersion mask in a self-matching manner to the p+-type gate region 6.例文帳に追加

その拡散マスク上からゲート金属層を堆積させ、これをパターニングすることにより拡散マスクの開口部にゲート電極7をp^+ 型ゲート領域6に対して自己整合的に形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a liquid crystal display with which an alignment layer aligned with liquid crystal molecules can be precisely patterned and formed at a desired pretilt angle on a plastic film.例文帳に追加

プラスチックフィルムの上に、液晶分子が所望のプレチルト角をもって配向される配向膜を精度よくパターン化して形成できる液晶表示装置用電極基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a manufacturing method in which a protective insulating film (flattening film) formed on a pixel circuit can easily be patterned by dry etching, and a display device manufactured by the manufacturing method.例文帳に追加

画素回路上に形成された保護絶縁膜(平坦化膜)をドライエッチングにより容易にパターニングすることができる製造方法、及び、該製造方法により製造された表示装置を提供する。 - 特許庁




  
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