「patterned」に関連した英語例文の一覧と使い方(49ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method and apparatus improving image uniformity and contrast quality in detection of defects in a patterned semiconductor substrate by a charged particle utilization type defect inspection device.例文帳に追加

帯電粒子利用型欠陥検査装置によるパターン形成ずみの半導体基板の欠陥の検出に、画像の均一性およびコントラストの質を改善する方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The silicon layer formed as one continuous wire as well as the Al layer are etched simultaneously when the Al layer is patterned, so that the silicon layer is electrically broken between gate lines.例文帳に追加

シリコン層は、その形成時には１本の連続配線として形成されるが、Al層がパターン形成されるときにAl層と同時にエッチングされて、各ゲート線の間で電気的に断線される。 - 特許庁

Then the piezoelectric thin film 104 is patterned and etched to form a trench 106 for crosstalk prevention and a contact hole 107 for the first electrode 102 at the same time (Fig.2(E)).例文帳に追加

続いて圧電体薄膜１０４のパターニング及びエッチングを行い、クロストーク防止用のトレンチ１０６及び第１の電極１０２とのコンタクトホール１０７を同時に形成する（図２（Ｅ））。 - 特許庁

The lithography apparatus further includes: substrate table configured so as to hold a substrate and a projection system configured to project patterned radiation beams on a target part of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとをさらに含む。 - 特許庁

Next, the metal layer and the carbon layer are patterned in a step S103 so that the carbon layer is formed on two comb-shaped electrodes that are opposingly disposed as interleaved with each other.例文帳に追加

次に、ステップＳ１０３で、金属層および炭素層をパターニングし、交互に入り込んで対向配置された２つの櫛形電極の上に炭素材料の層が形成された状態とする。 - 特許庁

A polysilicon film is deposited also on a scribing line 9 together with the polysilicon for constituting the resistance element, the polysilicon deposited on the scribing line 9 is patterned, and a monitor pattern 7 is formed.例文帳に追加

抵抗素子を構成するポリシリコン膜と共にスクライブライン９上にもポリシリコン膜を成膜し、スクライブライン９上に成膜されたポリシリコン膜をパターニングし、モニタパターン７を形成する。 - 特許庁

By comparing the transmittance or reflectance of a region having completely the same pattern, integrated (microscopic) distribution of the transmittance or the reflectance of the patterned device can be determined.例文帳に追加

全く同じパターンを有する領域の透過率若しくは反射率を比較することにより、パターン化デバイスの透過率若しくは反射率の総合（巨視的）分布を決定することができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic semiconductor element capable of obtaining an organic semiconductor element having an easily patterned organic semiconductor layer without decreasing a mobility of the organic semiconductor layer.例文帳に追加

有機半導体層の移動度を低下させることなく、容易に有機半導体層をパターニングした有機半導体素子を得ることができる有機半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

Alternately, a patterned photoresist may be used to allow for an etching process to selectively etch back the thickness of a spacer which was deposited in a single deposition.例文帳に追加

または、単一の被着物（deposition）中に被着されたスペーサーの厚さをエッチングで選択的に削るためのエッチング処理が可能となるように、パターン成形がなされたフォトレジストを用いてもよい。 - 特許庁

A piezoelectric body precursor film 41' is formed in a predetermined pattern on a lower electrode 32 to crystallize the patterned piezoelectric body precursor film, obtaining a piezoelectric body film 41.例文帳に追加

下部電極３２上に圧電体前駆体膜４１’を所定の形状にパターン形成し、前記パターン形成された圧電体前駆体膜を結晶化させ圧電体薄膜４１を得る。 - 特許庁

The tungsten film 16 and the polycrystalline tantalum film 14 are patterned into a gate electrode 17 and a gate insulating film composed of the tantalum oxide film 14 and the silicon oxide film 15.例文帳に追加

タングステン膜１６および多結晶酸化タンタル膜１４をパターニングしてゲート電極１７および多結晶酸化タンタル膜１４とシリコン酸化膜１５とからなるゲート絶縁膜を形成する。 - 特許庁

The silicon film is patterned (c), and covered with an insulating film (18) for thermal process so that the germanium of the germanium/silicon film 15 is diffused into the silicon film 14, forming a germanium/silicon film 15'.例文帳に追加

シリコン膜をパターニングし(ｃ)、絶縁膜(１８)を被せて熱処理を行いゲルマニウム・シリコン膜１５のゲルマニウムをシリコン膜１４へ拡散させてゲルマニウム・シリコン膜１５′を形成する。 - 特許庁

The projection system has an array of lenses located such that each lens directs a respective portion of the patterned beam towards a respective part of the target portion of the substrate.例文帳に追加

投影システムはレンズのアレイを有し、このアレイは、各レンズが、パターンの形成されたビームのそれぞれの部分を基板のターゲット部分のそれぞれの部分に向けて方向付けるように位置付けられる。 - 特許庁

Then, an antireflection film (silicon nitride film rich in silicon) is formed over the entire surface, and a silicon film 14 is patterned so that a capacitative lower electrode and the gate electrodes of a transistor can be formed.例文帳に追加

次いで、全面に反射防止膜（シリコンリッチなシリコン窒化膜）を形成し、フォトリソグラフィによりシリコン膜１４をパターニングして、容量下部電極及びトランジスタのゲート電極を形成する。 - 特許庁

A first photoresist layer 32 is formed on the substrate 30, thereafter, the first photoresist layer 32 is patterned and, thereby, the alignment mark 33 is formed from the first photoresist layer 32.例文帳に追加

基板３０上に第１のフォトレジスト層３２を形成した後、第１のフォトレジスト層３２をパターニングすることによって第１のフォトレジスト層３２からアライメントマーク３３を形成する。 - 特許庁

When forming an electron emitting source, ITO film 12 is patterned in a desired shape by photolithography and a cathode electrode 12 is made.例文帳に追加

電子放出源の作製に際しては、基板１１上にＩＴＯ膜１２を成膜し、このＩＴＯ膜１２をフォトリソグラフィにより所望の形状にパターニングしてカソード電極１２とする。 - 特許庁

The vicinity of a pie-doughy irregular part formed when a polyimide insulating material is patterned by wet etching is covered with thermosetting resin, photosetting resin or a precursor thereof.例文帳に追加

ポリイミド絶縁材料を湿式エッチングでパターニングする際に生じる、パイ生地状の凹凸部分の近傍を熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂又はそれらの前駆体を用いて被覆する。 - 特許庁

When the photoresist is patterned by using the photomask M, a fine length flat surface RS is formed on the photoresist, among a plurality of opening parts G by the fine length light-shielding part SS.例文帳に追加

フォトマスクＭを用いてフォトレジストをパターニングすると、細長遮光部ＳＳによって、複数の開口部Ｇ間においてフォトレジストに細長平坦表面ＲＳが形成される。 - 特許庁

Subsequently, the gate electrode 8A (word line WL) and the gate electrodes 8B-8D are patterned simultaneously by etching while employing the silicon nitride film 9 and a photoresist film 10 as a mask.例文帳に追加

その後、上記窒化シリコン膜９とフォトレジスト膜１０とをマスクに用いたエッチングで、ゲート電極８Ａ（ワード線ＷＬ）およびゲート電極８Ｂ〜８Ｄを同時にパターン形成する。 - 特許庁

Here is one of the backgrounds of the recent shift from selling the products in various colors, notably in light blue, not to mention the while ones, to selling mainly the patterned products. 例文帳に追加

以前の製品が定番の白色以外に、ライトブルーを始めとした色物の「クラシックパンツ」の製品販売主体から近年は柄物を主体とした販売に変わった背景がここにある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The mnemonics derive from teleprinter conventions that predatedigital computers. The module supplies the following functions, patterned on those in the standard C library:例文帳に追加

これらのニーモニック符号はデジタル計算機より前のテレプリンタにおける慣習から付けられたものです。 このモジュールでは、標準 C ライブラリの関数を雛型とする以下の関数をサポートしています: - Python

To provide a coating surface defects inspecting illuminating method and device which projects a patterned image, which can be inspected with more uniform detection accuracy and effectively on a coating surface as an inspection object.例文帳に追加

より均一な検出精度で且つ効率良く検査可能なパターン像を、検査対象である塗装面に投影する塗装面欠陥検査用照明方法及び装置の提供。 - 特許庁

A stud type electrical connection structure 21 has a stud 51 having a patterned outer face (thread face) and a nut 53 mounted to the stud by swaging/pressing in the radial direction.例文帳に追加

スタッド型電気接続構造２１は、パターンのある外面（ねじ面）を有するスタッド５１と、半径方向にスエージ加工されて押圧されることによってスタッドに取付けられたナット５３を有する。 - 特許庁

In this method for forming a resist pattern, after a positive resist is applied on a substrate 1, a first alignment is performed, thereby obtaining a resist pattern 2a which is patterned in a manner such that lines are arrayed at equal width and intervals.例文帳に追加

基板１の上にポジ型レジストが塗布された後に、第１の露光が行われることにより、等幅かつ等間隔で配列する線列にパターニングされたレジストパターン２ａが得られる。 - 特許庁

The coating liquid is applied and dried on a substrate, and the dried film is exposed, developed, patterned and baked to form the stannic-oxide based undercoat with delicate pattern for selective plating.例文帳に追加

この塗布液を基板上に塗布、乾燥し、該乾燥膜を露光、現像してパターン化し、焼成することにより、繊細にパターン化された酸化錫系選択メッキ下地膜が形成される。 - 特許庁

Moreover, a RIE is performed while using the stopper film 5 as a stopper so as to leave the nitride films 6 on the side walls of the patterned conductive films 3 and to remove the nitride films 6 other than the left nitride films 6 (Fig.2(e)).例文帳に追加

次に、ストッパ膜５をストッパとしてＲＩＥを行って、パターニングされた導電性膜３の側壁に窒化膜６を残して、それ以外の窒化膜６を除去する（図２（ｅ））。 - 特許庁

To provide a wafer flatness measuring device, capable of easily measuring surface steps of a patterned wafer in non-contact/non-destructive manner, and capable of displaying a measurement result real time.例文帳に追加

ウェーハの平坦度測定装置に関し、パターン付きウェーハの表面段差を非接触・非破壊で容易に計測可能にするとともに、測定結果をリアルタイムでの表示を可能にする。 - 特許庁

The core 53 is patterned in a Y shape and those clad 52 and core 53 constitute an input-side optical waveguide 54a and output-side optical waveguides 54b and 54c.例文帳に追加

コア５３はＹ字形にパターニングされており、これらのクラッド５２及びコア５３により、入力側光導波路５４ａ，出力側光導波路５４ｂ，５４ｃが構成されている。 - 特許庁

A voltage sufficient to fully deplete the high-resistivity photosensitive silicon volume of the charge carriers is applied between the low-resistivity backside window and the frontside, that is, a patterned side of the device.例文帳に追加

電荷キャリアの高抵抗率感光シリコン容積を完全に空乏化するに十分な電圧が、低抵抗率裏側ウィンドウと、デバイスのパターン付けされた前側との間に掛けられる。 - 特許庁

Since the sidewall and a part of the upper face of a data line 6a are covered with a reflecting film 44, a center layer 62 is not corroded by an etchant when the reflecting film 44 is patterned.例文帳に追加

データ線６ａの側壁および上面の一部は反射膜４４で覆われているから、反射膜４４をパターニングする際に中央層６２がエッチャントにより侵食されない。 - 特許庁

Thus, the electrode of the chip 10 is patterned to be relocated at a desired position, and a Cu post 15 formed by electrolytically plating at the electrode position relocated by the layer 14.例文帳に追加

ＬＳＩチップ１０の電極が所望の位置に再配置されるようにパターン化され、メタル層１４により再配置された電極位置には電解めっきでＣｕポスト１５が形成される。 - 特許庁

To provide a multi-colored pattern coating composition forming a flat coated film capable of expressing a colorful design by integrating a base color with patterned colors and excellent in weather resistance and a soil- preventing property.例文帳に追加

背景色と模様色が複合して、多彩な意匠感を表現できる耐候性および防汚性に優れたフラットな塗膜を形成することができる多色模様塗料組成物。 - 特許庁

After coating a semiconductor substrate with a CMP cut-off layer, the CMP cut-off layer is patterned to form a CMP cut-off pattern in a shape having an opening for exposing a device separating region.例文帳に追加

半導体基板上にＣＭＰ遮断層を塗布した後にこれをパターニングして素子分離領域を露出させる窓を有する形状のＣＭＰ遮断パターンを形成する。 - 特許庁

The lithographic apparatus further includes a substrate table constructed to hold a substrate, and a projection system configured to project the patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

さらに、リソグラフィ装置は、基板を保持するように構築される基板テーブルと、基板のターゲット部分上にパターン付けされたビームを投影するように配置構成される投影システムとを備える。 - 特許庁

To reduce as much as possible, an amount of residue of a dry film to be left at a part where the dry film is not present in the case where the dry film of an alkali development type is developed and patterned by a liquid developer.例文帳に追加

アルカリ現像型ドライフィルムを現像液で現像してパターン化する場合に、そのドライフィルムが存在しない部分に残るドライフィルムの残渣量を出来る限り低減する。 - 特許庁

The manufacturing method for patterned member which has a patterned insulating member on the substrate is characterized in that it is provided with a process of forming a precursor pattern of the insulating member by performing development after exposing photosensitive paste applied onto the substrate a plurality of times through a mask having a specified pattern and a process of baking the precursor pattern.例文帳に追加

基板上に、パターニングされた絶縁部材を備える部材パターンの製造方法であって、基板上に付与された感光性ペーストを、所定パターンのマスクを介して複数回露光した後、現像して、前記絶縁部材の前駆体パターンを形成する工程と、前記前駆体パターンを焼成する工程と、を備えることを特徴とする部材パターンの製造方法。 - 特許庁

The photosensitive adhesive sheet is used for forming a patterned adhesive film using the method including: a step of bonding the photosensitive adhesive sheet to an adherend so that the photosensitive adhesive film and the adherend become opposite to each other; a step of exposing the photosensitive adhesive film after removal of the substrate; and a step of developing the exposed photosensitive adhesive film to form the patterned adhesive film.例文帳に追加

当該感光性接着シートを、被着体に感光性接着フィルムが被着体側になる向きで貼り付ける工程と、基材を除去してから感光性接着フィルムを露光する工程と、露光された感光性接着フィルムを現像して、パターニングされた接着フィルムを形成させる工程とを含む方法により、パターニングされた接着フィルムを形成するために用いられる。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、基板上のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁

The lithographic device is equipped with an illumination system constituted to adjust an irradiation beam, a supporting body constituted to support a patterning device capable of forming a patterned irradiation beam by setting a pattern on the sectional surface of the irradiation beam, a substrate table constituted to support a substrate, and a projection system constituted to project the patterned irradiation beam to the target of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体と、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを備える。 - 特許庁

The method includes steps of: providing a substrate; forming a barrier layer on the substrate, patterning the barrier layer, and thus exposing a portion of the substrate to form an electrode pattern region; changing the surface property of the substrate in the electrode pattern region to form a visible patterned mark; removing the barrier layer; and using the visible patterned mark as an alignment mark.例文帳に追加

本発明による方法は、基板を提供する段階と、基板に障壁層を形成し、更に障壁層をパターン化して基板の一部を露出させて電極パターン領域を形成する段階と、電極パターン領域の基板の表面特性を変えて、パターン化可視マークを形成する段階と、障壁層を除去する段階と、パターン化可視マークをアラインメントマークとする段階とを含む。 - 特許庁

In the method of producing the patterned crystallized glass article 10, amorphous glass bodies in which the difference of linear expansion coefficient at a temperature of 30 to 380°C between crystalline glass small bodies and the crystalline glass made by crystallizing the crystalline glass bodies is 10×10^-7/K or less are filled into a refractory container, are heated, are fused to one another and deposit crystals to form the patterned crystallized glass article.例文帳に追加

模様入り結晶化ガラス物品１０の製造方法は、結晶性ガラス小体と、結晶性ガラス体が結晶化した後の結晶化ガラスとの３０〜３８０℃における線膨張係数差が１０×１０^−７／Ｋ以下である非晶質ガラス体を、耐火性容器に充填して加熱し、互いに融着させつつ結晶析出させ、模様入り結晶化ガラス物品を成形する。 - 特許庁

In one embodiment, a method for etching chromium includes steps of: preparing a film stack having a chromium layer in a processing chamber; patterning a photoresist layer on the film stack; depositing a conformal protective layer on the patterned photoresist layer; etching the conformal protective layer to expose the chromium layer through the patterned photoresist layer; and etching the chromium layer.例文帳に追加

一実施形態において、クロムをエッチングする方法は、クロム層を有する膜スタックを処理チャンバー内に用意するステップと、膜スタック上でホトレジスト層をパターン化するステップと、パターン化されたホトレジスト層に適合保護層を堆積するステップと、その適合保護層をエッチングして、パターン化されたホトレジスト層を通してクロム層を露出させるステップと、クロム層をエッチングするステップとを備えている。 - 特許庁

To provide a method for flattening a patterned surface, which can precisely, simply and inexpensively flatten the surface of a magnetic layer having patterned recessed and projecting portions and can promote increase in recording density by improving the scanning property and read/write property of a magnetic head by flattening; and to provide a magnetic recording medium and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

パターニングされた凹凸部を有する磁性層の表面をより高精度、簡便かつ低コストに平坦化することができ、平坦化により磁気ヘッドの走査性と読み書き（ｒｅａｄ／ｗｒｉｔｅ）性を向上させることができるようになることで、更に高記録密度化を促進することができるパターン表面の平坦化方法、並びに磁気記録媒体及びその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition that does not generate development residue while maintaining a high residual film ratio even when an aqueous tetramethylammonium hydroxide solution of 2.38 mass% is used as a developer in a patterned film formation step, and can form a patterned film with excellent low dielectric property without impairing physical characteristics of coating films such as light transmittance and solvent resistance even after high temperature baking.例文帳に追加

パターン膜の形成工程において、２．３８質量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を現像液として用いても、高い残膜率を維持したまま、現像残渣がなく、高温ベーキング後においても光透過率、耐溶剤性等の塗膜物性を損なうことなく、低誘電特性に優れたパターン膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The master recording medium 101 includes a substrate 110 including a plurality of servo regions S and a plurality of data regions D, and a magnetic layer 140 formed on each of the servo regions S and patterned in the shape of a servo pattern to be patterned on a magnetic recording medium, wherein regions corresponding to the servo regions S are raised and protruded.例文帳に追加

サーボ領域Ｓとデータ領域Ｄとに区分された複数の領域を有する基板１１０と、サーボ領域Ｓ上に形成されたものであり、磁気記録媒体に形成しようとするサーボパターン形状を磁気転写するようにパターン化された磁性層１４０とを備え、サーボ領域Ｓに対応する領域が陽刻突出されたことを特徴とするマスター記録媒体１０１である。 - 特許庁