| 意味 | 例文 |
point layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2243件
To uniform unevenly distributed ions in the liquid crystal layer caused by the generation of ions at a broken point and pinhole part of a protective film, for example, gate signal lines or the like are exposed on the oriented film and ions are intentionally generated in the crystal layer of the area.例文帳に追加
保護膜の破壊箇所やピンホール部におけるイオンの生成に起因した液晶層内のイオンの偏在を、たとえばゲート信号線等を配向膜に露出させ、その領域の液晶層においてイオンを意図的に発生させる。 - 特許庁
The golf ball includes a center section 10, an intermediate layer 12 and a cover 14, wherein the intermediate layer 12 is made of the composite including an ionomer resin and a rosin material having at least a softening point of approximate 50°C.例文帳に追加
中心部10と、中間層12と、カバー14とを含み、中間層12が、イオノマー樹脂と、少なくとも約50℃なる軟化点を持つロジン材料とを含む組成物から製造したものであることを特徴とする、ゴルフボール。 - 特許庁
To provide a more efficient MAC architecture supporting various physical layer interfaces that can be optimized to satisfy a throughput of 100 Mbps on a service access point of a MAC layer, and to provide related procedures.例文帳に追加
MAC層のサービスアクセスポイントの上に、100Mbpsのスループットを満たすように最適化され得る様々な物理層インタフェースをサポートするより効率的なMACアーキテクチャ、および関連するプロシージャを提供することが望ましい。 - 特許庁
The thickness of the tread rubber layer 11 in a center area y of the crown part 1Y located between the tire equatorial plane CL and the position Q of the middle point between edges 10e of the belt layer 10 located on the outermost circumferential side is substantially uniform.例文帳に追加
タイヤ赤道面CLと最外周側に位置するベルト層10の各エッジ10eとの間の中点の位置Q間に位置するクラウン部1Yのセンター領域yにおけるトレッドゴム層11の厚さは、実質的に均一である。 - 特許庁
The SOI wafer which includes a base wafer and the SOI layer formed on the surface of the base wafer has such a structure that at least a high melting point metal film, the silicon oxide film, and the SOI layer are laminated in order on the base wafer.例文帳に追加
ベースウェーハと表面に設けられたSOI層とを有するSOIウェーハであって、該ベースウェーハ上に、少なくとも高融点金属膜、シリコン酸化膜、及びSOI層が順次積層された構造を有するようにした。 - 特許庁
In this case, a temperature detection means 9 is formed in the vicinity of the entrance of a cooling water layer of the PROX 3, and the temperature of the cooling water in the vicinity of the cooling water layer entrance of the PROX 3 is controlled at a temperature slightly lower than its boiling point.例文帳に追加
ここでは、PROX3の冷却水層入口近傍に温度検出手段9を設け、PROX3の冷却水層入口近傍の冷却水温度を、沸点より僅かに低い温度に制御する。 - 特許庁
A plurality of contact holes (for example, a pair of contact holes 12A and 12B) are provided at each wiring connection part that connects the end of the layer (11B or 11C), including the high-melting point metal wiring and the end of the upper wiring layer 14B.例文帳に追加
高融点金属配線を含む層(11Bまたは11C)の端部と上層配線層14Bの端部を接続する配線接続部ごとにコンタクトホールが複数(例えば、12Aと12B等のペア)で設けられている。 - 特許庁
The referable copolymer comprises a core layer composed of (a) a copolymer having -90°C to 10°C of glass transition temperature, and (b) a shell layer composed of a copolymer having 50°C to 180°C of the glass transition point.例文帳に追加
上記共重合体としては、(α)ガラス転移温度が−90〜10℃の範囲にある共重合体(イ)からなるコア層及びガラス転移温度が50〜180℃の範囲にある共重合体(ロ)からなるシェル層を有するものが好ましい。 - 特許庁
To provide a thin wiring layer capable of avoiding deterioration of luminous efficiency without causing coloring of a transparent conductive film during baking of a dielectric layer made of lead-free glass of a low melting point containing alkaline metal oxide.例文帳に追加
アルカリ金属酸化物を含有する鉛フリー低融点ガラスからなる誘電体層の焼成時での透明導電膜の着色を惹き起こすことなく、発光効率の低下を回避可能な薄膜配線層を提供する。 - 特許庁
The paired solder pads 37 for the electrodes are formed as to pinch the crossing point O1 of diagonal lines 35 on the rear surface 13 of the board, and are electrically connected with a cathode joint conductor layer 24 and an anode joint conductor layer 25.例文帳に追加
一対の電極用ソルダーパッド37は、基板裏面13上において対角線35の交点O1を挟むように配置され、カソード接続部導体層24及びアノード接続部導体層25と電気的に接続される。 - 特許庁
In forming the glass coating film 20, a surface layer 6c of the glass coating film 20 is formed of an outer glass coating film component having a softening point higher than that of an inner glass coating film component positioned on an inner side from the surface layer 6c.例文帳に追加
ガラス塗膜20を形成する際に、ガラス塗膜20の表層6cを、当該表層6cよりも内側に位置する内側ガラス塗膜成分の軟化点よりも高い軟化点を持つ外側ガラス塗膜成分で構成する。 - 特許庁
In a state that the skin 4 is set to one mold 31, an adhesive 34 (injection resin material) heated to the softening point of the second powder 15 or above is injected on the back skin layer 6 to fill the region above the back skin layer 6.例文帳に追加
この表皮4を一方の成形型31にセットした状態で裏面側表皮層6上に、軟化点が第2パウダー15の軟化点以上に加熱した接着剤34(注入樹脂材)を注入して充填する。 - 特許庁
At the interface between the welt part 1 and the hollow sealing part 3, a thin layer 7 constituted by an ethylene copolymer of which melting point is lower than that of a construction material is placed, and a similar thin layer 8 is placed along the outer side of a core material 5.例文帳に追加
ウエルト部1と中空シール部3との界面には、構成材料よりも融点が低いエチレン−酢酸ビニル共重合体からなる薄層7が設けられ、芯材5の外側の面に沿って、同様の薄層8が設けられる。 - 特許庁
The layer 3 contains particles 4 such as nylon particles, urethane particles and silica particles, and the average particle size of the particles 4 is set to be equal to or under the ten-point average roughness (Rz) of the outer peripheral rough surface of the layer 2.例文帳に追加
また、上記コート層3は、ナイロン粒子,ウレタン粒子,シリカ粒子等の粒子4を含有しており、その粒子4の平均粒径は、上記ゴム層2の外周粗面の十点平均粗さ(R_Z )以下に設定されている。 - 特許庁
Thus, a part of the air layer 33 accompanying the side surface does not increase a flow speed of the air layer 33 accompanying the outer periphery by entering all the way into the outer peripheral grinding surface, and the coolant can be surely supplied to the grinding point.例文帳に追加
これにより、側面随伴空気層33の一部が外周研削面に回り込んで外周随伴空気層33の流速を速くすることがなくなり、クーラントを研削点に確実に供給することができる。 - 特許庁
Number 1 shows a substrate 2, shows SiO_2 layer, 3 shows a Si layer, 4 and 5 show lattice point rows, a stands for lattice constant and W stands for the distance between centers of adjacent lattices of both sides interposing a lattice defect therebetween in a case where a row of lattice is simply eliminated.例文帳に追加
1は基板、2はSiO_2層、3はSi層、4、5は格子点列、aは格子定数、Wは単純に格子を1列抜いた場合の欠陥を挟んだ両側の最近接格子の中心間距離である。 - 特許庁
To provide a moisture permeable, waterproofing fabric having both a preventive effect on such a stuffiness under high humidity as is a problem point in moisture permeable, waterproofing raw materials and an exfoliation durability of a resin layer.例文帳に追加
透湿防水素材の問題点である高湿度下での蒸れの防止効果と樹脂層の剥離耐久性とを併せ持つ透湿防水性布帛を提供する。 - 特許庁
The buried layer 4 is formed of the material, whose melting point is higher than a processing temperature in a thermal process carried out for the board 1 in which the alignment mark 10 is provided.例文帳に追加
埋め込み層4は、位置合わせマーク10が設けられた基板1に対して行われる熱工程でのプロセス温度よりも高い融点を有する材料からなる。 - 特許庁
A cover layer 85 made of a metal lower in melting point than copper, e.g., an Sn-Cu alloy is formed on the outer periphery of one obtained, by copper-plating the connection member 80 to be zinc die cast.例文帳に追加
結合部材80を亜鉛ダイカストに銅メッキしたものの外周に、銅よりも融点の低い金属、例えばSn−Cu合金の被覆層85を形成する。 - 特許庁
More, specifically, a synthetic fiber woven fabric layer with a melting point of 200°C or higher and weight per unit area of 20-350 g/m2 is provided in glass fiber reinforced resin.例文帳に追加
さらに詳しくは、ガラス繊維強化樹脂に融点200℃以上、目付け重量20g/m^2〜350g/m^2の合成繊維織物の層を設ける構成とする。 - 特許庁
The contact-point pin 20 of a conductive layer 5 on a conductive path communicating with outside is connected to the printed circuit board 1, while it is not connected electrically to the shielding layers 3 and 7.例文帳に追加
導電層5の、外部へ通じる導電経路の接点ピン20は、プリント回路基板1に接続されており、遮蔽層3,7に電気接続することなく配置されている。 - 特許庁
It is set so that a carbon is added to a region of an external base layer 51, and a formation of a point defect is prevented as occurring at the time of a boron injection for the external base.例文帳に追加
外部ベース層51の領域にカーボンを添加し、外部ベース用ボロン注入時に発生する点欠陥生成を防止するように設定したものである。 - 特許庁
If possible, it is recommended to maintain a difference between the thickness of an approximate middle point between the adjacent wires of the cover insulating layer 2 and the thickness of a part on them to be in a range from 1 to 5 μm.例文帳に追加
好ましくは、カバー絶縁層2の、隣り合う配線間の略中点に位置する部分と、配線上に在る部分との厚みの差を1〜5μmとする。 - 特許庁
To provide a method for controlling a manufacturing process of a semiconductor device by which a failure point can be easily specified and a failure mode of open and short circuits be specified for the layer.例文帳に追加
不良箇所の特定が容易にできるとともにオープン/ショートの不良モードの層別(区別)ができる半導体装置の製造工程管理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a multi-focal objective lens capable of forming a focal point on the information recording surfaces of two high density optical disks of different standards mutually different in protection layer thickness.例文帳に追加
保護層厚みが互いに異なる2つの規格の高密度光ディスクの情報記録面上に焦点を形成することが出来る多焦点対物レンズを提供する。 - 特許庁
At this point, the masking oxide film 1 on the bottom of a trench 3 is left without being etched, and the masking oxide film 1 thus left serves as a defense layer against etching and prevents a substrate 10 from damage.例文帳に追加
このとき、トレンチ3底部のマスク用酸化膜1をエッチングせずに残し、エッチングに対する防御層としての役割を果たすため基板10への損傷はない。 - 特許庁
To provide a laminated body comprising three or more resin layers whose intermediate layer has a pyrolysis point lower than the baking temperatures of the two outer layers sandwiching it, and provide its manufacturing method and manufacturing equipment.例文帳に追加
中間層の熱分解点が、該中間層を挟む2つの外層の焼成温度より低い3層以上の樹脂層からなる積層体を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device in which an increase in interface resistance caused by the natural oxidation of a high melting point silicide layer can be prevented while relaxing restrictions on a manufacturing process.例文帳に追加
製造プロセス上の制約を緩和しつつ、高融点金属シリサイド層の自然酸化による界面抵抗の増大を抑制できる半導体装置を提供する。 - 特許庁
Furthermore, the surface layer 73 has ten-point surface roughness Rz of preferably 10 μm to 20 μm, and an average distance Sm between the irregularities is preferably 10 μm to 20 μm.例文帳に追加
また、表層73の十点表面粗さRzは10μm〜20μmの範囲、凹凸の平均間隔Smは10μm〜20μmの範囲が好ましい。 - 特許庁
To provide a polishing device capable of stably detecting an end point of polishing, and enabling polishing with high quality without being affected by noise or a wiring pattern on a lower layer.例文帳に追加
ノイズや下層の配線パターンによる影響を受けることなく、安定して研磨終点を検出し、高品質の研磨を実現することができる研磨装置を提供する。 - 特許庁
The piezoelectric film 88 is formed in the glass region at the temperature of not more than a glass transition point T_g of the shape-memory polymer used for the binding force buffer layer 86.例文帳に追加
この圧電膜88の成膜時の温度は、拘束力緩衝層86に用いられる形状記憶ポリマーのガラス転移点T_g以下のガラス領域にして成膜を行う。 - 特許庁
To provide an Al alloy film to achieve a good contact characteristic with a Si film or a film containing Si as a main component without formation of a high-melting point barrier metal layer.例文帳に追加
高融点バリアメタル層を形成すること無く、Si膜又はSiを主成分とする膜と良好なコンタクト特性を実現するAl合金膜を提供する。 - 特許庁
The porous film has a porous polypropylene film and, formed at least one side thereof, a coating layer having a melting point of 100-150°C and having a coefficient of dynamic friction between the coating layers of 0.1-0.4.例文帳に追加
多孔性のポリプロピレンフィルムの少なくとも片面に、融点が100〜150℃のコート層を設け、かつ、コート層同士の動摩擦係数を0.1〜0.4とする。 - 特許庁
Since the substrate 1 and the layer 4 are then both transparent or translucent, a profile of the marker 3 can be always observed from a time point of starting the flattening.例文帳に追加
このとき、SiC基板1もSiC層4も共に透明もしくは半透明であることから、平坦化の開始時点から常にマーカー3の輪郭が見えた状態になる。 - 特許庁
In this case, the thickness (d) of the second layer is set at a thickness in which the light-emitting point 62 of the laser diode 6 is higher than the light-receiving surface of the element 7.例文帳に追加
ここで第2層の厚みdは、レーザダイオード6のリア側発光点62がモニタ用光検出素子7の受光面よりも高くなるような厚みとする。 - 特許庁
The three-dimensional cross-point type variable resistance memory array has a current detector 32, connected with a bit line to read memory bits of a memory cell 30 and is configured as a multi-layer memory array.例文帳に追加
3次元クロスポイント型可変抵抗メモリアレイは、メモリセル30の記憶ビットを読み出すビット線と接続する電流検知器32を備え、多層メモリアレイとして構成される。 - 特許庁
In the view that the bubbles and pores are never generated in the adhesive layer, the number of the extended lines from the coating center point 41 is preferably 8 or more.例文帳に追加
ここで、接着剤層に気泡や空隙を一層生じさせないようにする観点からは、塗布中心点41から延出した線を8本以上とするのが好ましい。 - 特許庁
The curved part 95 of the conduction holding part of a plating jig is made to abut against the common conductor layer 16, and then conduction by two-point containing is obtained as usual.例文帳に追加
この共通導体層16にメッキ用治具の導通保持部の湾曲部95を当接させることで、従来同様に2点接触状の導通が得られる。 - 特許庁
Here, the pair of flanges 33 and 34 are preferably made of nonmagnetic materials from the point of view of making uniform a developer layer formed on a sleeve surface.例文帳に追加
ここで、スリーブ表面に形成される現像剤層を均一にする観点から、一対のフランジ33,34は非磁性材料で形成されているものが望ましい。 - 特許庁
The protecting layer 13 constitutes a simple substance having a melting point higher than that of Sn, such as C, Si, or W, and contains an element not forming a compound with Sn.例文帳に追加
保護層13は、C,SiあるいはWなどのSnよりも高い融点を有する単体を構成し、かつSnと化合物を生成しない元素を含んでいる。 - 特許庁
A preferable form of the adhesive/heat-resistant layer (A) is an olefin polymer (a) having a melting point ≥75°C (in conformity to JIS K7121) and a storage modulus at 150°C ≥10^3 Pa.例文帳に追加
接着・耐熱層(A)の好ましい態様は、融点(JIS K7121に準拠)75℃以上、150℃の貯蔵弾性率が10^3Pa以上のオレフィン重合体(a)である。 - 特許庁
To provide a laser beam machining apparatus, in which cracks propagated from a metamorphosed layer as a start point are made to be induced in between the metamorphosed layers when forming a plurality of metamorphosed layers.例文帳に追加
複数の変質層を形成する際に変質層を基点として伝播する亀裂が変質層間に誘導されるようにしたレーザー加工装置を提供する。 - 特許庁
The high-melting-point metal layer 17 absorbs excessive heat generated during the laser trimming, so the expansion of an opening 16A of the interlayer insulating film 16 is suppressed.例文帳に追加
この高融点金属層17は、レーザートリミングの際に生じる余分な熱を吸収するため、層間絶縁膜16の開口部16Aの広がりを抑えることができる。 - 特許庁
The outside crucible 30 includes an outside crucible body 31 formed from carbon and a coating layer 32 covering the inner wall of the outside crucible body 31 and formed of a high-melting point material.例文帳に追加
外側坩堝30は、炭素からなる外側坩堝本体31と、外側坩堝本体31の内壁を覆い、高融点材料からなるコーティング層32とを含んでいる。 - 特許庁
Consequently, when the upper conductive structure layer is depressed, the coordinates of a depressed point are accurately acquired via the both touch panel structures of the digital resistance type and analog resistance type.例文帳に追加
これにより、該上導電構造層が押圧される時、押圧ポイントの座標がデジタル抵抗式とアナログ抵抗式の両タッチパネル構造を経由して正確に取得される。 - 特許庁
The substituting liquid has a temperature higher than the solidifying point of the liquid, and removes only a liquid present in a pattern upper layer without spoiling flowability of the liquid.例文帳に追加
この置換液は液体の凝固点より高い温度を有しており、液体の流動性を損なわないままパターン上層に存在する液体のみ排除する。 - 特許庁
In a circuit board 1, the average linear expansion coefficient (A) of a first insulator layer 21 in the substrate in-plane direction between 25°C and glass transition point is 3-30 ppm/°C.例文帳に追加
回路基板1は、第一絶縁層21の25℃〜ガラス転移点における基板面内方向の平均線膨張係数(A)が30ppm/℃以下、3ppm/℃以上である。 - 特許庁
To provide a lead-free glass composition having ≤600°C softening point and excellent light transmissivity suitable for forming glass for a dielectric layer of PDP or the like.例文帳に追加
600℃以下の軟化点を有し、優れた光透過性を有するPDPの誘電体層用ガラスの形成などに好適な無鉛ガラス組成物を提供することにある。 - 特許庁
A function block 1 whose function is divided for each transmission layer divides a signal from a transmission line and terminates them and generates PM data and integrates the data for each end point.例文帳に追加
伝送レイヤ毎に機能分割された機能ブロック1は、伝送路からの信号を分割して終端し、PMデータを作成して積算することを端点毎に行う。 - 特許庁
The invention relates to a transmitting method of the trace request from a management end point device for a network where a plurality of switch devices relaying layer 2 frames among a plurality of ports are connected.例文帳に追加
レイヤ2フレームを複数のポート間で中継する複数のスイッチ装置が接続されたネットワークに対して、管理端点装置からのトレース要求の送信方法に関する。 - 特許庁
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