「processing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a recessed/projecting pattern forming method capable of surely processing a desired recessed/projecting pattern on a resin layer even if wide recessed parts are included in the recessed/projecting pattern, and an information recording medium manufacturing method using the recessed/projecting pattern forming method.例文帳に追加

凹凸パターンに幅が広い凹部が含まれる場合であっても所望の凹凸パターンに樹脂層を確実に加工できる凹凸パターン形成方法及びこれを用いた情報記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit capable of preventing a dummy pattern from bending and preventing a part of the dummy pattern from missing even if a mechanical stress is applied to the dummy pattern during CMP processing and the pattern layout method thereof.例文帳に追加

ＣＭＰ処理においてダミーパターンに機械的ストレスが作用しても、ダミーパターンが折れ曲がったり、ダミーパターンの一部が欠落したりすることを抑制できる半導体集積回路およびそのパターンレイアウト方法を提供する。 - 特許庁

The processing circuit further selects an approximating geometric pattern, such as a sphere, ellipsoid, ellipse, or circle, determines an error metric of the data points relative to the approximating pattern, adjusts the pattern to minimize the error, thereby acquiring a best fit pattern.例文帳に追加

処理回路は、更に、球、楕円体、楕円、又は円のような近似用幾何学パターンを選択し、近似用パターンに対するデータ点の誤差測定距離を求め、誤差を最小にするようにパターンを調節し、最良適合パターンを得る。 - 特許庁

A dither pattern selection unit 312 is provided in a ROM 304 and selects a dither pattern most suitable for a screen pattern among a plurality of dither patterns and a dither processing unit 313 carries out a dither process of designated colors with the dither pattern to generate color data.例文帳に追加

ディザパターン選択部３１２はＲＯＭ３０４に格納され、複数のディザパターンの中から網掛けパターンに最適なディザパターンを選択し、ディザ処理部３１３は指定された色をディザパターンによりディザ処理しカラーデータを生成する。 - 特許庁

The pattern detection processing program generation system inputs an attack pattern description file 22 in which an attack pattern to be detected is described by a pattern sequence constituted of normal expression modified by a syntax element specifier.例文帳に追加

このパターン検出処理プログラム生成システムは、構文要素指定子によって修飾された正規表現で構成されるパターンシーケンスで検出対象の攻撃パターンを記述した攻撃パターン記述ファイル２２を入力する。 - 特許庁

In the variation pattern decision processing, when the second variation pattern decision table is set, a variation pattern whose variation time is short is easily decided compared with the case that the first variation pattern decision table is set.例文帳に追加

変動パターン決定処理においては、第２変動パターン決定テーブルがセットされている場合は、第１変動パターン決定テーブルがセットされている場合よりも、変動時間が短時間である変動パターンを決定しやすくなっている。 - 特許庁

To accurately detect abnormal tissue pattern candidates by mutually compensating for disadvantage of the processing with a morphology filter and the disadvantage of the processing with a Laplacian filter.例文帳に追加

モフォロジーフィルタによる処理およびラプラシアンフィルタによる処理の欠点を相補に補って、正確に異常陰影候補を検出する。 - 特許庁

During reflow processing, the film thickness and/or the line width of a resist pattern is measured by means of a sensor 59 and the end point of reflow processing is detected.例文帳に追加

リフロー処理の間、センサ５９によりレジストパターンの膜厚および／または線幅を測定し、リフロー処理の終点検出を行う。 - 特許庁

To provide an image processing method which can reduce a computation amount accompanying detection processing for a feature pattern in an image and improve robustness.例文帳に追加

画像内の特徴パターンの検出処理に伴う計算量を削減できる及びロバスト性を上げる画像処理方法を提供する。 - 特許庁

A gray scale processing section 8 applies dither processing to an area of data whose pattern is discriminated and gives the resulting data to an image output device 10.例文帳に追加

階調処理部８では、絵柄判定された領域に対してデイザ処理を施して、画像出力装置１０にデータを送る。 - 特許庁

A pre-processing part 1-2 executes normalization processing to a character pattern segmented and binarized for every character concerning the position and size.例文帳に追加

前処理部１−２は、一文字毎に切り出されて２値化された文字パターンに対して、位置及び大きさについて正規化処理を行う。 - 特許庁

An edge detecting part 9 executes an edge detecting processing for emphasizing a watermark pattern part to the image by applying this maximum value filter processing.例文帳に追加

エッジ検出部９はこの最大値フィルタ処理を施こした画像に対し透かしパターン部分を強調するエッジ検出処理を行なう。 - 特許庁

Further, size of an unit pixel is measured by a dimensional measurement processing (S5) and rectangular division of the pattern data is executed by a rectangular division processing (S6).例文帳に追加

また、寸法計測処理Ｓ５によって単位画素の大きさ計測し、矩形分割処理Ｓ６でパターンデータの矩形分割を行う。 - 特許庁

To provide an information processing apparatus, an information processing method and a program, enabling effective use of an extracted vein pattern.例文帳に追加

抽出した静脈パターンを効果的に利用することが可能な情報処理装置、情報処理方法およびプログラムを提供する。 - 特許庁

After the correction, photolithography processing and etching processing are carried out to form the predetermined pattern on the film to be processed on the wafer (steps S9, S10).例文帳に追加

補正後、フォトリソグラフィー処理とエッチング処理を行い、ウェハ上の被処理膜に所定のパターンを形成する（ステップＳ９、Ｓ１０）。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus capable of maintaining readability and security by contriving it that a ground pattern cannot easily be removed by image processing.例文帳に追加

地紋を画像処理で容易に取り除けなくすることで、可読性やセキュリティを維持することのできる画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing system capable of highly accurately controlling the line width of a pattern formed on a substrate.例文帳に追加

基板に形成するパターンの線幅を精度よく制御することができる基板処理装置および基板処理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a laser plotting device which performs the reduction magnification correction processing of a plotting pattern to the size fluctuation of a processing object with high accuracy.例文帳に追加

処理対象物の寸法変動に対する描画パターンの縮倍補正処理を高精度に行うレーザ描画装置を提供する。 - 特許庁

To reduce the load of processing of a main control substrate and at the same time to enhance the degree of freedom of processing of a pattern control substrate.例文帳に追加

主制御基板の処理の負担を軽減化すると共に、図柄制御基板の処理の自由度を高めることを目的とする。 - 特許庁

To solve the problem that a screen growth pattern is changed and image quality is changed when a rotation processing is applied to an image obtained through screen processing.例文帳に追加

スクリーン処理により得られた画像に対して回転処理を行うと、スクリーン成長パターンが変わり、画質が変化してしまう。 - 特許庁

A receiver side applies descramble processing, by using the same scramble pattern e3 as that of a transmitter side, and an output of the descramble processing is used for discriminating the carrier.例文帳に追加

受信側で送信側と同一のスクランブルパターンｅ３でデスクランブル処理を行って、この出力でキャリアの判断をなす。 - 特許庁

This printer is equipped with a recognition processing part 10 for recognizing and processing a plurality of inhibition pattern built in a manuscript image when illegal printing is to be prevented.例文帳に追加

違法プリントを防止したい原稿画像に組み込まれた複数の禁止パターンを認識処理する認識処理部１０を備えた。 - 特許庁

Since each of the inspection sections 10 is provided with the data processing section 12, the data processing time of the pattern inspection device 1 can be shortened, as compared with the conventional inspection device.例文帳に追加

各検査部１０がデータ処理部１２を備えているので、従来の検査装置よりもデータ処理の時間を削減できる。 - 特許庁

To perform proper processing of the substrate by previously changing a process gas supply periodic pattern which may adversely affect the processing result.例文帳に追加

プロセス結果に悪影響を及ぼす処理ガス供給周期パターンを予め変更しておき、基板に対する適切な処理を行う。 - 特許庁

METHOD FOR DATA PROCESSING OF DESIGN PATTERN OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM WITH DATA PROCESSING PROGRAM RECORDED THEREON例文帳に追加

半導体集積回路の設計パターンのデータ処理方法、及びデータ処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

An image processing section 13 performs comparison (pattern matching) by a predetermined image processing using the imaging signal generated by the ultraviolet light L_UV.例文帳に追加

画像処理部１３が、この紫外光Ｌ_UVによる撮像信号を用いて、所定の画像処理による比較（パターンマッチング）を行う。 - 特許庁

To provide a substrate processing method in which an organic film pattern which is increased in area in a dissolution reflow processing can be shrunk.例文帳に追加

溶解リフロー処理によりその面積が拡大した有機膜パターンを収縮することが可能な基板処理方法を提供する。 - 特許庁

The patterns of a plurality of products are respectively imaged before pattern matching inspection is performed and, after the position correcting processing is performed with respect to a plurality of the taken-in pattern images, superposing processing and the binarization processing related to the brightness levels in the respective pixels of the superposed pattern image are performed to obtain the reference image used in the inspection of the product pattern.例文帳に追加

パターンのマッチング検査を行う前の複数の製品から、パターンをそれぞれ撮像し、取り込まれた複数のパターン画像に対して位置補正処理を行った後、重ね合わせ処理を行い、重ね合わされたパターン画像の各画素において輝度レベルに関する２値化処理を行い、製品パターン検査に用いる基準画像を得る。 - 特許庁

The development processing method includes processing liquid supply processes S14-S16 of supplying a processing liquid, where a hydrophobic agent for hydrophobizing the resist pattern is diluted by hydrofluoroether onto the substrate where the rinse liquid is supplied, after the resist pattern is developed; and processing liquid removal steps S18, S19 for removing the processing liquid from an area on the substrate to which the processing liquid has been supplied.例文帳に追加

レジストパターンが現像された後、リンス液が供給された基板上に、レジストパターンを疎水化する疎水化剤がハイドロフルオロエーテルで希釈されてなる処理液を供給する処理液供給工程Ｓ１４〜Ｓ１６と、処理液が供給された基板上から、処理液を除去する処理液除去工程Ｓ１８、Ｓ１９とを有する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which can easily form a contact connected to a pattern of a processing film on an upper layer of the pattern of the processing film serving as a line-and-space pattern less than an exposure resolution limit of the photolithography method.例文帳に追加

フォトリソグラフィ法の露光解像限界未満のラインアンドスペースパターンとなる被加工膜のパターンの上層に、その被加工膜のパターンと接続するコンタクトを容易に形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

An irradiation pattern control unit 20d controls the ultraviolet rays light-emitting part 21e in accordance with the irradiation pattern determined in response to a processing result in a game processing part 20c and emits light in the light-accumulating paint painted on the card 12 in the irradiation pattern.例文帳に追加

照射パターン制御部２０ｄは、ゲーム処理部２０ｃにおける処理結果に応じて決定された照射パターンに応じて紫外光発光部２１ｅを制御し、カード１２に塗布された蓄光塗料を照射パターンで発光されるようにする。 - 特許庁

Also, in a pattern output process 24, there is found the output pattern of the processing step from the output pattern table, based on the step number stored in a memory, to generate an output signal (control output) to the stepping type processing unit.例文帳に追加

またパターン出力プロセス２４においてはメモリに記憶された工程番号に従って出力パターンテーブルから該当処理工程の出力パターンを求め、工程歩進形処理装置に対する出力信号（制御出力）を生成する。 - 特許庁

The image processing apparatus uses at least part of a document image for a processing object, applies low resolution processing to the processing object image, generates a pattern image on the basis of the low resolution image obtained by the low resolution processing, and composes the pattern image with the document image to generate a composite document image.例文帳に追加

ドキュメント画像の少なくとも一部の画像部分を処理対象として、当該処理対象画像部分を低解像度処理し、この低解像度処理により得られた低解像度画像に基づいてパターン画像を生成し、当該パターン画像をドキュメント画像に合成して、合成ドキュメント画像を生成する画像処理装置である。 - 特許庁

To provide an efficient processing method and its device that realize uniform processing without bluntness of the pattern border area and can perform plural pattern processing at the same time in implementing deposition processing or etching processing of prescribed patterns using the focusing ion beam device.例文帳に追加

本発明の目的課題は、集束イオンビーム装置を用いて所定パターンのデポジション加工またはエッチング加工を施す場合に、パターン境界領域の鈍りが出ない均一な加工を実現し、複数のパターン加工を同時に実行出来る効率的な加工方法並びにその装置を提供することである。 - 特許庁

By a first processing for creating an operation pattern corresponding to a heat load pattern provided as a condition by employing the running cost as a parameter, and correction of the operation pattern by changing constraints of the electric power demand regarding the operation pattern created in the first processing, an operation pattern capable of further reducing the running cost is searched for.例文帳に追加

ランニングコストをパラメータとして採用し、条件として与えられた熱負荷パターンに対応する運転パターンを作成する第１処理と、第１処理によって作成された運転パターンに対して電力デマンドの制約を変更して前記運転パターンを修正することで、ランニングコストを更に削減可能な運転パターンを探索する。 - 特許庁

In the user side sewing system 2, it is instructed for pattern editing (S10) and the server side computer 6 performs the editing processing of pattern data (pattern display data and pattern sewing data) concerning the embroidery pattern of the object to be sewed, which are read from the HD 78, based on the instruction (S29).例文帳に追加

ユーザ側縫製システム２で模様編集の指示を行うことができ（Ｓ１０）、サーバ側コンピュータ６では、その指示に基づいて、ＨＤ７８から読出された縫製対象の刺繍模様の模様データ（模様表示データと模様縫製データ）に編集処理（Ｓ２９）が施される。 - 特許庁

When detection pattern data is obtained by a pattern detecting section 44, a dot extracting section 46 and a mask processing section 48, a data extracting section 42 for extracting pattern data based on a pattern image according to copy control information stores the detected pattern data in a buffer memory 56.例文帳に追加

複写制御情報に応じたパターン画像に基づいたパターンデータを抽出するパターンデータ抽出部４２では、パターン検出処理部４４、網点抽出処理部４６及びマスク処理部４８によって検出パターンデータを得ると、この検出パターンデータをバッファメモリ５６に蓄積する。 - 特許庁

A three-dimensional image processing part causes a series of picture images to be displayed in order according to a pattern of action randomly selected by lottery by a counter of a CPU from four patterns of action stored in a work RAM 23: a running pattern 71; an eating pattern 72; an overlooking pattern 73; and a turnabout pattern 74.例文帳に追加

３次元画像処理部は、ワークＲＡＭ２３に記憶されている、走るパターン７１、食べるパターン７２、見渡すパターン７３、および振り向くパターン７４の４つの動作パターンのうち、ＣＰＵのカウンタによってランダムに抽選された動作パターンに応じて一連の絵柄画像を順に表示させる。 - 特許庁

A pattern such as the profile line of the assembled component is extracted from the fuzzy image in a profile line extracting part 423, and the extracted pattern is collated with a standard pattern stored preliminarily in a standard pattern storage part 426, in a pattern matching processing part 424, to calculate a conformity rate between the both patterns.例文帳に追加

更に輪郭線抽出部４２３でボケ画像から組付部品の輪郭線などのパターンが抽出され、パターンマッチング処理部４２４でこの抽出パターンを標準パターン記憶部４２６に予め記憶された標準パターンと照合して両パターンの一致率が算出される。 - 特許庁

When a variation pattern random number value is newly stored, the game state of when the variation pattern random number value is referred to in a variation pattern determining processing is determined in advance, and a variation pattern is determined in advance based on the previously determined game state and the variation pattern random number value.例文帳に追加

変動パターン用乱数値が新たに記憶されたときには、その変動パターン用乱数値が変動パターン決定処理で参照されるときの遊技状態を事前に判定し、事前に判定された遊技状態と変動パターン用乱数値とに基づいて、事前に変動パターンを決定する。 - 特許庁

When an input image density is within the medium density region in a density discrimination processing step (S140), a dot generation pattern of already quantized surrounding pixels in the vicinity of a target pixel is compared with a dot pattern discrimination matrix, the dot generation pattern is classified into a dot generation pattern, a dot non-generation pattern, and other patterns and the dot generation is processed (S150).例文帳に追加

濃度判定処理工程（S140）で入力画像濃度が中濃度域の場合、注目画素近傍の既に量子化された周辺画素のドット発生具合とドットパターン判定マトリックスを比較し、発生パターン、非発生パター、それ以外のバターンに分けてドット発生を処理する（S150）。 - 特許庁

To provide a pattern processing method and a pattern processing apparatus capable of directly processing a membrane with a high degree of accuracy by irradiating a light pervious to a mask between a light source and a substrate to the membrane on the surface of the substrate and at the same time, capable of precisely masking and processing a large-sized substrate with a required minimum sized-mask.例文帳に追加

光源と基板との間のマスクを透過した光を基板表面の薄膜に照射し、薄膜を直接高精度に加工できると共に、必要最小限の大きさのマスクで大型サイズの基板も適切にマスクしつつ加工できるパターン加工方法及び加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern matching method for processing voice recognizing pattern matching without increasing the capacity and processing amount of a memory for storing cumulative distances, and also to provide a voice recognition system, and a program.例文帳に追加

累積距離を格納するメモリの容量・処理量を増大させることなく音声認識のパターンマッチング処理を可能とするパターンマッチング方法及び音声認識システム並びにプログラムの提供。 - 特許庁

By varying the threshold of binarization processing before pattern matching according to the base level of a picture, a satisfactory picture processing result capable of satisfactorily executing pattern matching for interpolation for improving resolution is obtained.例文帳に追加

パターンマッチングの前の２値化処理のしきい値を、画像の下地レベルに応じて可変することで、解像度を高めるための補間のためのパターンマッチングを良好に行える良好な画像処理結果が得られる。 - 特許庁

A trench pattern 4b is formed in an insulation film 4 for processing on a base substrate 1, and a conductive material film 5 is formed on the insulation film 4 for processing so as to fill the trench pattern 4b.例文帳に追加

下地基板１上の加工用絶縁膜４に溝パターン４ｂを形成し、溝パターン４ｂ内を埋め込む状態で加工用絶縁膜４上に導電性材料膜５を形成する。 - 特許庁