「processing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide substrate processing apparatus and substrate processing method which can prevent the occurrence of water marks when washing and drying a substrate and can also prevent the falling of a pattern formed on the substrate.例文帳に追加

基板を洗浄、乾燥する際のウォーターマークの発生と当該基板に設けられたパターンの倒れの発生を抑制する基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

A second compression processing section 61c encodes a repetitive pattern of the code data included in the code data group by second run length coding to generate image data whose compression processing is finished.例文帳に追加

第２の圧縮処理部６１ｃが、コードデータ群に含まれるコードデータの繰り返しパターンを、第２のランレングス符号化により符号化して圧縮処理済み画像データを生成する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus capable of cleaning the surface of a substrate well while minimizing damage on a pattern formed on the surface of the substrate.例文帳に追加

基板表面に形成されたパターンへのダメージを抑制しながら基板表面を良好に洗浄処理することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a processing liquid capable of suppressing pattern collapse of a fine metal structure such as a semiconductor device or a micromachine, and to provide a method for producing a fine metal structure by using the processing liquid.例文帳に追加

半導体装置やマイクロマシンといった金属微細構造体のパターン倒壊を抑制しうる処理液及びこれを用いた金属微細構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

Image data (bit map data) of the photomask pattern are fetched into the computer by an image input processing (S1) and image data of RGB are converted to density data by a density conversion processing (S2).例文帳に追加

フォトマスクパターンの画像データ（ビットマップデータ）を画像入力処理Ｓ１によってコンピュータに取り込み、ＲＧＢの画像データを濃度変換処理Ｓ２によって濃度データに変換する。 - 特許庁

To obtain a substrate thermal processing device and a substrate thermal processing method capable of enhancing uniformity of a film thickness of a coating film on a substrate or pattern line width uniformity.例文帳に追加

基板上の塗布膜の膜厚の均一性またはパターン線幅均一性を向上させることができる基板熱処理装置および基板熱処理方法を提供することである。 - 特許庁

Whether the release execution flag is on or not is decided by processing at S31, and separated processing for selecting a variation pattern is performed under different conditions on the basis of the decided result.例文帳に追加

Ｓ３１の処理によって放出実行フラグがオンであるか否かが判断され、その判断結果に基づいて異なる条件で変動パターンを選定する別々の処理が行われる。 - 特許庁

Thereafter, the PEB processing is carried out at the corrected heating temperature, a light exposure processing is carried out based on the corrected light exposure quantity, and the predetermined resist pattern is formed on the wafer (step S10).例文帳に追加

以後、補正された加熱温度でＰＥＢ処理を行うと共に、補正された露光量で露光処理を行い、ウェハ上に所定のレジストパターンを形成する（ステップＳ１０）。 - 特許庁

To partially change the recording granularity of a directory based on an access pattern from a host, and to reduce processing based on a recorded access range or processing to manage the directory.例文帳に追加

ホストからのアクセスパターンに基づいてディレクトリの記録粒度を部分的に変更し、記録されたアクセス範囲に基づく処理またはディレクトリを管理する処理を軽減することを可能とする。 - 特許庁

Further, when a pattern disabling the execution of the processing flow appears on the network in the process of simplification, the compiler 2 decides it is impossible to execute the processing flow and the result is shown to a user.例文帳に追加

さらに、コンパイラ２は、単純化の課程で、ループ等、処理フローを実行不可能にするパターンがネットワークに現れた場合、処理フローが実行不可能性であると判定し、ユーザに示す。 - 特許庁

The information processing part 94a of a control unit 94 performs an image processing based on the detection signal to obtain a pattern of the diffracted light from the micropattern part 100a.例文帳に追加

制御部９４の情報処理部９４ａにおいては、その検出信号に基づいて画像処理を行い、微細パターン部分１００ａからの回折光のパターン形状を得る。 - 特許庁

The stripe is clipped with clip processing 5 to be made into the layout data 6 in stripe unit, and the operation processing 7 and the format conversion 8 are performed, and the pattern data 9 in stripe unit are formed.例文帳に追加

ストライプをクリップ処理５でクリップして、ストライプ単位のレイアウトデータ６とし、演算処理７およびフォーマット変換８を行って、ストライプ単位のパターンデータ９を作成する。 - 特許庁

To provide a plasma treatment apparatus and a plasma treatment method capable of facilitating the fine processing of a fine pattern for a sample having a large diameter, and capable of improving a selection ratio at the time of the fine processing.例文帳に追加

大口径の試料について微細パターンの精密な加工が容易で、また、微細加工時の選択比も向上させたプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method which can remove contaminants adhering to a substrate while preventing the generation of damage such as collapse of finer pattern.例文帳に追加

微細化の進んだパターンの倒壊のようなダメージの発生を防いで、基板に付着した汚染物質を除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

Image data of superposing a plurality of patterns is generated by performing processing of superposing the pattern data by an image forming control part 30 under the control of an image control CPU (central processing unit) 303.例文帳に追加

画像制御用ＣＰＵ３０３の制御下で画像生成制御部３０５により図柄データを重ね合わせる処理を行い、複数の図柄が重ねられた画像データを生成する。 - 特許庁

To provide a method for processing a molding die for a diffraction optical element wherein high accuracy of relative positioning between a positioning mark and a diffraction pattern can be attained and thus processing work load can be reduced.例文帳に追加

位置合わせ用マークと回折パターンとの相対位置関係の精度が高く、これらの加工手間を低減できる回折光学素子成形金型の加工方法を提供する。 - 特許庁

One or more computer virus check devices 1 separate from a host CPU 101 are provided for executing pattern matching processing with high processing load during the computer virus check.例文帳に追加

ホストＣＰＵ１０１とは別に１つ以上のコンピュータウイルス検査装置１を備え、これによりコンピュータウイルスの感染有無の検査処理において処理負荷の高いパターンマッチング処理を実行する。 - 特許庁

To provide an image processing program and an image processing apparatus that can composite a pattern usable with an electronic pen even with a monochrome document such that it can be reliably read with the electronic pen.例文帳に追加

モノクロの原稿であっても、電子ペンで利用可能なパターンを当該電子ペンで確実に読み取れるように合成することができる画像処理プログラム及び画像処理装置の提供。 - 特許庁

To provide a natural language processor, a natural language processing method, and a natural language processing program for enhancing the precision of an analysis result in a syntax analysis for utilizing pattern rules.例文帳に追加

パターン規則を利用する構文解析での解析結果の精度を高めることができる自然言語処理装置、自然言語処理方法及び自然言語処理プログラムを提供する。 - 特許庁

In a halftone processing part 10, the N-ary processing based on the predetermined constraint information is applied to the calculated scan duty and a dot pattern to be a formation object is prepared.例文帳に追加

ハーフトーン処理部１０８では、該算出された走査Ｄｕｔｙに対し、予め定められた制約情報に基づくＮ値化を施して形成対象となるドットパターンを作成する。 - 特許庁

In the case that a copy protected image (violation) is detected by pattern recognition, transmission processing is stopped, and an end command is transmitted to the printer 20 to stop print processing on the side of the printer 20.例文帳に追加

また、パターン認識にて印刷禁止画像（違反）を検出すると、送信処理を中止するとともに、プリンタ２０へ終了コマンドを送信し、プリンタ２０側の印刷処理を中止させる。 - 特許庁

Multi-value encoding using information of a dither matrix used for the screen processing is performed on an image having been subjected to the screen processing, and after the multi-value encoded image is rotated, a screen pattern is restored using the multi-value code.例文帳に追加

スクリーン処理された画像を、スクリーン処理に用いたディザマトリクスの情報を用いて多値コード化し、多値コード化した画像を回転した後に、多値コードからスクリーンパターンを復元する。 - 特許庁

A second half-tone processing unit 110 executes binarization processing on the calculated scan duty based on predetermined constraining information and generates a dot pattern serving as an object for formation.例文帳に追加

第２ハーフトーン処理部１１０では、該算出された走査Ｄutyに対し、予め定められた制約情報に基づく２値化を施して形成対象となるドットパターンを作成する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional model generation device capable of reducing development processing and arithmetic processing by simplifying pattern data to be preliminarily input to reduce the data quantity.例文帳に追加

本発明の課題は、予め入力しておく図形データを簡素化でき、データ量が軽減され、展開処理、演算処理を軽減できる三次元モデル生成装置を提供することにある。 - 特許庁

When the detection processing and the correction processing are performed with small loads, for example, during recording, a resolution used for reading an inspection pattern is set to be lower than the case that the processing can be performed without having small loads, for example, at a down-time before recording.例文帳に追加

記録中などの不良記録素子の検出及び補正に負荷をかけずに行う場合は、記録前のダウンタイムなどの負荷をかけずに行うことが可能な場合よりも、検出パターンの読み取り解像度を低くする。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus, an image processing method, an image processing program, and a recording medium for switchably controlling whether to change image data on the basis of authentication information of a user when a pattern of an original image is detected.例文帳に追加

原稿画像のパターンを検知した場合に使用者の認証情報に基づいて、画像データを変更するか否かを切り替えるよう制御する画像処理装置、画像処理方法、画像処理プログラムおよび記録媒体を提供する。 - 特許庁

When two or more kinds of image processing (area analysis, character section vectorization, pattern section vectorization, etc.) are performed on the input image, an image suitable for each image processing is generated prior to execution of the image processing.例文帳に追加

本発明では、入力画像に対して複数種類の画像処理（領域解析処理、文字部ベクトル化処理、図画部ベクトル化処理など）を行う場合、各画像処理を実行する前にそれぞれの画像処理に適した画像を生成する。 - 特許庁

When it is approximate, a rotating processing part 116 performs the processing of rotating the image data for a prescribed angle corresponding to the dot structure, and an information superimposing processing part 118 superimposes the array of the information embedding pattern on the rotated image data.例文帳に追加

近似している場合に、回転処理部１１６が画像データを網点構造に応じて所定角度回転する処理を行い、情報重畳処理部１１８が、情報埋込パターンの配列を回転した画像データに重畳する。 - 特許庁

To provide a surface processing method for enabling plasma to be generated at a desired location in an easy construction to perform surface processing at a desired location, and to provide a surface processing apparatus, a pattern forming substrate, a method for manufacturing an electrooptical device, and an electrooptical device.例文帳に追加

プラズマを簡単な構成で所望の箇所に発生し所望の箇所に表面処理ができる表面処理方法、表面処理装置、パターン形成用基板、電気光学装置の製造方法、電気光学装置を提供する。 - 特許庁

A dummy substrate to be used for alignment processing is carried from an exposure unit to a substrate processing device, immediately before or immediately after alignment processing has been carried out for adjusting an exposure position of a pattern image in the exposure unit, corresponding to liquid immersion exposure.例文帳に追加

液浸露光対応の露光ユニットにおいてパターン像の露光位置を調整するアライメント処理を行う直前または直後に、アライメント処理に使用するダミー基板を露光ユニットから基板処理装置に搬送する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus, image processing method, image processing program and recording medium in which visibility of plotting elements in an original image can be kept appropriate when superimposing a predetermined pattern on the original image.例文帳に追加

原稿画像に所定のパターンを重畳させる際に、原稿画像における描画要素の視認性を適切に保つことのできる画像処理装置、画像処理方法、画像処理プログラム及び記録媒体の提供を目的とする。 - 特許庁

On the other hand, when the dot pattern addition processing division 208 determines that the sheet is a backing sheet, it does not add the dots to the image data, but supplies the image data, which has been supplied from an intermediate processing division 207, to the PWM processing division 209 as it is.例文帳に追加

一方、ドットパターン付加処理部２０８は、用紙が裏紙であると判断すると、ドットを画像データに付加せずに、中間調処理部２０７から供給された画像データをそのままＰＷＭ処理部２０９に供給する。 - 特許庁

In a first special pattern variation processing, the CPU of a main substrate reads respective random number values and performs a big winning judging processing when a second big winning under-execution flag is not set and the variation of a first special pattern can be started.例文帳に追加

第１特別図柄変動処理において、主基板のＣＰＵは、第２大当り実行中フラグがセットされておらず、かつ、第１特別図柄の変動を開始することができる状態であれば、各乱数値を読み出して大当り判定処理を行う。 - 特許庁

The color image forming apparatus includes a phase control means for changing the phase of a pattern image forming position for every rotating cycle of a rotating body 5, regarding the pattern image forming position between papers on the rotating body 5, that is, in a gap between an image processing area on a preceding page and an image processing area on a succeeding page.例文帳に追加

先行ページの画像処理エリアと後行ページの画像処理エリアとの間となる回転体５上の紙間におけるパターン画像の形成位置について、その位相を回転体５の回転周期毎に異ならせる位相制御手段を備える。 - 特許庁

To inhibit that the pattern, squeezing pattern or the like are lengthened by too much tension applied to a skin just before the pressure bonding processing end when carrying out the pressure bonding processing of the skin on the surface of a core material by mold clamping of pressure bonding top and bottom molds while applying tension to the skin.例文帳に追加

表皮にテンションをかけながら圧着上下型の型締めにより、芯材の表面に表皮を圧着加工する際、圧着加工終了間際において、表皮に加わる過度のテンションで表皮の柄模様、絞模様等が伸ばされることを防止する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus, image forming apparatus, image processing method, computer program, and recording media which can prevent the detection accuracy of a designated pattern which is detected from image data read from a manuscript from being degraded by a ground tint pattern when the manuscript is duplicated.例文帳に追加

複製時に、原稿から読み取った画像データから検出される所定パターンの検出精度が、地紋パターンによって低下することを防止することが可能な画像処理装置、画像形成装置、画像処理方法、コンピュータプログラム及び記録媒体を提供する。 - 特許庁

The image processor has: an operation unit for giving an instruction for executing the scan and the decoding of an original with a code pattern; and a unit for switching scanner setting and image processing setting to exclusive setting for code pattern processing when being instructed by the operation unit.例文帳に追加

符号パターンつき原稿のスキャンとデコードを実行する指示を与えるための操作手段と、前記操作手段で指示されたときにスキャナ設定と画像処理設定を符号パターン処理専用の設定に切り替える手段とを持つことを特徴とする。 - 特許庁

A SYNC signal addition and correction processing section 8 receives a SYNC timing signal generated by a SYNC timing generator 9, imbeds the SYNC signal to a modulation output of the phase modulator 7 to generate a synchronous pattern and to apply correction processing to the synchronous pattern.例文帳に追加

ＳＹＮＣ信号付加＆補正処理部８は、ＳＹＮＣタイミング生成器９で生成されたＳＹＮＣタイミング信号を受けて、位相変調器７の変調出力にＳＹＮＣ信号を埋め込んで同期パターンを生成すると共に、同期パターンを補正処理する。 - 特許庁

After a turning correcting part 20 adjusts the direction of the card 100 by 90°, a segment processing part 22 segments the image pickup data corresponding to the card 100, and a pattern comparing part 26 performs comparison processing of the image data with a registered pattern.例文帳に追加

その後、回転補正部２０によってカード１００の向きを９０度調整した後、切り出し処理部２２によってカード１００に対応する撮像データの切り出しが行われ、パターン比較部２６によってこの撮像データと登録パターンとの比較処理が行われる。 - 特許庁

An MFP 100 applies an averaging pattern to an image to be processed in an averaging processing portion 14 and periodically carries out averaging processing for replacing each of pixel values of a pixel group corresponding to the above averaging pattern with an average value of those pixel values.例文帳に追加

ＭＦＰ１００は、平均化処理部１４において処理対象画像に対して平均化パターンを適用し、当該平均化パターンに対応する画素群の各画素値をそれら各画素値の平均値に置換する平均化処理を周期的に実行する。 - 特許庁

Thus, at the time of magnifying the source image, a magnification processing is performed for an inconspicuous pattern which is hard to identify from the view point of the vision characteristics of the human being while keeping it inconspicuous and the magnification processing of emphasizing an edge is performed for a conspicuous pattern which is easy to identify.例文帳に追加

これにより、原画像の拡大に際し、人間の視覚特性の観点から識別し難く目立ち難いパターンについては目立ちに難いまま拡大処理が行われ、識別し易く目立つパターンについてはエッジを強調する拡大処理が行われる。 - 特許庁

Consequently, the pattern of the resist mask for processing the shape of the (p) layer or (n) layer of the top layer is formed to be a size smaller than the pattern of the resist mask for processing the shape of the (i) layer though a mask having the same shape is used.例文帳に追加

上記構成により、同一の形状を有するマスクを用いながらも、最上層のｐ層或いはｎ層の形状を加工するためのレジストマスクのパターンを、ｉ層の形状を加工するためのレジストマスクのパターンよりも、１回り小さく形成することができる。 - 特許庁

To provide an image processing program and an image processing apparatus that suppress a decrease in document picture quality resulting from composition of a pattern usable with an electronic pen, and also suppresses a waste of toner in printing of a pattern-composed image on a form.例文帳に追加

電子ペンで利用可能なパターンを合成することによる原稿画質の低下を抑制し、パターンを合成した画像を用紙に印刷する場合におけるトナーの無駄な消費を抑制することができる画像処理プログラム及び画像処理装置の提供。 - 特許庁

A server displays an image that prompts to select one load pattern of a plurality of load patterns shown by load pattern data stored in an HDD on a screen of an information processing device when there is access through a communication line from the information processing device.例文帳に追加

サーバは、情報処理装置から通信回線を介したアクセスがあった場合、情報処理装置の画面に、ＨＤＤに記憶している負荷パターンデータにより示される複数の負荷パターンのうち、一つの負荷パターンの選択を促す画像を表示させる。 - 特許庁

To achieve a high aspect ratio and microfabrication of an uneven structure by improving a PR selection ratio in substrate plasma processing for forming, on a surface of a sapphire substrate, the uneven structure corresponding to a mask pattern by executing the plasma processing on the sapphire substrate on which the mask pattern is arranged.例文帳に追加

マスクパターンが配置されたサファイア基板に対して、プラズマ処理を行い、サファイア基板の表面にマスクパターンに応じた凹凸構造を形成する基板のプラズマ処理において、ＰＲ選択比を向上させて、凹凸構造の高アスペクト比化や微細化を実現する。 - 特許庁