「processing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

The expression pattern is one or more definition descriptions designating specific language expressions on natural language processing.例文帳に追加

表現パターンとは、自然言語処理上の特定の言語表現を指定するような一つ以上の定義記述である。 - 特許庁

The substrate processing is performed by changing a gas flow rate depending on an aspect ratio of the pattern on the substrate.例文帳に追加

その基板処理において、基板上のパターンのアスペクト比に対応して、気体流量を変更して処理を行う。 - 特許庁

To provide a supercritical processing apparatus, etc., which suppress a pattern collapse, and has a high throughput and a long maintenance period.例文帳に追加

パターン倒れの発生を抑えると共に、スループットが高く、メンテナンス周期の長い超臨界処理装置等を提供する。 - 特許庁

The transparent thermoplastic resin sheet may be subjected further to a decoration processing with an indentation pattern 5, a topcoat layer or the like.例文帳に追加

透明熱可塑性樹脂シートが更に、凹凸模様５やトップコート層７等による装飾処理が施されていても良い。 - 特許庁

The lottery processing for the big win judgment mode is carried out when the pachinko balls validly win the special pattern starter slot.例文帳に追加

パチンコ球が特別図柄始動口に有効に入賞したときには大当り判定モードの抽選処理が行われる。 - 特許庁

At the time of compression processing, the bit map font is decomposed into parts and data defining the pattern of parts is shared between parts and between fonts.例文帳に追加

圧縮処理はビットマップフォントをパーツ分解し、パーツ間、フォント間でパーツのパターンを定義するデータを共有する。 - 特許庁

The image processing apparatus detects the copy-protection pattern of specific color and specific shape included in image data.例文帳に追加

画像処理装置は、画像データに含まれる、特定色および特定形状を有する複写禁止パターンを検出する。 - 特許庁

The water pattern of a one-shot region is formed at a semiconductor wafer by executing exposure processing using the first mask 16.例文帳に追加

第１マスク１６を使った露光処理を行うことで半導体ウェハに１ショット領域のウェハパターンを形成する。 - 特許庁

After the film formation, the heating resistor film and the electrode film are passed through etching processing together, whereby a predetermined electrode pattern is formed.例文帳に追加

この製膜後、発熱抵抗体膜と電極膜とを一緒にエッチング処理して、所定の電極パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing device for a ceramic multilayer substrate that improves processing precision of a pattern formed using a droplet.例文帳に追加

液滴を用いて形成したパターンの加工精度を向上させたセラミック多層基板の製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a ceramic multilayer substrate that improves processing precision of a pattern formed using a droplet.例文帳に追加

液滴を用いて形成したパターンの加工精度を向上させたセラミック多層基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The wafer pattern of the one-shot region is formed at the semiconductor wafer by executing exposure processing using the second mask 20.例文帳に追加

第２マスク２０を使った露光処理を行うことで半導体ウェハに１ショット領域のウェハパターンを形成する。 - 特許庁

Fusuma-size torinoko paper with suminagashi processing (staining method by which Sumi or a pigment is dropped onto water surface, and the appearing pattern is transferred to paper or cloth) was favorably received and even exported around 1897. 例文帳に追加

明治30年（1897年）ころには襖判鳥の子紙に、墨流し加工して好評を得て、輸出までしている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

An image processing device 32 processes an image signal provided from the solid imaging element 30 to measure the position of the pattern.例文帳に追加

画像処理装置３２は、固体撮像素子３０から出力される画像信号を処理してパターンの位置を測定する。 - 特許庁

A processing system 100 obtains a dot pattern and background information according to user's instructions and prepares definition information.例文帳に追加

処理システム１００は、利用者による指示に従って、ドットパターン及び背景情報を取得し、定義情報を作成する。 - 特許庁

To display processing contents of a job ticket so as to be easily understood by a user according to a display pattern stored beforehand.例文帳に追加

ジョブチケットの処理内容を、予め記憶された表示パターンに従ってユーザにとってわかりやすく表示する。 - 特許庁

A syntax pattern group composed of rules for performing output of registration data based on a pattern matching condition is classified according to the complicatedness of rules and set as a plurality of syntax pattern groups, and syntax pattern matching analysis processing is executed while successively applying the syntax pattern groups in ascending order of the complicatedness of rules.例文帳に追加

パターンマッチ条件に基づき登録データの出力を行なうルールから構成される構文パターン集をルールの複雑度に応じて区分して、複数の構文パターン集として設定し、ルールの複雑度の低い構文パターン集から、ルールの複雑度の高い構文パターン集を、順次適用して構文パターンマッチ解析処理を実行する。 - 特許庁

The pattern inspection method includes a step (S12) of processing design data for an inspection pattern based on information dependent on an illumination condition of illumination used to inspect the inspection pattern, a step (S14) of generating reference data for the inspection pattern from the processed design data, and a step (S15) of comparing data of an actually formed inspection pattern with the reference data.例文帳に追加

披検査パターンの設計データを、披検査パターンの検査に用いる照明の照明条件に依存した情報に基づいて加工する工程（Ｓ１２）と、加工された設計データから披検査パターンの参照データを生成する工程（Ｓ１４）と、実際に形成された披検査パターンのデータと参照データとを比較する工程と（Ｓ１５）、を備える。 - 特許庁

This pattern formation method further includes: a step of applying the inverted resin material onto the substrate after irradiating the upper part of the first pattern with the ultraviolet light; a step of removing the first pattern after applying the inverted resin material and forming a second pattern including the inverted resin material; and a step of processing the substrate using the second pattern as a mask.例文帳に追加

さらに、このパターン形成方法は、紫外線の照射後に、前記基板上に前記反転樹脂材料を塗布する工程と、前記反転樹脂材料の塗布後に前記第１パターンを除去し、前記反転樹脂材料を含む第２パターンを形成する工程と、前記第２パターンをマスクとして、前記基板を加工する工程と、を備える。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device provided with an etching process capable of applying a pattern work, uniform in the surface and excellent in accuracy without depending upon the roughness and fineness of a processing pattern.例文帳に追加

加工パターンの疎密に依存することなく面内均一に精度良好なパターン加工行うことが可能なエッチング工程を備えた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve picture quality by using a pattern obtained by a rotary processing operation based on a basic threshold matrix pattern and using threshold matrixes whose types are substantially multiple compared to a conventional technology.例文帳に追加

基本の閾値マトリクスパターンを基に回転処理操作によって得られるパターンを用い、従来技術よりも実質的に多種類の閾値マトリクスを使用することにより高画質化を図る。 - 特許庁

Then, by trimming-processing at least one of the first resistance pattern 51 and the second resistance pattern 52, the resistance value between the conductive segments 22 is set to a desired value.例文帳に追加

そして、第１の抵抗パターン５１及び第２の抵抗パターン５２のうちの少なくとも一方をトリミング加工することにより、各導電セグメント２２間の抵抗値を所望の値に設定する。 - 特許庁

A ready-to-win state is invariably denied in the ready-to-win determination data 132B, thereby removing a variation pattern when an unready-for-win state arises in the battle mode and processing for deciding the variation pattern.例文帳に追加

リーチ判定用データ１３２Ｂでは、必ずリーチ無しとなるため、バトルモードではリーチハズレとなる場合の変動パターンや変動パターンを決定するための処理が削除できる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method in which processing accuracy of a pattern is improved by improving the uniformity of drying state of a functional liquid body, and a droplet discharge apparatus.例文帳に追加

機能性液状体の乾燥状態の均一性を向上させることによりパターンの加工精度を向上させたパターン形成方法、及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

To easily form a virtual solid figure pattern (quasi solid figure pattern) with a stereoscopic effect without complicate processing and without using a specific material and equipment.例文帳に追加

煩雑な工程によることなく、また特別の材料、装置を用いることなく、簡単に、且つ立体感の大きい仮想的な立体図形模様（擬似立体図形模様）を形成する。 - 特許庁

To provide a natural language pattern generation device that generates a natural language pattern by identifying an unknown component unit in an input sentence and appropriately processing the unknown component unit.例文帳に追加

入力文中の未知構成単位を同定し、その未知の構成単位に対して適切な処理を行い自然言語パターンを生成する自然言語パターン生成装置を提供する。 - 特許庁

To enhance pattern measurements and the like that are the processing capabilities of wafers by permitting the pattern measurements and observation of wafers of several kinds of wafer sizes by use of one kind of wafer holder.例文帳に追加

一種類のウェーハホールダで、ウェーハサイズが数種類のウェーハのパターン計測、及び観察を可能にし、ウェーハの処理能力であるパターンの計測等の向上を図ることにある。 - 特許庁

At the time of starting a special pattern game by the reception of a special pattern game command, in a fixed case such as the start from a customer waiting state, a restoration control setting processing for the reference position of the accessory is performed.例文帳に追加

特図ゲームコマンドの受信により特図ゲームを開始させるとき、客待ち状態からの開始などの一定の場合には、役物の基準位置の復帰制御設定処理を行う。 - 特許庁

Moreover, when image data is the half tone, an image processing with the use of a distribution pattern of a 'lateral arrangement' different from the above distribution pattern is carried out, thereby reducing the generation of the texture.例文帳に追加

さらに、画像データが中間調の場合は、前記振りまきパターンとは異なる「横並び配置」の振りまきパターンを用いて画像処理を施すことにテクスチャーの発生を軽減する。 - 特許庁

In this instance, it is judged whether the pattern is formed under a condition where fluctuation on density is generated from a plurality of the data and such a pattern as this is extruded from the processing for obtaining the adjusted value.例文帳に追加

この際、前記複数のデータから、濃度むらが生じた状態でパターンが形成されているかを判定し、そのようなパターンについては調整値取得の処理から除外させる。 - 特許庁

In discharge performance setting processing, whether the variation pattern of holding data for executing a discharge performance is the variation pattern for executing a relief performance is determined (step S812).例文帳に追加

放出演出設定処理では、放出演出を実行する保留データの変動パターンが、救済演出を実行する変動パターンであるか否かを判定する（ステップＳ８１２）。 - 特許庁

The main control CPU outputs the pattern specification command through the communication line of the performance controlling transmission buffer after outputting the variation pattern specification command by an output processing.例文帳に追加

そして、主制御用ＣＰＵは、出力処理にて、変動パターン指定コマンドを出力した後、図柄指定コマンドを演出制御用送信バッファの通信線を介して出力する。 - 特許庁

An information processing apparatus generates a function representing a sinusoidal curved surface as standard pattern information on a luminance distribution of a calibration image obtained by imaging a checker pattern.例文帳に追加

情報処理装置により、チェッカーパターンが撮影された校正用画像の輝度分布に関する標準パターン情報として、正弦波状の曲面を表す関数が生成される。 - 特許庁

The processing liquid for forming the pattern due to the chemically amplified resist composition contains a resin soluble in an organic solvent and the organic solvent, and the method for forming the resist pattern using it is provided.例文帳に追加

有機溶剤に可溶な樹脂と有機溶剤とを含有する化学増幅型レジスト組成物によるパターン形成用の処理液、及びそれを用いたレジストパターン形成方法。 - 特許庁

A correction value is generated based on the detected fixed pattern, the fixed pattern is corrected using the correction value, and interpolation of the detecting pixel is performed by a pixel interpolation processing part at the same time.例文帳に追加

そして、検出された固定パターンに基づいて補正値を生成し、該補正値を用いて固定パターンを補正すると同時に、画素補間処理部で該検出用画素の補間を行う。 - 特許庁

To easily cope with change in arrangement, etc., by separating arrangement itself of pattern strings and a pattern itself of a dictionary from a processing flow.例文帳に追加

本発明は、パターン列の配置自体と辞書のパターン自体とを処理フローから切り離すようにして、配置の変更などにも容易に対応できるようにすることを目的としている。 - 特許庁

If the 1st master pattern is disconnected or disappeared when a single pixel is contracted in the 1st master pattern, the pixel contraction processing is discontinued.例文帳に追加

第１のマスタパターン中の画素を１画素分収縮処理することにより、第１のマスタパターンにパターンの断線あるいは消滅が発生する場合は、画素の収縮処理を中止する。 - 特許庁

Furthermore, the image processing apparatus of the present invention stores the dither pattern data arrayed on the front column of each row of the dither pattern while matching the data with a word boundary on the memory space of the threshold storage memory.例文帳に追加

更に、本発明の画像処理装置によれば、ディザパターンの各行の最前列に配置されるディザパターンデータを閾値格納メモリのメモリ空間上のワードバウンダリに合わせて格納する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus and a control method thereof for extracting optional information expressed in a camouflage pattern from read image data by reading a forgery suppression ground pattern comprising camouflage patterns for expressing the optional information.例文帳に追加

任意の情報を表現するカモフラージュ模様で構成された偽造抑止地紋を読み取り、読み取られた画像データから、カモフラージュ模様で表現された任意の情報を抽出する。 - 特許庁

To provide an image processor for performing processing such as various logical arithmetic operations by setting an area where any pattern is not present between adjacent patterns in a tiling pattern function.例文帳に追加

タイリングパターン機能において、隣り合うパターン間にパターンが存在しない領域を設けることができ、種々の論理演算などの処理を可能とした画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a game machine for reducing a processing burden to a pattern image, and capable of perpetuating interest of a game player by displaying a movement of more pattern images.例文帳に追加

絵柄画像に対する処理負担を軽減するとともに、より多くの絵柄画像の移動を表示して、遊技者の面白味を永続させることができる遊技機を提供する。 - 特許庁

A language rewriting rule 30 to be used for language processing on a language token string sequenced in order includes a token pattern recognition rule comparing the language token string sequenced in order with a syntax pattern.例文帳に追加

順に並んだ言語トークン列の言語処理に用いるための言語書き換え規則３０は、順に並んだ言語トークン列を構文パタンと照合する、トークンパタン認識規則を含む。 - 特許庁

The game machine 1 outputs an electrical signal showing a pattern display command to make a pattern display device 21 make a varying display by processing at S20 in a main control board 41.例文帳に追加

遊技機１では、主制御基板４１におけるＳ２０の処理によって、図柄表示装置２１に変動表示を行わせるための図柄表示コマンドを示す電気信号を出力する。 - 特許庁

In a mask shape calculating step, taper shape of a mask material which serves as a mask on upper layer part of the circuit pattern formed on a substrate at the time of processing of the circuit pattern is calculated.例文帳に追加

マスク形状算出ステップは、基板上に形成する回路パターンの上層部で前記回路パターンを加工する際のマスクになるマスク材のテーパー形状を算出する。 - 特許庁

To provide a pattern information producing system capable of producing pattern information to reduce the labor for the correction in the case of processing cloth, etc., and provide a program and an information storage medium therefor.例文帳に追加

布地等を加工する際の補正処理の手間を軽減することが可能なパターン情報を生成するパターン情報生成システム、プログラムおよび情報記憶媒体を提供する。 - 特許庁