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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > processing patternに関連した英語例文

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processing patternの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 3997



例文

To provide a method of manufacturing an imprint mold which is capable of forming a fine mold pattern with high pattern accuracy and is capable of finally removing a thin film pattern formed for etching processing on a substrate, without damaging the mold pattern.例文帳に追加

インプリント用モールドの製造において微細なモールドパターンを高いパターン精度で形成することができ、しかも基板をエッチング加工するために形成した薄膜パターンを最終的にモールドパターンにダメージを与えないように除去できるインプリント用モールドの製造方法を提供する。 - 特許庁

An iterative pattern detection unit 103 uses evaluation values being held in an evaluation value holding unit 117 to perform iterative pattern detection processing, determines whether an iterative pattern is included in the input image, and outputs the result of the determination to the outside of the pattern determination device 100.例文帳に追加

繰り返しパターン検出部103は、評価値保持部117に保持された、それらの評価値を用いて繰り返しパターン検出処理を行い、入力画像に繰り返しパターンが含まれるか否かを判定し、その判定結果をパターン判定装置100の外部に出力する。 - 特許庁

A receiver side STM frame synchronizing circuit 12 detects a frame synchronization pattern to check a pattern of a bit phase, generates bit rearrangement information 110 denoting the pattern, applies bit rearrangement processing with respect to the parallel data 102 on the basis of the pattern to generate parallel data 106 that are synchronized in terms of bytes.例文帳に追加

受信側STM フレーム同期回路12では、フレーム同期パターンを検出してビット位相のパターンを調べ、そのパターンを示すビット並べ替え情報110 を生成すると共に、そのパターンに基づいてパラレルデータ102 に対してビット並べ替え処理を施し、バイト同期のとれたパラレルデータ106 を生成する。 - 特許庁

The extracted pattern is divided into at least two as necessary in the processing unit region PUF1 having the margin M1, and the parts overlapped with a pattern 40 for verification having the same pattern arrangement as the layout pattern of the divided patterns 21 and 22 are defined as arrangement patterns 31 and 32.例文帳に追加

マージンM1をもつ処理単位領域PUF1において、抽出したパターンを必要により少なくとも2つに分割し、分割後の分割パターン21,22のうち、レイアウトパターンと同じパターン配置をもつ検証用パターン40と重なる部分を配置パターン31,32とする。 - 特許庁

例文

Fluctuation velocities before the start of the variation display performance are adjusted so that the variation display of the variation pattern designated by a variation pattern designation command 31 can be finished by a stop pattern designated by a stop pattern designation command 32, according to respective processing steps S273-S275.例文帳に追加

このS273〜S275の各処理により、変動パターン指定コマンド31により指定された変動パターンの変動表示が停止図柄指定コマンド32により指定された停止図柄で終了するように、変動表示の演出開始前の変動速度が調整される。 - 特許庁


例文

By the respective processing of S273-S275, the variation speed before the performance start of the variable display is adjusted so as to end the variable display of a variation pattern specified by a variation pattern specification command 31 at the stop pattern specified by a stop pattern specification command 32.例文帳に追加

このS273〜S275の各処理により、変動パターン指定コマンド31により指定された変動パターンの変動表示が停止図柄指定コマンド32により指定された停止図柄で終了するように、変動表示の演出開始前の変動速度が調整される。 - 特許庁

The candidate of an output image pattern in a certain hierarchy is generated, and a texture is evaluated concerning the generated candidate of the output image pattern, and the output image pattern in the hierarchy is decided based on the evaluation result of the texture, and dither generation processing is operated by using the decided output image pattern.例文帳に追加

ある階調の出力画像パターンの候補を生成し、その生成した出力画像パターンの候補についてテクスチャを評価し、そのテクスチャの評価結果に基づき階調の出力画像パターンを決定し、その決定した出力画像パターンを用いてディザ生成処理を行う。 - 特許庁

Since this coating agent for making the pattern finer contains the water-soluble peptide, the pattern can be narrowed with a large narrowing quantity compared with a conventional coating agent for making the pattern finer, without causing any defect after processing with the coating agent for making the pattern finer.例文帳に追加

本発明のパターン微細化用被覆剤は水溶性ペプチドを含有するので、パターン微細化用被覆剤による処理の後にディフェクトが発生することなく、従来のパターン微細化用被覆剤に比べて大きな狭小化量により、パターンの狭小化を行うことができる。 - 特許庁

The electric control device 20 also determines the position of the target belt-shaped pattern 12a from the pattern matching image 26 by image processing, and restores position information of the target belt-shaped pattern 12a to the pattern matching image 26, to thereby determine the position of the flexible substrate 12.例文帳に追加

さらに、電気制御装置20は、パターンマッチング画像26から目標とする帯状パターン12aの位置を画像処理によって求め、その目標とする帯状パターン12aの位置情報をパターンマッチング画像26に還元することでフレキシブル基板12の位置を求める。 - 特許庁

例文

The extracted pattern is checked against not only the standard pattern of the assembly parts stored into a standard pattern storage section 426 at a pattern matching processing section 424 in advance but also other standard patterns of the same kind of parts as the assembly parts for calculating the matching rate of both the patterns.例文帳に追加

この抽出パターンは、パターンマッチング処理部424で標準パターン記憶部426に予め記憶された組付部品の標準パターンだけでなく、当該組付部品と同種類の部品の他の標準パターンと照合して両パターンの一致率が算出される。 - 特許庁

例文

The microcomputer of a pattern control substrate 32b receives a start code and each of stop pattern specifying codes and the microcomputer of the pattern control substrate 32b executes the processing of reading data corresponding to the effective sound to be outputted from a ROM based on the received start code and each of the stop pattern specifying codes.例文帳に追加

図柄制御基板32bのマイコンは、スタートコード及び各停止図柄指定コードを受信し、図柄制御基板32bのマイコンは、受信したスタートコード及び各停止図柄指定コードに基づきROMから出力すべき効果音に対応したデータを読み出す処理を実行する。 - 特許庁

Furthermore, a control pattern of a reel corresponding to the result of the internal lottery in reel control sorting processing is selected, and an announcement performance based on a performance pattern which is uniquely defined with respect to the control pattern of the selected reel is executed.例文帳に追加

また、リール制御振分処理において内部抽選の結果に応じたリールの制御パターンを選択するとともに、選択したリールの制御パターンに対して一意的に定められた演出パターンに基づく予告演出を実行する。 - 特許庁

A character and pattern plane converting part 1 doubly converts the number of horizontal pixels of a 960×540 character and pattern plane inputted through a decoder 31 and outputs a 1920×540 character and pattern plane to the blending processing part 2.例文帳に追加

文字図形プレーン変換部1は、デコーダ31を介して入力された960×540の文字図形プレーンの水平画素数を2倍に変換し、1920×540の文字図形プレーンをブレンディング処理部2に出力する。 - 特許庁

To provide an input information analyzing method and device for storing a pattern to be processed when it is input, and for newly acquiring a pattern result analyzed from the stored pattern by processing similar to the human sensitivity, thinking, and intuition.例文帳に追加

被処理パターンが入力されたとき、そのパターンを蓄積し、蓄積されているパターンから人間の感性、思考、直感等と同様な処理で分析したパターン結果を新たに得る入力情報分析方法及び装置を提供する。 - 特許庁

In a pattern data storage part 25, there are stored shape pattern data in which the shapes of panel materials concerning vehicles produced in the past are standardized and processing pattern data in which spot points of the panel materials and the related welding equipment are standardized.例文帳に追加

パターンデータ記憶部25には、過去に量産された車体に関するパネル材の形状を標準化した形状パターンデータ、パネル材のスポット打点とこれに対応する溶接装置とを標準化した工程パターンデータが格納される。 - 特許庁

The data generating part 4 reads a pattern data corresponding to the specified road part from a pattern model storage part 5, and generates data for the model deformation by processing the extracted parameter data referring to the pattern data.例文帳に追加

モデル変形用データ生成部4は、指定された道路箇所に対応するパターンデータをパターンモデル格納部5から読み出し、当該パターンデータを参照しつつ上記抽出されたパラメータデータを加工することで、モデル変形用データを生成する。 - 特許庁

After tentatively stopping the fluctuation of a display pattern in the display form of large winning by a non probability fluctuation pattern '6', a re-drawing image 52 for indicating that the processing of re-drawing is to be started is displayed on a special pattern display device 4 (a).例文帳に追加

非確変図柄「6」による大当たりの表示態様で表示図柄の変動を一旦仮停止させた後、再抽選の処理に入ることを示す再抽選画面52を特別図柄表示装置4上に表示させる(a)。 - 特許庁

After a dummy pattern resembling a pattern of a DOE element area 20 is formed at the outer circumference of a DOE element area 20 by printing and development, the completion of processing of the dummy pattern is detected when both the patterns are processed by etching.例文帳に追加

DOE素子領域20の外周に、DOE素子領域20のパターンに近似するダミーパターンを焼付・現像によって形成した後、エッチングによって両パターンの加工を行なうときにダミーパターンの加工の完了を検出する。 - 特許庁

It is sufficient that the main control device 30 determines a big prize pattern or a failure pattern which is formed by a single symbol as a determination pattern, so its load in processing is reduced as compared with the case of deciding a combination of three symbols.例文帳に追加

主制御装置30は単一の図柄で構成される大当たり図柄又は外れ図柄を確定図柄として決めればよいので、例えば3つの図柄による組合せを決める場合に比べて処理上の負担が減る。 - 特許庁

At least feeding side edge part 201B of the article 10 to be processed on the pattern part 20B is provided so that the pattern width in the peripheral direction of the pattern part 20B becomes narrower toward inside from both side parts in the width direction of the processing roll 2.例文帳に追加

パターン部20Bにおける少なくとも被加工物10の供給側エッジ部201Bが、加工ロール2の幅方向両側部から内側に向けて、パターン部20Bの周方向のパターン幅が狭くなるように設けられている。 - 特許庁

A confusion-pattern detecting section 212 monitors a communication processing while referring to the confusion-pattern table 214, and informs an automatic block section 213 of a coincidence with the confusion patterns in the confusion-pattern table 214 when detecting the coincidence.例文帳に追加

混乱パターン検出部212は、混乱パターンテーブル214を参照しながら通信処理を監視し、混乱パターンテーブル214内の混乱パターンに合致することを検出したら、その旨を自動ブロック部213に通知する。 - 特許庁

To provide a camera for paintings and calligraphy for writing a specific pattern on a manuscript table, and detecting the pattern written on the manuscript table from an imaged picture, and discriminating a subject area from a background area by pattern recognition, and for executing proper AE/AF/AWB processing.例文帳に追加

原稿台に特定のパターンを記し、撮像した画像から原稿台に記してあるパターンを検出し、パターン認識により被写体領域と背景領域を判別し、適切なAE/AF/AWB処理を行う書画カメラ。 - 特許庁

To remarkably reduce measuring points in a coating pattern to reduce a trouble in measurement, and to accurately and simply conduct data processing based on the data in the coating pattern, when simulating a film thickness based on the coating pattern.例文帳に追加

塗装パターンに基づいて膜厚のシミュレーションを行う場合に、塗装パターンの測定点を格段に少なくして測定の面倒を軽減すると共に、その塗装パターンのデータに基づきより正確で簡単なデータ処理を行えるようにする。 - 特許庁

The fingerprint processing substrate 214 processes the image and classifies the fingerprint of the player touching the fingerprint sensor 18a into four types, a loop pattern (a hoof shape), a spiral pattern (an eddy shape), an arch pattern (a bow shape) and the others.例文帳に追加

指紋処理基板215では、画像処理が実行され、指紋センサ18aに触れた遊技者の指紋が、蹄状紋(ひづめ形)、渦状紋(うずまき形)、弓状紋(弓形)、および、それ以外の形の4種類に分類される。 - 特許庁

The method performs data processing of the SEM image, calculates a parameter showing the height degree of pattern characteristic property in each area of a prescribed reference size and extracts the prescribed number of areas where a pattern is large and the pattern whose characteristic property is high is included.例文帳に追加

SEM画像をデータ処理して、パターンの特徴性の高さの度合を示すパラメータを所定の基準サイズの領域毎に算出し、パラメータが大きく、特徴性が高いパターンを含む領域を所定数抽出する。 - 特許庁

To form structure having proper workability in a substrate processing equipment where a cassette station and a processing station are connected each other and the substrate discharged from a substrate cassette is liquid-processed in a liquid-processing unit of the processing station, e.g., in an equipment of coating or development forming a resist pattern.例文帳に追加

カセットステーションと処理ステーションを接続し、基板カセットから取り出された基板を処理ステーション内の液処理ユニットにて液処理する基板処理装置、例えばレジストパターンを作る塗布、現像装置において、作業性の良い構成とすること。 - 特許庁

To provide an image processing method and an image processing apparatus capable of achieving image processing by a general print technology, including a correction pattern into an image without changing an appearance of the image and improving the image processing performance.例文帳に追加

一般的な印刷技術で実現可能であり、かつ、画像の外観を変更することなく、補正用パターンを画像内に含めることができ、画像処理性能を向上させることができる画像処理方法および画像処理装置を提供する。 - 特許庁

The apparatus is provided with a density determination processing section 42 for performing density determination and a pattern detection processing section 46 for deciding whether there are fine lines, thereby allowing two filter processing sections 43, 44 to output, while switching between the sections 43, 44 using an image switching processing section 45.例文帳に追加

濃度判定を行う濃度判定処理部42と細線であるか否かを選別するパターン検出処理部46を設けて、2つのフィルタ処理部43、44の出力を画像切替え処理部45で切り替えて出力するようにする。 - 特許庁

An image forming apparatus detects whether or not a received document image includes a particular pattern image comprising a particular pattern, applies image processing with prescribed predetermined image processing contents to the document image when the particular pattern image is detected from the received document image, and prints out the document image subjected to the image processing with the prescribed predetermined image processing contents onto a recording material.例文帳に追加

入力された文書画像に、特定のパターンからなる特定パターン画像が含まれているか否かを検出し、入力された文書画像の中に特定パターン画像が検出された場合に、文書画像に対して予め定められた所定の画像処理内容による画像処理を行ない、予め定められた所定の画像処理内容による画像処理が施された文書画像を記録材に印刷する。 - 特許庁

Thereafter, a pattern 4 is further applied to the surface of the metal sheet 3 by dent processing, etching processing, etc. to obtain the final mold.例文帳に追加

パターンを有する金型とする場合は、この後、さらに、圧痕加工やエッチング加工等により、金属板3の表面にパターン4を加工して、最終的な金型とする。 - 特許庁

To realize automatic processing by reducing necessity of a work by a specialist, and to utilize conventional data, in a site partition processing of a palmar pattern impression image.例文帳に追加

掌紋印象画像の部位分割処理において、専門家による作業の必要性を低減して自動化処理を実現し、かつ、従来データの利用を可能にする。 - 特許庁

A pattern detection section 466 detects slash patterns 0, 1 included in an image subjected to binarization processing and noise elimination processing to generate a detected result image.例文帳に追加

パターン検出部466は、2値化処理及びノイズ除去処理を施された画像に含まれる斜線パターン0及び斜線パターン1を検出し、検出結果画像を生成する。 - 特許庁

The probe coil is constituted of a superconductive thin film coil acquired by processing a superconductive thin film, a substrate on which the superconductive thin film subjected to pattern processing is formed, a support and a dielectric.例文帳に追加

超電導薄膜を加工した超電導薄膜コイルと、パターン加工した超電導薄膜を形成した基板と、支持体、誘電体とでプローブコイルを構成する。 - 特許庁

To provide an image area separating device to perform a processing by attaching importance to characters in the case of monochrome reproduction, however, not to degrade the quality of a reproduced image even in the case of a pattern, especially dot processing.例文帳に追加

モノクロ再生時には文字重視の処理を行うが、絵柄特に網点処理の場合にもその再生画質を劣化させない像域分離装置を提供する。 - 特許庁

The arrangement of recording data of one block before the CIRC processing for recording the prescribed data pattern in the prescribed part is obtained by tracing the CIRC encoding processing backwards.例文帳に追加

CIRCのエンコード過程を逆に辿り、所定の部分に所定のデータパターンが記録されるためのCIRC処理前の1ブロックの記録データの配置を求める。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus which efficiently processes a pattern formation surface of a wafer while preventing the diffusion of a chemical atmosphere that may occur during chemical processing.例文帳に追加

薬液処理時に発生しうる薬液雰囲気の拡散を防止しつつ、ウエハのパターン形成面を効率良く処理することができる液処理装置を提供する。 - 特許庁

The transfer process is executed using a condition set based on data related to at least either of the dimension and the shape of the pattern of the processing object film after processing.例文帳に追加

転写工程は、加工後の被加工膜のパターンの寸法及び形状の少なくともいずれかに関するデータに基づいて定められた条件を用いて実施される。 - 特許庁

To provide an optical master disk processing liquid for quickly removing an inorganic resist with a rugged pattern formed thereon, and to provide a method of processing the optical master disk.例文帳に追加

凹凸パターンが形成された無機レジストを速やかに除去することが可能な光ディスク原盤処理液及び光ディスク原盤の処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing method for biochemical examination for accurately, quickly detecting a signal for indicating emission luminance in a micro pattern included in a sample image by simple processing.例文帳に追加

サンプル画像に含まれる微細パターンの発光輝度を示すシグナルを、簡易な処理で正確かつ迅速に検出できる生化学的検査用画像処理方法を提供できる。 - 特許庁

A processing part 14 performs prescribed processing such as the voice guide of a display pattern touched by the finger or the like and the execution of a program based on detection signals S31 and S33.例文帳に追加

処理部14は、検出信号S31,S33に基づいて、指などで触れた表示パターンの音声案内およびプログラムの実行などの所定の処理を行う。 - 特許庁

Regarding a focus region in the binarized image, a region adjusting means 22 alternatively performs contraction processing and expansion processing of a pixel having a pixel value of the wiring pattern.例文帳に追加

二値化された画像内の着目領域について、領域調節手段22では配線パターンの画素値を持つ画素の縮小処理と膨張処理とを択一的に行う。 - 特許庁

In the case of discrimination of 'no character area' by an image area separation processing section 3 and a counter 4 in the preliminary scanning, a 'pattern-weighted' coefficient is set to a 2nd smoothing processing section 7.例文帳に追加

像域分離処理部3、カウンタ4によりプリスキャン時に「文字領域無し」と判定した場合、第2の平滑化処理部7には「絵柄寄り」の係数が設定される。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus which makes it possible to highly accurately remove a periodicity from a dot pattern while suppressing excessive smoothing from an image, and to reduce a processing burden thereon.例文帳に追加

画像から過剰平滑化を抑制しつつ網点パターンの周期性を高精度に除去できかつその処理負担の少ない画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an error diffusion processing method for a display device capable of reducing image quality disturbances such as periodic pattern noises appearing in performing error diffusion processing.例文帳に追加

誤差拡散処理を行った際に現れる周期的なパターンノイズ等の画質妨害を低減することができる表示装置の誤差拡散処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus and an image processing method capable of controlling provision of functions according to an instruction of instruction information corresponding to an image pattern of image data.例文帳に追加

画像データの有する画像パターンに対応した指示情報の指示に従って機能の提供を制御することができる画像処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁

The respective inner layer sheets are successively drawn out in a state mutually joined by the bands to continuously apply the processing such as pattern processing or the like of the upper conductor layer to each of the inner layer sheets.例文帳に追加

そして,各内層板を,バンドにより互いにつながった状態のまま順次引き出して,上層導体層のパターン加工等の処理を連続的に施す。 - 特許庁

To speed up an image drawing processing as a whole by generating a bit map pattern while taking into account the capacity of an available memory in the case of conducting the image drawing processing.例文帳に追加

描画処理を行うにあたり、利用可能なメモリの量を考慮しつつビットマップパターンを作成することで、描画処理自体を全体的に高速化する。 - 特許庁

The upper layer film in the vicinity of a processing target position of the object to be processed is removed by the FIB processing, and a recognizable layout pattern is made exposed in the FIB image.例文帳に追加

被加工体の加工目的位置の近傍の上層膜をFIB加工によって除去し、FIB像において識別可能なレイアウトパターンを露出させる。 - 特許庁

To provide a magnetic layer processing process for simply performing a microfabrication without damaging a magnetic material in a magnetic material processing accompanying a pattern transfer by means of imprint.例文帳に追加

インプリントによるパターン転写に伴う磁性体加工において、磁性体にダメージを与えることなく簡易に微細化を行うための磁性層加工プロセスを提供する。 - 特許庁

例文

To provide substrate processing apparatus and substrate processing method which can suppress the falling of a pattern formed on a substrate when washing and drying the substrate.例文帳に追加

基板を洗浄、乾燥する際の当該基板に設けられたパターンの倒れの発生を抑制することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。 - 特許庁




  
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