「processing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

A first processing condition of first processing processes S22-S25 is corrected based on a measurement value of the line width of the second resist pattern formed on one substrate, and a second processing condition of second processing processes S26-S29 is corrected based on a measurement value of the line width of the first resist pattern formed on one substrate.例文帳に追加

一の基板に形成された第２のレジストパターンの線幅の測定値に基づいて、第１の処理工程Ｓ２２〜Ｓ２５の第１の処理条件を補正し、一の基板に形成された第１のレジストパターンの線幅の測定値に基づいて、第２の処理工程Ｓ２６〜Ｓ２９の第２の処理条件を補正する。 - 特許庁

To provide: a substrate processing apparatus capable of obtaining a predetermined resist pattern, and capable of uniforming the resist pattern on the surface of a substrate, irrespective of accuracy in exposure processing after a photolithography process; a substrate processing method; a substrate processing program; and a computer-readable recording medium.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程後において、露光処理の精度に拠らず、所望のレジストパターン形状を得ることができ、前記レジストパターンを基板面内で均一にすることのできる基板処理装置、基板処理方法、基板処理プログラム及びそのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁

At the structured document processing request in execution, the structured document is analyzed, and in the case of coinciding with the non-acceptable derivation pattern, it is replaced with the acceptable derivation pattern.例文帳に追加

そして、実行時の構造化文書処理要求に対して、構造化文書を解析し、受理できない派生パターンと合致した場合は、受理できる派生パターンに置き換える。 - 特許庁

A template of the circuit pattern or worked pattern, and mesh division (one-dimensional/two-dimensional/parallel use of the both) for the template are used as a PM model used for the image processing.例文帳に追加

この画像処理で用いられるＰＭモデルとして、回路パターンまたは加工パターンのテンプレート、当該テンプレートのメッシュ分割（１次元／２次元／両者併用）が用いられる。 - 特許庁

This program processor 100 merges a plurality of test pattern programs 101 and prepares and stores a merged pattern program 102 in program conversion processing for an IC test.例文帳に追加

プログラム処理装置１００は、ＩＣテストのためのプログラム変換処理において、複数のテストパタンプログラム１０１を併合して併合パタンプログラム１０２を作成・記憶する。 - 特許庁

Read data RD(n) obtained through read processing of the images are processed by a book data generating section 23 on the basis of print pattern information set by an arranged print pattern setting section 22.例文帳に追加

その読取処理によって得られた読取データＲＤ（ｎ）は、面付パターン設定部２２で設定され面付パターン情報に基づいて、ブックデータ生成部２３で処理される。 - 特許庁

A panel image generating part 15 is made to generate an image signal in which a sub-image after scaling processing is superposed with the pattern image generated by a pattern image generating part 20.例文帳に追加

スケーリング処理後のサブイメージにパターン画像生成部２０によって生成されたパターン画像を重畳させた画像信号をパネル画像生成部１５に生成させる。 - 特許庁

The wind direction pattern determining section 36f determines a prescribed wind direction pattern from the plurality of wind direction patterns according to a result of the first uneven temperature eliminating operation by the first operation processing section 36c.例文帳に追加

風向パターン決定部は、第１運転処理部による第１温度ムラ解消運転の結果に応じて、複数の風向パターンから所定の風向パターンを決定する。 - 特許庁

To provide a pattern inspection method not requiring the setting alteration of the inspection condition corresponding to an inspection target, simple in structure, low in cost and enabling high speed processing, and a pattern inspection device.例文帳に追加

検査対象に応じた検査条件設定変更の必要がなく、簡単な構造かつ低コストで、高速処理が可能なパターン検査方法および装置を提供する。 - 特許庁

To prevent an error pattern from being generated when a composite pattern is generated in an area where two extended patterns overlap with each other through lithography processing using the extended patterns.例文帳に追加

２つの拡張パターンを利用したリソグラフィ処理により，拡張パターンが重なり合う領域に合成パターンを生成する時に，誤りパターンが生成されることを防止する。 - 特許庁

When a plurality of pattern matching candidates exist in the pattern matching processing part 1, a color average histogram extraction part 3 predicts right-answer candidates based on a color matching histogram.例文帳に追加

カラー平均ヒストグラム抽出部３は、パターンマッチング処理部でパターンマッチング候補が複数存在する場合、カラー平均ヒストグラムに基づき正解候補を推定する。 - 特許庁

To provide a minimum layout pattern dimension detector capable of detecting the dimensions of a minimum layout pattern and a spot of the dimensions without processing a plurality of times.例文帳に追加

複数回の処理を行うことなく、最小レイアウトパターンの寸法及びその寸法の箇所を検出可能な最小レイアウトパターン寸法検出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a speech recognition device automatically selecting an optimum pattern to a user's voice state and performing the speech recognition processing and an automatic selection method for a filtering pattern.例文帳に追加

ユーザの声の状態に最適なパターンを自動的に選択して音声認識処理を行う音声認識装置及びフィルタリング用パターンの自動選択方法の提供。 - 特許庁

An arrangement region where a spacer column pattern of an array substrate pattern needs to be formed by using a graphic processing means is specified rectangularly by an arrangement region specifying means.例文帳に追加

図形処理手段を用いてアレイ基板パターンのスペーサ柱パターンを発生させなければならない配置領域を配置領域指定手段により長方形で指定する。 - 特許庁

To decrease the amount of data processing when a correction pattern is produced in the method of producing a correction pattern of a photomask by photolithography by using CAD tools.例文帳に追加

ＣＡＤツールを用いて、フォトリソグラフィーにおいて、フォトマスクの補正パターンを発生させる方法において、補正パターンを発生させる際にデータ処理量を軽減させる。 - 特許庁

To transmit each pattern data at a desired timing while suppressing the processing burden, even when there are a plurality of pattern data to be transmitted in the power-saving mode.例文帳に追加

省電力モードにおけて送信すべきパターンデータが複数存在する場合であっても、処理負担を抑制しつつ、各パターンデータを所望のタイミングで送信する。 - 特許庁

The exposure device 1 includes: a device control unit 2; and an exposure processing unit 3 which exposes a substrate to an exposure pattern using drawing data 100 representing the exposure pattern.例文帳に追加

露光装置１は、装置制御部２と、露光パターンを示す描画データ１００を使用して当該露光パターンを基板上に露光する露光処理部３とを備えている。 - 特許庁

To provide a game machine capable of reducing processing burdens on a pattern image, displaying more movements of the pattern image and keeping the interest of a player.例文帳に追加

絵柄画像に対する処理負担を軽減するとともに、より多くの絵柄画像の移動を表示して、遊技者の面白味を永続させることができる遊技機を提供する。 - 特許庁

The space is divided into a designated number, and an image pickup pattern representing to which dividing position the dot is assigned is created by an image pickup pattern creating processing part 32.例文帳に追加

また、この空間は、所定個数に分割されており、どの分割位置に点が割り当てられたかを示す撮像パターンが撮像パターン作成処理部３２によって作成される。 - 特許庁

To provide a development processing method of preventing a pattern collapse, when removing a rinse liquid on a substrate, even if a resist pattern is made finer and the height is increased.例文帳に追加

更にレジストパターンを微細化し、その高さを増大させたときも、基板上のリンス液を除去する際に、パターン倒れを防止できる現像処理方法を提供する。 - 特許庁

A second amorphous silicon film 6 is formed and processed by spacer processing to form a side wall film 6a, and the core material pattern 5b is removed to obtain an independent mask pattern 6b.例文帳に追加

第２のアモルファスシリコン膜６を形成してスペーサ処理をすることで側壁膜６ａを形成し、芯材パターン５ｂを除去して孤立したマスクパターン６ｂを得る。 - 特許庁

The processing liquid for forming the pattern due to the chemically amplified resist composition contains a surfactant and an organic solvent, and the method for forming the resist pattern using it is provided.例文帳に追加

界面活性剤と有機溶剤とを含有する化学増幅型レジスト組成物によるパターン形成用の処理液、及びそれを用いたレジストパターン形成方法。 - 特許庁

The TEOS oxide film 5 is processed to an intermediate pattern 5a of the first width D1 by patterning based on resist and a core material pattern 5b of the second width D2 is formed by slimming processing thereto.例文帳に追加

レジストによるパターニングでＴＥＯＳ酸化膜５を第１幅Ｄ１の中間パターン５ａに加工し、スリミング処理をして第２幅Ｄ２の芯材パターン５ｂを形成する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of performing exposure processing with accuracy by preventing deterioration in a pattern image, when exposing a pattern onto a substrate via a projection optical system and a liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介してパターンを基板に露光する際、パターン像の劣化を防止して精度良く露光処理できる露光装置を提供する。 - 特許庁

The synchronization pattern is inserted into a signal S44 by a P/S conversion circuit 45 and a synchronization processing is performed based on the synchronization pattern by an S/P conversion circuit 51 on the receiving side.例文帳に追加

Ｐ／Ｓ変換回路４５で、信号Ｓ４４に同期パターンを挿入し、受信側のＳ／Ｐ変換回路５１で当該同期パターンを基に同期処理を行う。 - 特許庁

To provide a servo writing method capable of shortening a processing time for detecting a reference pattern, which decides the writing start timing of a spiral servo pattern.例文帳に追加

スパイラルサーボパターンの書込み開始タイミングを決定する基準パターンを検出するための処理時間の短縮化を図ることができるサーボ書込み方法を提供する。 - 特許庁

Meanwhile, the pixel expansion processing is discontinued if the 1st master pattern is short-circuited when a single pixel is expanded in the 1st master pattern.例文帳に追加

第１のマスタパターン中の画素を１画素分膨張処理することにより、第１のマスタパターンにパターンの短絡が発生する場合は、画素の膨張処理を中止する。 - 特許庁

The resist pattern is formed on the wafer for inspection by carrying out the PEB processing at the corrected heating temperature (step S5), and a second linewidth of the resist pattern is measured (step S6).例文帳に追加

補正された加熱温度でＰＥＢ処理を行い検査用ウェハ上にレジストパターンを形成し（ステップＳ５）、当該レジストパターンの第２の線幅を測定する（ステップＳ６）。 - 特許庁

By the printing, the fine pattern is added to an originally existing dot pattern on the electronic processing paper and an information input by the electronic pen is made impossible in principle.例文帳に追加

この印刷で、電子処理ペーパ上の本来存在するドットパターンにさらに微細パターンを追加し、電子ペンによる情報入力を原理的に不可能とする。 - 特許庁

The pattern of dummy regions left after the removal processing and the pattern of the active region are put together to design the photomask as to the active region.例文帳に追加

そして、かかる処理の後に残ったダミー領域のパターンとアクティブ領域のパターンとを合成することによりアクティブ領域についてのフォトマスクが設計される。 - 特許庁

To improve drawing accuracy by effectively suppressing stretching of a pattern drawn on a substrate in a scanning direction, without performing complicated processing to correct CAD data of the pattern.例文帳に追加

パターンのＣＡＤデータを補正する複雑な処理を行うことなく、基板に描画されるパターンの走査方向への伸びを効果的に抑制して、描画精度を向上させる。 - 特許庁

Then, by processing the MTJ lamination film with the resist pattern, the element array formed by combining the MTJ elements 23 and dummy elements 28 are arranged in the lattice-shaped dense pattern.例文帳に追加

そして、このレジストパターンを用いてＭＴＪ積層膜を加工することで、ＭＴＪ素子２３とダミー素子２８とを合わせた素子アレイを格子状の密集パターンに配置する。 - 特許庁

The optical master disk processing liquid is provided for removing the rugged pattern (an inorganic resist layer 3) of the optical master disk 1, the rugged pattern being formed on a substrate 2 with the inorganic resist.例文帳に追加

基板２上に無機レジストにより凹凸パターン（無機レジスト層３）が形成された光ディスク原盤１の凹凸パターンを除去するための光ディスク原盤処理液である。 - 特許庁

To provide a drive load prediction system capable of predicting a drive load with a small arithmetic processing quantity by utilizing comparison (pattern matching) of a pattern of the drive load.例文帳に追加

運転負荷のパターンの比較（パターンマッチング）を利用することにより、少ない演算処理量で運転負荷を予測することのできる運転負荷予測システムを提供する。 - 特許庁

A transmission side terminal considers step-out to be password step-out and the transmission of synchronous pattern data in a reception terminal is a password synchronous pattern re-transmission processing for re- synchronizing a password.例文帳に追加

音声フレーム同期を利用して暗号同期外れを等価的に検出し、音声フレーム内の音声符号化データの代わりに固定パターンデータを挿入する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of performing exposure processing with accuracy by preventing deterioration in a pattern image, when exposing a pattern onto a substrate via a projection optical system and a liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介してパターンを基板に露光する際、パターン像の劣化を防止して精度良く露光処理できる露光装置を提供する。 - 特許庁

In the image processing in an inspection, inclination of a fillet is determined, by specifying the direction of the illuminating light corresponding to its pattern from a reflection pattern that has appeared in an image.例文帳に追加

検査の際の画像処理では、画像に現れた反射パターンからそのパターンに対応する照明光の方向を特定して、フィレットの傾斜角度を求める。 - 特許庁

The beautiful natural material pattern transferred resin panel is formed and miniaturized by vacuum forming mold, wherein the natural material pattern and a creative design transferred require no secondary processing.例文帳に追加

真空成形金型によって成形、小型化され、２次加工不要の天然素材模様及び創作デザインを転写した、美しい天然素材模様転写樹脂パネル。 - 特許庁

To suppress image quality deterioration resulting from a dither process by using a matrix-like random pattern as a dither toggle pattern in signal processing for display such as a plasma display.例文帳に追加

プラズマディスプレイなどの表示用信号処理において、ディザトグルパターンとしてマトリクス状のランダムパターンを用いることで、ディザ処理に起因する画質劣化を抑制する。 - 特許庁

The pattern 40 for verification is updated by erasing the decided arrangement patterns 31 and 32 from the pattern 40 for verification in the processing unit region PUF1 having the margin M1.例文帳に追加

マージンＭ１をもつ処理単位領域ＰＵＦ１において、決定された配置パターン３１，３２を検証用パターン４０から消去して検証用パターンを更新する。 - 特許庁

The first light source shape is such a light source shape that optimizes processing tolerance for forming an on-substrate pattern adapted to the at least two pattern layouts.例文帳に追加

また、第１の光源形状は、前記少なくとも２つのパターンレイアウトに応じた基板上パターンを形成する際のプロセス裕度が最適化される光源形状である。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of easily removing photoresist remaining after dry etching processing in the case of forming a pattern by a dray etching method.例文帳に追加

ドライエッチング法によってパターンを形成する場合に、ドライエッチング処理後に残存するフォトレジストを容易に除去することが可能なパターン形成方法を提供する - 特許庁

To provide an image forming apparatus in which noise caused by a specific pattern is not caused even when post-processing is performed upon an output object to which the specific pattern is added.例文帳に追加

特定パターンが付加された出力物に対して後処理を行った場合でも、特定パターンに起因するノイズが生じることのない画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Then, translucentizing processing is performed for the read special pattern image to produce a translucent image having partially translucent special pattern image.例文帳に追加

次いで、読み出した特別図柄画像について、半透明化実行処理を行うことによって、特別図柄画像を部分的に半透明化した半透明画像を作成する。 - 特許庁

The reticle pattern is replaced as coordinate data by a certain means and the pattern defect is extracted by differential processing of this coordinate data and CAD coordinate data.例文帳に追加

レチクル検査装置では、レチクルパターンを何らかの手段で座標データとして置き換え、その座標データとＣＡＤ座標データとの差分処理よりパターン欠陥を抽出する。 - 特許庁