「processing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

A cavity processing method of a core substrate comprises: a step of forming a first processing region defined by a circuit pattern on one surface of the core substrate; a step of forming a second processing region defined by the circuit pattern on the other surface of the core substrate; and a step of processing a cavity by removing the first processing region completely from the one surface of the core substrate.例文帳に追加

本発明に係るコア基板のキャビティ加工方法は、コア基板の一面に回路パターンにより区画される第１加工領域を形成する工程と、コア基板の他面に回路パターンにより区画される第２加工領域を形成する工程と、コア基板の一面から第１加工領域を全て除去してキャビティを加工する工程と、を含む。 - 特許庁

To provide a focused ion beam device for actualizing smooth and automatic processing of a processed pattern by improving the detecting probability of a processed pattern detecting mark and the reproductivity of a processing position, and to provide a sample processing method and program using the same.例文帳に追加

加工パターン検出用のマークの検出確率と加工位置の再現性を向上させ、加工パターンの自動加工を円滑化することができる集束イオンビーム装置、集束イオンビーム装置を用いた試料加工方法及び試料加工プログラムを提供する。 - 特許庁

A processing selection criterion determination part 25 determines, with respect to approval-waiting data 33, a pattern in processing selection criterion information 36 which is matched to the data, and derives a level of reliability 34 for the processing selection of the data 33 based on the matched pattern.例文帳に追加

処理選択基準判定部２５は、承認待ちデータ３３について、処理選択基準情報３６におけるどのパターンと一致するか判定を実施し、一致するパターンに基づいて、承認待ちデータ３３の処理選択に対する信頼度３４を導出する。 - 特許庁

An OSD pattern of a title or a graphic to be added to a video image recorded on a disk 1 is entered on the screen of a television monitor 8, and a signal processing section 3 converts the entered OSD pattern into a sub-picture pattern.例文帳に追加

ディスク１に記録する映像に付加するタイトルや図形のＯＳＤパターンをテレビモニタ８の画面上で入力し、入力されたＯＳＤパターンを信号処理部３でサブピクチャ用のパターンに変換する。 - 特許庁

The control device 5, on the whole, corrects the reference walking pattern generated by the reference walking processing using the course correction pattern, generates the correction walking pattern, and adapts the biped walking robot 1 to the irregular road surface.例文帳に追加

制御装置５は、全体として、軌道修正パターンを用いて前記基準歩行処理により生成した基準歩行パターンを修正して、修正歩行パターンを生成し、２足歩行ロボット１を不整路面に適応させる。 - 特許庁

A comparator 43 compares computational result of the process gas supply periodic pattern from the pattern operation part 42 with reference result of the process gas supply periodic pattern adversely-affecting the processing result from a memory 45.例文帳に追加

比較部４３において、パターン演算部４２からの処理ガス供給周期パターンの演算結果と、記憶部４５からのプロセス結果に悪影響を与える処理ガス供給周期パターンの参照結果とが比較される。 - 特許庁

The authentication device (4) acquires the wave pattern of an object to be identified, and a predetermined authentication processing is performed when a correlation factor between the wave pattern of the object to be identified and the wave pattern of the authentication sound is a predetermined value or above.例文帳に追加

そして、認証装置（４）は、識別対象の波形を取得し、前記識別対象の波形と、前記認証音声の波形との相関係数が所定値以上である場合に、所定の認証処理を実行する。 - 特許庁

Then, the scrambler 14 reads the scrambled pattern data, corresponding to the received label from the scrambled pattern table 141, and executes the scramble processing to the transport stream for each packet in accordance with the scrambled pattern data.例文帳に追加

そして、スクランブラ１４はこの受信したラベルに対応するスクランブルパターンデータをスクランブルパターンテーブル１４１から読み出し、このスクランブルパターンデータに従って、トランスポートストリームに対しパケット毎のスクランブル処理を実行する。 - 特許庁

To provide an apparatus for generating lithographic pattern data which can convert pattern data to lithographic pattern data for an objective electron-beam exposure system and the processing of which is practical and has no problem in accuracy.例文帳に追加

図形データを、目的とする電子ビーム露光装置用の描画図形データに変換することができる描画図形データ作成装置で、且つ、処理が実用的で、精度的にも問題のない装置を提供する。 - 特許庁

In copy-forgery-inhibited pattern application layer determination processing (S3301), on the basis of an area in which a copy-forgery-inhibited pattern and document contents of document data are overlayed, the printing of the copy-forgery-inhibited pattern is determined to watermark printing or overlay printing.例文帳に追加

地紋パターン適用レイヤー決定処理(Ｓ３３０１)は地紋パターンと原稿データにおける原稿内容とが重なる面積に基づき、地紋パターンの印刷を透かし印刷または重ね印刷に決定する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method in which a desired resist pattern is obtained by performing electron beam lithography on a resist film on a substrate, wherein the resist pattern of high precision is formed without deterioration of a pattern profile by eliminating an influence of electrostatic charging of the resist film.例文帳に追加

基板上のレジスト膜に電子線露光を行って所望のレジストパターンを得る基板処理方法において、レジスト膜の帯電の影響を排し、パターンプロファイルの劣化が無い、高精度なレジストパターンを形成する。 - 特許庁

In this time, the pattern is formed on the mask layer, and an etching processing used to transfer this pattern on the dielectric layer is carried out, thereby, a geometric shape correspondent to the pattern is formed on the dielectric layer.例文帳に追加

ここで、マスク層にはパターンが形成されており、このパターンを誘電体層に転写するのに使用されるエッチング処理の結果として、このパターンに対応した幾何形状が誘電体層に形成される。 - 特許庁

In the screen processing unit 26 of an image processor, a dither pattern storage unit 33 stores a dark color dither pattern and a light color dither pattern where the number of lines and angles are identical but the positions of halftone dots to be formed are different.例文帳に追加

画像処理装置のスクリーン処理部２６において、ディザパターン記憶部３３は、線数及び角度が同一で、形成される網点の位置が異なるような濃色ディザパターン及び淡色ディザパターンを記憶する。 - 特許庁

A collation object selecting part 14 selects the registerer blood vessel pattern having the finger incidental information value approximating to the finger incidental information value of the collator, and a collation processing part 15 collates the registerer blood vessel pattern with the collator blood vessel pattern.例文帳に追加

照合対象選択部１４は照合者の指付帯情報値に近似する指付帯情報値を有する登録者血管パターンを選択し、照合処理部１５で照合者血管パターンと照合する。 - 特許庁

To provide a pseudo random pattern transmitter capable of inserting a pseudo random pattern into a payload part of a PPP frame or an IP packet by software processing without using a pseudo random generation circuit based on hardware and transmitting the inserted pattern.例文帳に追加

ハードウエアによる擬似ランダム発生回路を使用せず、ソフトウエア処理により擬似ランダムパターンをＰＰＰフレームまたはＩＰパケットのペイロード部に挿入して送信できる擬似ランダムパターン送信装置を提供する。 - 特許庁

The second light source shape is such a light source shape that optimizes processing tolerance for forming an on-substrate pattern adapted to a pattern layout formed on the semiconductor device and adapted to at least the two pattern layouts.例文帳に追加

第２の光源形状は、前記半導体装置に形成するパターンレイアウトおよび前記少なくとも２つのパターンレイアウトに応じた基板上パターンを形成する際のプロセス裕度が最適化される光源形状である。 - 特許庁

In a pattern application method for forming a pattern of a coating film on the substrate film by applying a coating liquid on the substrate film, part of the substrate film is subjected to pattern-like surface reform processing.例文帳に追加

基材フィルム上に塗布液を塗布することによって基材フィルムに塗布膜のパターンを形成するパターン塗布方法において、まず、基材フィルムの一部にパターン状の表面改質を施す加工を行う。 - 特許庁

After connecting the pointing device 1 to a system device 8, an operator inputs an operation pattern for releasing lock of the storage device 5, whether or not the operation pattern is registered is determined in an operation pattern collation processing part 4.例文帳に追加

ポインティングデバイス１をシステム装置８に接続後、操作者が記憶装置５のロックを解除する操作パターンを入力すると、操作パターン照合処理部４では操作パターンが登録されているか否かを判断する。 - 特許庁

To provide an image-processing method and an image processor, capable of detecting a watermark pattern which is hardly affected by illumination nonuniformity or sheet thickness nonuniformity or by any print pattern, such as a printed character or pattern.例文帳に追加

照明むらや用紙の厚さむら、および、印刷された文字や模様などの印刷パターンの影響を受けにくい透かしパターンなどの検知が可能となる画像処理方法および画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To perform high speed processing by efficiently using a halftone pattern for a plotting object being the same tone value, and to reduce the capacity of a halftone pattern memory by successively searching the shift value of the horizontal direction of the halftone pattern for every plotting word.例文帳に追加

同階調値の描画オブジェクトに対して効率よくハーフトンパターンを使用して高速処理を実現し、ハーフトンパターンの水平方向のシフト値を、描画ワード毎に逐次求め、ハーフトンパターンメモリの容量を小さくする。 - 特許庁

The reference pattern image is successively updated whenever the pattern matching processing on a new photographic image is performed, and the size of a range where a new reference pattern image is fetched is changed based on the subject distance and the focal distance.例文帳に追加

基準パターン画像は、新たな撮影画像でのパターンマッチング処理が行われるごとに逐次更新され、新たな基準パターン画像を取り込む範囲の大きさが被写体距離と焦点距離に基づいて変更される。 - 特許庁

To provide a simple processing method for patterning a chopstick, having excellent designability due to a synergistic effect of a combined pattern using a plurality of tubular films to which a pattern is applied and a pattern layer being a base.例文帳に追加

模様が施された複数のチューブ状フィルムと下地である模様層とを使った組み合わせ模様による相乗効果により、優れた意匠性を有する箸の簡単な模様付け加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing technique for suppressing deterioration of a specific form pattern (e.g., bar-code pattern) including digital information, when copying or scanning a printed output object with the specific form pattern printed.例文帳に追加

デジタル情報を含む特定形式パターン（バーコードパターン等）が印刷された印刷出力物をコピーないしスキャンするに際して、当該特定形式パターンの劣化を抑制することが可能な画像処理技術を提供する。 - 特許庁

This device extracts a characteristic pattern from a myoelectric pattern being action potential of a muscle by using logarithm converting processing, and generates an output control signal by discriminating the extracted characteristic pattern.例文帳に追加

本発明は、筋肉の活動電位である筋電パターンから、対数変換処理を用いて特徴パターンを抽出し、抽出された特徴パターンの識別を行って出力制御信号を生成することから成る。 - 特許庁

In copy-forgery-inhibited pattern application layer determination processing (S3301), on the basis of area in which a copy-forgery-inhibited pattern and document contents of document data are overlaid, printing of the copy-forgery-inhibited pattern is determined to watermark printing or overlay printing.例文帳に追加

地紋パターン適用レイヤー決定処理(Ｓ３３０１)は地紋パターンと原稿データにおける原稿内容とが重なる面積に基づき、地紋パターンの印刷を透かし印刷または重ね印刷に決定する。 - 特許庁

The best pattern for projection can be generated by simulating a space to be output by the pattern, comparing the simulation with an expected pattern and using a repetitive processing process adjusting the OPC features.例文帳に追加

パターンにより出力されるであろう空間像をシミュレートし、シミュレーションを所望のパターンと比較し、ＯＰＣフィーチャを調整する反復処理工程を使用して、投影に最適なパターンを生成することができる。 - 特許庁

To provide a method for setting and registering reference pattern, with which the position of a reference pattern can be exactly set and registered even when thinning processing is performed, and a pattern matching recognizing method for improving recognition accuracy.例文帳に追加

間引き処理を行った場合でも基準パターンの位置を正確に設定登録が可能な基準パターン設定登録方法と認識精度を向上させるパターンマッチング認識方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an information processor capable of eliminating the need for processing to develop compressed pattern data, making the display, output, etc., of the pattern data faster, and reducing the consumption of a memory necessary for displaying the pattern data.例文帳に追加

圧縮されたパターンデータを展開する処理を不要とし、パターンデータの表示、出力等を迅速化するとともに、パターンデータの表示に必要なメモリの使用量を減らすことが可能な情報処理装置を提供する。 - 特許庁

This mask M used in the proximity exposure device PE includes a mask pattern provided with a main pattern part 81 having a line-like opening, and a transmissive line-like auxiliary pattern part 83 formed in a side of the main pattern part 81 and not resolved after development processing.例文帳に追加

近接露光装置ＰＥで使用されるマスクＭには、ライン状の開口を有する主パターン部８１と、該主パターン部８１の側方に形成され、現像処理後に解像されない透過性でライン状の補助パターン部８３とを備えるマスクパターンが形成されている。 - 特許庁

An image processing device includes a tint block image creation section 80 that has spatial frequency of a pattern forming a half-tone pattern in a chromatic color that becomes apparent in duplication lower than spatial frequency of a pattern forming a half-tone pattern in an achromatic color that becomes apparent in duplication.例文帳に追加

地紋画像生成部８０において、複写時に顕在化する有彩色の中間調パターンを構成するパターンの空間周波数を、複写時に顕在化する無彩色の中間調パターンを構成するパターンの空間周波数よりも低くした。 - 特許庁

To form an alignment mark capable of improving superposition accuracy, and of reducing an exposure and superposition measurement processing time when a new pattern is formed by superposing a new pattern on a pattern formed by a double pattern to be exposed to light.例文帳に追加

ダブルパターンで形成されたパターンに新たなパターンを重ね合わせて露光して、新たなパターンを形成する際、重ね合わせ精度を向上させると共に、露光及び重ね合わせ計測処理時間を短縮することができるアライメントマークを形成できるようにする。 - 特許庁

To provide a substrate processing method in which a partial erase of a pattern in a pattern formation region can be prevented, a projected portion which projects from the pattern formation region can be easily removed, and to provide a production method of a member having a pattern region.例文帳に追加

パターン形成領域におけるパターンの部分的消失を防ぐことができ、パターン形成領域からはみ出した、はみ出し部分を容易に除去することが可能となる基板の加工方法、パターン領域を有する部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this process, a defect is detected by comparing a basic inspection image obtained from the basic pattern formed in the basic pattern region of the mask for inspection of pattern defect detection sensitivity with a defect reference image produced by image processing based on the design data of the defect pattern.例文帳に追加

この際、パターン欠陥検出感度検査用マスクの基本パターン領域に形成された基本パターンから取得した基本検査画像と、欠陥パターンの設計データを基に画像処理により生成した欠陥参照画像とを、比較して欠陥を検出する。 - 特許庁

The background pattern processing section 305 creates a background pattern on the basis of background pattern printing setting information in the intermediate data, and also stores individual intermediate creations and creation information created in the middle of the creation of the background pattern, and then reuses the stored intermediate creations.例文帳に追加

地紋処理部３０５は、中間データ内の地紋印刷設定情報をもとに地紋パターンを生成するとともに、この地紋パターンの生成途中に作成した各中間生成物および生成情報を記憶し、記憶した中間生成物を再利用する。 - 特許庁

To provide an automatic pattern extraction method and an automatic pattern extraction system which can automatically extract an enormous number of normal patterns to be used for performing abnormality diagnosis especially by collation processing with a normal pattern and can easily register the extracted normal patterns in a pattern library.例文帳に追加

特に正常パターンとの照合処理によって異常診断を行う際に用いる膨大な数の正常パターンを自動抽出して容易にパターンライブラリに登録することができるパターン自動抽出方法およびパターン自動抽出システムを提供すること。 - 特許庁

In the organic film pattern processing treatment, a heating process for heating the organic film pattern 901a from above, and a main process for reducing at least a part of the organic film pattern 901a or removing a part of the organic film pattern 901a, are conducted in this order.例文帳に追加

有機膜パターン加工処理では、有機膜パターン９０１ａを上方から加熱する加熱処理と、有機膜パターン９０１ａの少なくとも一部を縮小するか又は有機膜パターン９０１ａの一部を除去する本処理とをこの順に行う。 - 特許庁

Concerning the device for measuring and evaluating the form of the mask pattern, mask pattern image data are inputted and after pattern form data are extracted by processing these data by a computer, a prescribed form characteristic value is measured so that the pattern form can be evaluated.例文帳に追加

マスクパターンの形状計測評価装置において、マスクパターン画像データを入力し、これをコンピュータ処理してパターン形状データを抽出した後、所定の形状特性値を計測処理することにより、パターン形状を評価することを特徴とする。 - 特許庁

This device comprises a filter 41 for collecting particulates in exhaust emissions, a driving pattern learning means 52, 31 for learning the driving pattern of a driver, a regeneration processing method selection means 31 for selecting a different regeneration processing method according to the learned driving pattern, and a regeneration processing execution means 31 for executing the regeneration of the filter by using the selected regeneration processing method.例文帳に追加

排気中のパティキュレートを捕集するフィルタ（４１）と、ドライバーの運転パターンを学習する運転パターン学習手段（５２、３１）と、その学習した運転パターンに応じた異なる再生処理方法を選択する再生処理方法選択手段（３１）と、その選択した再生処理方法を用いてフィルタの再生処理を行う再生処理実行手段（３１）とを備える。 - 特許庁

A tendency of inducing wiring failures in a design layout pattern of a semiconductor device by lithography and processing is quantified as a score; whether the design layout pattern is good or not is discriminated by the score; and if the pattern is discriminated as good, a transfer layout pattern transferred from the design layout pattern is formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

リソグラフィとプロセスによる半導体装置の設計レイアウトパターンでの配線不良の発生しやすさをスコアとして定量化し、このスコアに基づいて設計レイアウトパターンの良否を判定し、この良否の判定が良であれば設計レイアウトパターンを転写した転写レイアウトパターンを半導体基板上に形成する。 - 特許庁

The method of manufacturing the build-up substrate includes: a surface processing process S1 as a process of forming a wiring pattern of a first layer; a catalyst pattern forming process S2 of forming a catalyst pattern with an ink jet; a baking process S3 for the catalyst pattern; and an electroless copper plating process S4 of forming the wiring pattern.例文帳に追加

ビルドアップ基板の製造工程は、１層目の配線パターンを形成する工程として、表面処理工程Ｓ１と、インクジェットで触媒パターンを形成する触媒パターン形成工程Ｓ２と、触媒パターンの焼成工程Ｓ３と、配線パターンを形成する無電解銅めっき工程Ｓ４とを備えている。 - 特許庁

A section 8 for generating an erasable pattern generates an erasable pattern, a section 9 for generating an unerasable pattern generates an unerasable pattern, and a 1st composition section 10 puts both the pattern together, so that image data obtained by composite processing image data generated according to an application program are printed out.例文帳に追加

本発明は、消失パターン生成部８によって消失パターンを生成し、非消失パターン生成部９によって非消失パターンを生成し、第１の合成部１０によって両パターンを合成処理し、アプリケーションプログラムに基づいて作成したイメージデータを合成処理することによって得られた画像データをプリント出力する。 - 特許庁

This playing pattern processing system displays a list LP of pieces of pattern data on a display 12 and when desired pattern data (both-hand accompaniments 1, 2, and 3, left-hand accompaniments 1 and 2, arpeggio 1, etc.), are indicated with a cursor CR, the schematized pattern corresponding to the pattern data is displayed at a chart display part CP.例文帳に追加

この発明の演奏パターン処理システムでは、複数のパターンデータがディスプレイ１２上にリストＬＰで表示され、所望のパターンデータ（各行：両手伴奏１，２，３、左手伴奏１，２、アルペジオ１、…）をカーソルＣＲで指示すると、当該パターンデータに対応する図式化されたパターンがチャート表示部ＣＰに表示される。 - 特許庁

In a screen processing section 17, a screen pattern is applied to the image to be processed to which averaging processing has been applied and which has been further converted into the resolution R2, at the same or approximately same cycle as that of the averaging processing and screen processing is applied thereto.例文帳に追加

平均化処理され、さらに解像度Ｒ２に変換された処理対象画像に対し、スクリーン処理部１７では前記平均化処理と同一又は略同一の周期でスクリーンパターンを適用し、スクリーン処理を施す。 - 特許庁

This data processing prediction means 206 predicts the data processing pattern of the other node based on a history of a data processing request stored in a data processing request history storage means 207, and decides whether to distribute the data to the node in advance.例文帳に追加

データ処理予測手段２０６は、データ処理要求履歴格納手段２０７に格納されているデータ処理要求の履歴を基に他ノードのデータ処理パターンを予測して、このノードにデータを事前に配信するか否かを判断する。 - 特許庁

When the processing is an initial processing in S7, the processing advances to S8, and based on the stored control table, a developing bias is corrected in the rotation cycle of the photoreceptor, and again the belt-like pattern is created, and the processing advances to S3 where the density unevenness is detected.例文帳に追加

Ｓ７で初回処理の場合はＳ８に進み、上記保存した制御テーブルに基づいて、感光体回転周期で現像バイアスを補正して、再度、帯状のパターンを作成し、Ｓ３に進んで濃度むらを検出する。 - 特許庁