「reduced pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

In accordance with a sentence inputted by a user or obtained from a sentence recording part 2, a pattern setting part 4 sets the array pattern of reduced images.例文帳に追加

ユーザによって入力された又は文章記録部２から取得された文章に従ってパターン設定部４において縮小画像の配列パターンが設定される。 - 特許庁

Thus, a retrieval space is reduced which is necessary for the selection of the MC/DC pattern, and to efficiently and quickly search the MC/DC pattern.例文帳に追加

このようにすることで、ＭＣ／ＤＣパターンの選定に必要な探索空間を削減することができ、ＭＣ／ＤＣパターンを効率的かつ迅速に求めることが可能となる。 - 特許庁

The reinforcing pattern 3 is formed in an extended portion 3A in a thin shape that the width L of the rod butt side end portion of the reinforcing pattern 3 along the circumference direction is reduced toward the butt side.例文帳に追加

補強パターン３の竿尻側端部の形状を、竿尻側程、竿の周方向に沿った幅Ｌが短くなる細幅形状の延長部分３Ａに形成してある。 - 特許庁

Since a reaction from a dry pattern PD is absorbed by the upper and lower elastic plates EP2 and EP1, a pressing force concerning the dry pattern PD is reduced.例文帳に追加

従って、乾燥パターンＰＤからの反力は、下側弾性板ＥＰ１と上側弾性板ＥＰ２にて吸収するため、乾燥パターンＰＤに係る押圧力は低減される。 - 特許庁

To provide a laser device which outputs an elliptical pattern (including oval) of a laser beam, especially a green line pattern of a laser beam and furthermore is reduced in size.例文帳に追加

出力するレーザー光を楕円（長円を含む）パターン、とくに、グリーンラインパターンのレーザ光が出力でき、しかも小型化が可能なレーザ装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a pattern simulation method by which a process time can be reduced, when a plurality of times of simulations are needed for a substrate pattern and the data amount for the process can be decreased.例文帳に追加

基板パターンの複数回のシミュレーションを要する場合の処理時間を短縮できるとともに、処理のデータ量を低減できるパターンシミュレーション方法を提供する。 - 特許庁

Since information and data concerning demonstration print, nozzle check pattern print, and registration adjusting pattern print are not required in the printer, memory size for storing data can be reduced and thereby the ROM capacity can be reduced.例文帳に追加

このことにより印刷装置内部にデモプリント、ノズルチェックパターン印刷、レジ調整パターン印刷に関する情報及びデータを持つ必要が無く、データ格納用のメモリサイズを削減出来るので、ＲＯＭ容量の削減を行うことが出来る。 - 特許庁

When the display result of the second display game is determined to be a specified result mode, a reduced time control means 1200 varies the reduced required time for every variable display of an ordinary pattern display device 14 reduced more than ordinarily in a reduced time mode.例文帳に追加

第２表示遊技の表示結果が特定結果態様に確定した場合、時短制御手段１２００は、時短モードにおいて通常時より短縮される普通図柄表示装置１４０の可変表示１回毎の短縮所要時間を変化させる。 - 特許庁

To provide a method of forming a resist pattern, by which the dimension of a resist pattern can be reduced with high dimensional controllability, regardless of the roughness and denseness of the pattern, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device using the method.例文帳に追加

パターンの疎密にかかわらず、高い寸法制御性でパターン寸法の縮小化を図ることができるレジストパターンの形成方法およびその方法を用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern exposing method and an aligner device capable of exposing a fine pattern using a mask original plate on which a relatively large pattern is formed in a reduced projection exposing method utilizing holography.例文帳に追加

ホログラフィを利用した縮小投影露光方法において、比較的大きなパターンが形成されたマスク原盤を用いて微細パターンを露光することのできるパターン露光方法および露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of framing resist pattern by which the framing cost of a resist pattern can be reduced by improving the utilization efficiency of a resist material, and to provide a method of removing the resist pattern and a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

レジスト材料の利用効率を向上させて、作製コストの削減を目的としたレジストパターンの作製方法、レジストパターンの除去方法、半導体装置の作製方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

A mask pattern conversion part 15 re-judges a valid pixel on the basis of mask judgement reference information from the enlarged/reduced mask pattern and converts it to the mask pattern composed of binary data indicating only whether or not it is valid.例文帳に追加

マスクパターン変換部１５が、拡大縮小処理されたマスクパターンから、マスク判定基準情報に基づいて有効画素を再判定し、有効か否かのみ示す２値のデータからなるマスクパターンに変換する。 - 特許庁

Thereby, electric noise from the EL element 1 to the circuit pattern 21 can be shut off by the second shield conductive pattern 23, and error operation of the circuit pattern 21 can be prevented, and further, since the first shield conductive pattern 16 and the second shield conductive pattern 23 become equal potential, electrostatic force generated between the backplate 14 and the second shield conductive pattern 23 can be reduced.例文帳に追加

よって、第２シールド導電パターン２３によりＥＬ素子１から回路パターン２１への電気ノイズを遮蔽でき、回路パターン２１の誤動作を防止でき、さらに第１シールド導電パターン１６と第２シールド導電パターン２３が同電位となるので、背面電極１４と第２シールド導電パターン２３との間に生じる静電力を低減できる。 - 特許庁

Additionally a defect transfer property onto the exposure substrate of defect seed generated at a pattern connection section or the like can be reduced.例文帳に追加

さらに、パターンつなぎ部などに生じた欠陥種の露光基板上への欠陥転写性を低減することができる。 - 特許庁

As a result, the light distribution pattern with reduced luminance unevenness is obtained, even if a reflecting mirror is not actively installed.例文帳に追加

これにより、積極的に反射鏡を設けなくても、明るさムラを低減した配光パターンを得ることができる。 - 特許庁

The keys can be arrayed in a hexagon pattern so that a distance in which a pointer should be moved can be reduced.例文帳に追加

ポインタを移動しなければならない距離を低減するために、前記キーは、六角形パターンに配列することもできる。 - 特許庁

To provide a patch antenna reduced in overall patch size and weight and broadened in the directional characteristic pattern of the antenna.例文帳に追加

パッチの全体的サイズと重さを低減するとともに、アンテナの方向特性パターンを広くしたパッチ・アンテナを提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition with which variation in a pattern dimension in a substrate surface can be reduced.例文帳に追加

基板面内におけるパターン寸法のばらつきを低減することのできるポジ型感光性樹脂組成物を提供。 - 特許庁

Furthermore, the number of connection vias with an incorporated wiring layer is reduced by collecting partial metal patterns as one large pattern.例文帳に追加

また、一部の金属パターンはまとめて一つの大きなパターンとし、内蔵配線層との接続ビア数を低減する。 - 特許庁

Thus, the bubbles in the circuit pattern, which are formed by applying and curing conductive paste 4, can be reduced.例文帳に追加

従って、導電性ペースト４を塗布し且つ硬化して形成される回路パターン中の気泡を低減することができる。 - 特許庁

To provide a printed circuit board with reduced characteristic impedance of wiring pattern, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

配線パターンの特性インピーダンスを小さくすることが可能な配線回路基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The pattern is exposed to isotropic wafer liquid etchant, and the feature dimensions are reduced to second smaller dimensions.例文帳に追加

続いて、そのパターンを、等方性ウェハ液体エッチャントにさらして、フィーチャ寸法を第２のより小さな寸法に縮小する。 - 特許庁

The pattern is transferred to a photoresist 6 on a semiconductor wafer 5 by reduced projection exposure using the photomask M.例文帳に追加

このフォトマスクＭを用いた縮小投影露光処理によって半導体ウエハ５上のフォトレジスト６にパターンを転写する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a wiring circuit board, wherein erroneous detection of a defect of a wiring pattern is sufficiently reduced.例文帳に追加

配線パターンの不良の誤検出が十分に低減された配線回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To determine an evaluation point at an appropriate position with reduced computational complexity when carrying out optical proximity correction on a layout pattern.例文帳に追加

レイアウトパターンに対して光近接効果補正を行う際、少ない演算量で評価点を適正な位置に決定する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic image recorder which prevents a defective image due to a Rosetta pattern when recording an image using variable density toner and whose cost is reduced.例文帳に追加

濃淡トナーを用いて画像を記録するにあたり、ロゼッタパターンによる画像不良を防止し、また、コストダウンを図る。 - 特許庁

To provide a thin film magnetic head used in a helical tape scan system, in which the occurrence of recording pattern disturbance of an adjacent track is reduced.例文帳に追加

ヘリカルテープスキャンシステムに用いる薄膜磁気ヘッドにおいて、隣接トラックの記録パターン乱れの発生を低減する。 - 特許庁

By the notched hole 50 and the recessed and projecting pattern, noise caused by the air flow on the surface of the disk is reduced.例文帳に追加

切り欠き穴５０及び凹凸パターンによってディスク表面の空気流を原因とする騒音が低下される。 - 特許庁

As a result, the number of the valid lines L1-L5 formed for five lines at the time of the fluctuation of the respective pattern groups 22-24 is reduced.例文帳に追加

その結果、各図柄群２２〜２４の変動時に５本形成された有効ラインＬ１〜Ｌ５の数が減少する。 - 特許庁

To provide a solid state imaging device in which the I/O relation of a signal is linear and fixed pattern noise is reduced.例文帳に追加

信号の入出力関係が線形であり、また、固定パターン雑音が低減された固体撮像装置を提供する。 - 特許庁

To pattern a cement product by utilizing calcium efforescence which has been only a target to be reduced or prevented.例文帳に追加

従来、低減または防止の対象でしかなかったカルシウム白華を利用して、セメント製品に模様付けを行なう。 - 特許庁

To provide a solid state image pickup device in which a satisfactory dynamic range can be obtained, and a solid pattern noise can be reduced.例文帳に追加

良好なダイナミックレンジが得られ、かつ固定パターン雑音を軽減することができる固体撮像装置を提供する。 - 特許庁

To quickly perform pattern matching while suppressing degradation of precision even in the case that a reference image cannot be reduced.例文帳に追加

参照画像を小さくすることができない場合であっても精度の低下を抑えつつ迅速にパターンマッチングを行う。 - 特許庁

Thus, the need of uselessly prolonging the distance between the transfer transistors is eliminated and the pattern occupancy area of the row decoder is reduced.例文帳に追加

よって、転送トランジスタ間の距離を無駄に広げる必要がなくなり、ロウデコーダのパターン占有面積を小さくできる。 - 特許庁

Since the automatically generated ideal pattern is generated by using plural unit patterns, influence of noise is reduced.例文帳に追加

自動生成される理想パターンは、複数の単位パターンを用いて生成されているので、ノイズの影響が低減される。 - 特許庁

By providing rigidity increased portions 20 canceling out a reduced amount of the tire axle force generated by the lug grooves 13 on surfaces of the blocks 14, exciting force of an axle is reduced, and the pattern noise caused by it is effectively reduced.例文帳に追加

ブロック１４の表面に、ラグ溝１３で発生するタイヤ車軸力の減少分を打ち消す剛性増加部分２０を設けることにより、車軸の加振力を低減して、これに起因するパターンノイズを効果的に減少する。 - 特許庁

To provide a method for forming a reticle by which the gap between a chip end and a dummy pattern can be made uniform, the time for producing and processing the dummy pattern can be reduced, and the amount of reticle data can be reduced, and to provide a program for forming a reticle.例文帳に追加

チップ端辺−ダミーパターン間の間隔を均等にすることが可能であり、ダミーパターンの発生処理時間の短縮化およびレチクルデータ量の削減が可能なレチクルの作成方法、およびレチクルの作成プログラムを提供することである。 - 特許庁

To obtain a photomask pellicle in which vibration of the pellicle is suppressed and distortion or aberration of a focused pattern during exposure are reduced when a photomask works during exposure, and a pattern image with little out-of-focus state or pattern distortion in the image and high accuracy can be obtained.例文帳に追加

露光中のフォトマスク動作時に、ペリクルの振動を抑制し、露光における結像パターンの歪や収差が緩和して、像のボケやパターン歪の少ない高精度なパターン像を得ることができるフォトマスク用ペリクルを得る。 - 特許庁

To easily and inexpensively create a fine conductor pattern through reduced steps when creating a conductor pattern, and to create an accurate fine conductive pattern by eliminating precision reduction in manufacturing steps.例文帳に追加

導体パターンを作成するにあたり、少ない工程で容易かつ安価に微細導体パターンを作成することを目的とし、また、製造工程での精度低下を無くし精度良い微細導電パターンを作成することを目的とする。 - 特許庁

Since the pattern size of the master mask is made larger than the pattern size of the objective mask, the rounding of the pattern due to diffraction can be decreased and the time for inspection can be reduced even when a die-to-DB comparison method is applied.例文帳に追加

マスターマスクは、目的とするマスクのパターンサイズよりもパターンサイズを十分大きくできるため、回折によるパターンの丸まりを小さくできるため、Ｄｉｅ ｔｏ ＤＢ比較法を適用させても検査時間を短くできる。 - 特許庁

An electronic circuit device is provided with the inductor element in a structure for which a spiral conductor pattern 200 and a spiral conductor pattern 400 are piled up and the occupancy area of the conductor pattern on a substrate 100 is reduced.例文帳に追加

電子回路装置は、スパイラル状の導体パターン２００とスパイラル状の導体パターン４００とを重ねた構造のインダクタ素子を有しており、基盤１００における導体パターンの占有面積を小さくすることができる。 - 特許庁

It is sufficient that the main control device 30 determines a big prize pattern or a failure pattern which is formed by a single symbol as a determination pattern, so its load in processing is reduced as compared with the case of deciding a combination of three symbols.例文帳に追加

主制御装置３０は単一の図柄で構成される大当たり図柄又は外れ図柄を確定図柄として決めればよいので、例えば３つの図柄による組合せを決める場合に比べて処理上の負担が減る。 - 特許庁

When the master pattern M is shifted from the object pattern P to the right side in a figure by 0.4 picture elements, further satisfactory coincidence is generated in the both pattern as shown in (c), and the gradation difference is reduced in the both patterns as shown in (d).例文帳に追加

これに対してマスターパターンＭをオブジェクトパターンＰに対して０．４画素分、図中右側へ揺すらせると（ｃ）に示すように両パターンがよりよい一致を示し、（ｄ）に示すように両パターンには階調差が少なくなっている。 - 特許庁

To provide a pattern data correcting method, a pattern data correcting device and its program by which load of calculation treatment to an electronic computer used for data conversion can be reduced when 'process resize' and 'loading effect correction' are executed to pattern data.例文帳に追加

パターンデータに「プロセスリサイズ」と「ローディング効果補正」を施す場合に、データ変換に用いる電子計算機にかかる計算処理の負荷を軽減することができるパターンデータ補正方法、パターンデータ補正装置およびそのプログラムを提供する。 - 特許庁

A point row Si is determined on an outline of the hand written outline pattern, the outline pattern is defined again as a polygonal pattern, the polygonal pattern is divided to Delaunay's triangles, a first skeleton model using circumcenters of respective triangles as nodes is provided, and the nodes are sequentially reduced to provide a desired skeleton model.例文帳に追加

手書きの輪郭図形の輪郭上に点列Siを定めて輪郭図形を多角形図形として再定義し、その多角形図形をドローネ三角形に分割し、それぞれの三角形の外心をノードとする１次スケルトンモデルを得、ノードを逐次減数して所望のスケルトンモデルを得る。 - 特許庁