「reduced pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

Thus, the overcoat layer, photospacer and sub photospacer are not pattern-formed separately and successively, but are collectively formed, thereby the number of processes being reduced.例文帳に追加

これにより、オーバーコート層とフォトスペーサとサブフォトスペーサとを、順次別個にパターン形成するのではなく一括形成し、工程数を削減する。 - 特許庁

In correcting manual color shift by a user, the load on the user is reduced, by easily printing an image pattern which can read the correction value of color shift.例文帳に追加

ユーザによる手動色ずれ補正の際、容易に色ずれの補正値を読み取れる画像パターンを印字することで、ユーザの負荷を低減する。 - 特許庁

To provide a developing method and developing equipment of a photosensitive film, where irregularities in pattern width in a substrate surface can be reduced, as compared with the conventional cases.例文帳に追加

従来に比べて基板面内のパターン幅のばらつきを小さくできる感光膜の現像方法及び現像装置を提供する。 - 特許庁

Consequently, torque step caused by engine variation can be reduced and rotation fluctuation due to change over of the injection pattern can be kept low.例文帳に追加

これにより、エンジンの機差バラツキに起因するトルク段差を低減でき、噴射パターンの切り替えによる回転変動を小さく抑えることができる。 - 特許庁

To provide a diffraction optical element with high reproducibility of the dimension and the shape of its pattern and with reduced difference in the optical characteristics between itself and the substrate.例文帳に追加

パターンの寸法及び形状の再現性が高く、基板との光学特性の相違が低減された光学回折素子を提供する。 - 特許庁

To provide an etching apparatus by which the dispersion of etching rates can be reduced as small as possible in forming a wiring pattern on a printed circuit board.例文帳に追加

プリント基板の配線パターンなどを形成するに際し、エッチング速度のバラツキを少なくできるようにしたエッチング装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an intaglio for printing in which surface roughness of a printing pattern can be reduced and a method of manufacturing a laminated electronic component using the same.例文帳に追加

印刷のパターンの表面粗さを小さくできる印刷用凹版、及びこれを用いた積層型電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

Thus, the fluctuation of the distance value or the similarity in the local area including a lot of noise is reduced, the fluctuation of the distance value or the similarity in the entire character pattern is reduced and correct character recognition is made possible.例文帳に追加

これによりノイズが多く含まれている局所領域での距離値又は類似度の変動を低減し、文字パターン全体での距離値又は類似度の変動を低減させ、正しい文字認識を可能とする。 - 特許庁

As a result, the relative dielectric constant between wiring patterns is reduced when the wiring patterns and the interlayer dielectrics 11 to 15 are laminated, and the distribution capacity of the wiring pattern can be reduced, thus increasing a signal speed.例文帳に追加

この結果、配線パターンと層間絶縁膜１１〜１５とを積層した場合配線パターン間の比誘電率が低くなり、配線パターンの分布容量を低くすることができるので、信号の高速化を図ることができる。 - 特許庁

In the present invention, strong adsorption on the interface between the stamp and the substrate is reduced by injecting the vapor of small molecule material, so that the accuracy of pattern transfer is increased, the operations are simplified, and the cost is reduced.例文帳に追加

本発明は、小分子物質の蒸気を注入することによって、圧模と基体との界面の強い吸着力を減らすようにして、パターン転写の高精度化、操作の簡単化、低コスト化が実現できる。 - 特許庁

To provide a mixer in which manufacturing steps are reduced and manufacturing cost is reduced by providing a structure in which three independent ports are subjected to pattern formation on the same substrate, and to provide a high frequency module and a communication device.例文帳に追加

独立した３つのポートを同一基板上にパターン形成することができる構造にして、製造工程の削減と製造コストの低減化を図ったミキサ，高周波モジュール及び通信機を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a wiring pattern inwhich quality problems such as disconnection can be reduced at the time of forming a wiring pattern, and to provide a process for manufacturing a device, a device, an electrooptical device, and an electronic apparatus.例文帳に追加

配線パターンを形成するときに、断線などの品質問題を減少させることができる配線パターンの形成方法、デバイスの製造方法、デバイス、及び電気光学装置、並びに電子機器を提供する。 - 特許庁

The track width can be reduced when making a mask pattern for the track width of a reproducing head, by using a mask pattern of a mono- layer resist to make an electrode and insulation layer by a liftoff method.例文帳に追加

電極及び絶縁膜などをリフトオフ法によって形成する時にマスクパターンをレジストの単層パターンにすることにより、再生ヘッドのトラック幅形成用マスクパターン作成時に狭トラック化が対応可能となる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method using a positive resist composition suitable for multiple exposures, ensuring that in the multiple exposure process of performing exposure a plurality of times on the same resist film, the pattern is reduced in the film loss.例文帳に追加

同一のレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにおいて、パターンの膜減りを抑えられる、多重露光に好適な、ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a frame pattern detection circuit which can detect a frame pattern even in a system to which a synchronizing signal is inputted only once and with circuit scale of which can be reduced, even if the number of parallel developments becomes large.例文帳に追加

同期信号が１回しか入力されないシステムにおいてもフレームパタン検出が行え、パラレル展開数が多くなった場合でも回路規模を小さくすることが可能なフレームパタン検出回路を提供する。 - 特許庁

Consequently, the force applied to the fine pattern of the substrate W by the surface tension of pure water can be reduced even if the substrate W is lifted upward from the pure water, and the fine pattern of the substrate W can be prevented from collapsing.例文帳に追加

したがって、純水から上方へ基板Ｗを持ち上げても、基板Ｗの微細パターンが純水の表面張力により受ける力を低減でき、基板Ｗの微細パターンが倒れるのを防止できる。 - 特許庁

To provide an antenna sheet with an antenna pattern formed by etching, wherein poor communication by a chipped pattern due to overetching or side etching is reduced and proper communication characteristics are secured.例文帳に追加

本発明は、エッチングによりアンテナパターンを形成したアンテナシートにおいて、オーバーエッチングやサイドエッチングによるパターン欠けによる通信不良を低減するとともに通信特性の良好なアンテナシートを得ることを課題とする。 - 特許庁

Furthermore, the concentric circle pattern is not formed or the formation of the concentric circle pattern can be reduced by condensing a plurality of the laser beams into one flux, and reliability of the semiconductor device can be improved.例文帳に追加

さらに、複数のレーザ光を一束に集光することにより、同心円模様が形成されない、もしくは同心円模様の形成を低減することができ、半導体装置の信頼性を向上することができる。 - 特許庁

Then, in the first mask opening, a gradation region where film thickness is gradually reduced to the upper/lower edges or right/left edges of the film formation pattern is formed, and, in the second mask opening, the whole pattern is formed, so as to be a uniform film thickness.例文帳に追加

そして第１のマスク開口では成膜パターンの上下又は左右端に膜厚さが漸減するグラデーション領域を形成し、第２のマスク開口ではパターン全体を均一な膜厚さに形成する。 - 特許庁

To provide a game machine where a processing burden on a main control part is reduced by simplifying processing by the main control part even when carrying out performance by which the number of display lines of a performance pattern is varied each time on a pattern display device.例文帳に追加

図柄表示装置において演出図柄の表示ライン数がその都度変化する演出を行う場合でも、主制御部の処理を簡素化し、その処理負担を軽減した遊技機を提供する。 - 特許庁

To prevent wiring from being reduced in reliability and manufacturing yield due to it that a wiring pattern, which is formed resting on single minimum line width data in the formation of a wiring mask pattern, is used in a semiconductor device or the like.例文帳に追加

配線マスクパターン発生において、単一最小線幅データで発生させた配線パターンを半導体装置等で使用することに起因する配線の信頼性低下や製造歩留り低下を抑制する。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave shielding filter that is inexpensive and practicable using aluminum, and that resolves poor chemical-etching pattern accuracy which is caused by replacing a metal pattern material of copper with inexpensive aluminum, and to enable reduced costs of a multifunctional filter and an image display apparatus.例文帳に追加

金属パターンの材質を銅から安価なアルミニウムに代えると生じる、ケミカルエッチングのパターン精度不良を解消して、アルミニウムを用いた安価でしかも実用可能な電磁波遮蔽フィルタを提供する。 - 特許庁

To record a patch pattern enabling patch measurement in which the effect of density fluctuations in the patch pattern caused by variation in the moving speed of a recording head and in the temperature of the recording head in calibration is precisely reduced.例文帳に追加

キャリブレーションにおいて、記録ヘッドの移動速度の変動と記録ヘッドの温度変動に起因した、パッチパターンにおける濃度のばらつきの影響が精度よく低減されたパッチ測定を可能とするパッチパターンを記録する。 - 特許庁

In the heating process, an influence of thermal contraction is reduced because the projection part 63T is formed on the preparatory resist pattern 63, so the preparatory resist pattern 63 is not apt to become round at the position P3.例文帳に追加

加熱工程において、前準備レジストパターン６３に突起部６３Ｔが形成されていることにより熱収縮の影響が緩和されるため、位置Ｐ３において前準備レジストパターン６３が丸みを帯びにくくなる。 - 特許庁

Thus, the matching patterns in different featured spaces, that is, the shape of the object and the brightness(luminance) of the surrounding environment are individually provided so that the pattern matching precision can be improved, and that the learning arithmetic load of the matching pattern can be reduced.例文帳に追加

対象物の形状と周囲環境の明るさ（輝度）という異なる特徴空間のマッチングパターンを個別に持つため、パターンマッチング精度が向上し、かつマッチングパターンの学習演算負荷も少なくなる。 - 特許庁

To provide a reduced pressure drying apparatus which does not make to generate a minute defect on the front surface of a coating film by eliminating the ununiformity of the film thickness resulting from a remaining solvent in reduced pressure drying used when a pattern is formed by a photolithography method, and to provide a reduced pressure drying method.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法によってパターンを形成する際に用いる減圧乾燥において、残留溶剤に起因した膜厚の不均一性を解消し、塗膜の表面に微小欠陥を発生させない減圧乾燥装置、減圧乾燥方法を提供すること。 - 特許庁

By constituting this semiconductor device by a circuit pattern 23 provided with a plurality of mounting areas, circuit elements (memory chips 27) respectively fixed to the front and back surfaces of the circuit pattern 23 and insulating resin 30 for sealing the circuit pattern 23 and the memory chips 27, a mounting area is reduced.例文帳に追加

複数の実装領域を有する回路パターン２３と、当該回路パターン２３の表裏面にそれぞれ固着された回路素子（メモリチップ２７）と、前記回路パターン２３及び前記メモリチップ２７を封止する絶縁性樹脂３０とで半導体装置を構成することで、実装面積を低減化する。 - 特許庁

A second reduction layout which is reduced by a second reduction width larger than the first reduction width relative to the pad pattern layout is obtained, and then an assist pattern layout which is self-aligned to the pad pattern layout by deducting the second reduction layout from the first reduction layout is obtained.例文帳に追加

パッドパターンのレイアウトに対して第１縮小幅より大きい第２縮小幅に縮小された第２縮小レイアウトを得た後、第１縮小レイアウトから第２縮小レイアウトを差引してパッドパターンのレイアウトに自己整列される補助パターンのレイアウトを得る。 - 特許庁

In one embodiment, the image forming apparatus for pattern matching reduces or enlarges design data in accordance with a target pattern size on forming a matching image; and the apparatus forms an image for matching, on the basis of the reduced or enlarged pattern.例文帳に追加

上記目的を達成するための一態様として、マッチング用画像を形成するに当たり、設計データを目標パターンサイズに基づいて、縮小、或いは拡大し、当該縮小、或いは拡大が行われたパターンに基づいて、マッチング用の画像を形成するパターンマッチング用画像作成装置を提案する。 - 特許庁

To provide copper foil which has a high etching factor, has the excellent straightness of the bottom line of a circuit pattern, leaves no copper grains in circuit pattern resin, can produce a fine pattern, has excellent visibility, and has a reduced high frequency transmission loss, and to provide a production method therefor.例文帳に追加

本発明は、高いエッチングファクターを持ち、回路パターンのボトムラインの直線性に優れ、なおかつ回路パターンの樹脂中に銅粒子が残ることなく、ファインパターンが作製でき、視認性に優れ、高周波伝送ロスの少ない銅箔並びにその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

In a case of a low beam distribution pattern LP, an overhead sign board can be irradiated by using the reflected light C which is not used originally and a usual light volume of the low beam distribution pattern LP is not reduced and an optical designing of the low beam distribution pattern LP can be made easy.例文帳に追加

そのため、ロービーム配光パターンＬＰの際も、本来使用しない反射光Ｃを利用してオーバーヘッドサインを照射することができるため、ロービーム配光パターンＬＰの本来の光量が低下せず、ロービーム配光パターンＬＰの光学的設計が容易になる。 - 特許庁

Because the touch panel 10 has a structure supporting the first conductive pattern 21a and the second conductive pattern 22a by the common transparent base material 11, an element thickness can be reduced as compared with a structure wherein two base materials each formed with a conductive pattern are bonded to each other.例文帳に追加

上記タッチパネル１０によれば、共通の透明基材１１で第１の導体パターン２１ａ及び第２の導体パターン２２ａを支持する構造を有するため、導体パターンが各々形成された２枚の基材を貼り合わせる構造と比較して、素子厚みを低減することができる。 - 特許庁

Since a circuit pattern and a terminal arrangement in the semiconductor power module 9 are laid out so that a sustain pulse current path becomes the shortest path, a parasitic inductance on the internal circuit pattern and a voltage drop resulting from the wiring of the circuit pattern can be reduced.例文帳に追加

また、半導体パワーモジュール９内部の回路パターン及び端子配列は、サステインパルス電流経路が最短経路となるようにレイアウトされているので、内部の回路パターンに寄生するインダクタンス、及び回路パターンの引き回しによる電圧降下を低減することができる。 - 特許庁

Then, a dielectric multi-layer film 2a accumulated on the mask pattern 11a is reduced as small as possible, and resist lift-off agent etc., can permeate through almost the whole surface of the mask pattern 11a at the lift-off process, then, the mask pattern can be easily and rapidly removed.例文帳に追加

それによって、マスクパターン１１ａ上に堆積する誘電体多層膜２ａは最小限に留まり、リフトオフ工程の際にレジスト剥離液等がマスクパターン１１ａのほぼ全面から浸透できることによって、マスクパターンの除去を容易かつ速やかに実施することが可能となる。 - 特許庁

To provide a mask pattern correction method in which a difference between patterns is reduced in the amount of dimensional change due to light exposure differing depending on each pattern shape, dimensional change depending on the pattern shape is suppressed even with varied light exposure, and transfer accuracy is improved, and to provide a photomask.例文帳に追加

パターンの形状ごとに異なっていた露光量に対する寸法変化量のパターン間差を小さくし、露光量を変動させても、パターン形状に依存した寸法変化が抑制され、転写精度を向上させるマスクパターンの補正方法およびフォトマスクを提供する。 - 特許庁

A pattern to be intermittently turned ON is set in a memory 32, and when a read switch 31 is turned ON, a transmission controller 30 repeatedly reads the pattern and performs control so as to operate a transmission amplifier 3 and output carrier waves only during the ON level of the pattern and thus, the power consumption is reduced.例文帳に追加

メモリ３２に間欠的にオンとなるパターンを設定しておき、読み取りスイッチ３１がオンされると送信制御器３０はこのパターンを繰り返し読み出し、パターンのオンレベルの間だけ送信アンプ３が作動して搬送波を出力するように制御することで消費電力を低減する。 - 特許庁

Consequently, the flow of softened resin in the direction from the central part 12 to the peripheral part 11 can be controlled and positional shift of the conductor pattern 3 can be reduced.例文帳に追加

従って、中央部１２から周辺部１１方向への軟化した樹脂の流動を抑制でき、それに伴う導体パターン３の位置ずれを低減できる。 - 特許庁

To easily adjust the ratio of a light diffusion pattern to the other rough surface part even if the thickness of a light guide plate is reduced, and to obtain uniform surface illumination.例文帳に追加

導光板の板厚を薄くしても、光拡散パターンとその他の粗面部との比率の調整が容易にでき、均一な面照明を可能にする。 - 特許庁

Uneven luminance can be dissolved or reduced as a display characteristic because a design characteristic based on such an arrangement pattern is overlapped on a panel manufacturing characteristic.例文帳に追加

パネル製造特性に対し、上記配置パターンによる設計特性が重ね合わせられることで、表示特性では輝度ムラが解消または低減される。 - 特許庁

Thereby, an initial focus of the primary electron beam can be well focused to a requested domain of in the sample surface, and pattern shift phenomenon generation can be reduced.例文帳に追加

これにより、試料表面での所望の領域に１次電子ビームの初期フォーカスを良好に合わせられ、パターンシフト現象発生を減らせる。 - 特許庁

That is to say, the delay variation due to layout pattern correction can be accurately estimated and a frequency for reverifying timing can be reduced.例文帳に追加

すなわち、本実施形態によれば、レイアウトパターン修正による遅延変動を正確に見積もることができ、タイミングの再検証を行う頻度を削減できる。 - 特許庁

By using such constitution, as the first nonvolatile memory bank and the second nonvolatile memory bank can share data lines, pattern occupancy area can be reduced.例文帳に追加

このような構成によれば、第１の不揮発性メモリバンクと第２の不揮発性メモリバンクでデータ線を共有できるので、パターン占有面積を縮小できる。 - 特許庁

The arrangement of the brake and the accelerator, a surface discrimination stamp pattern, and a stamped matter in reduced size are firmly fixed to the center of a steering wheel by adhesives.例文帳に追加

ハンドルの中央部に、ブレーキとアクセルの配置、表面の区別刻印模様、各寸法の縮尺で刻印したものを接着剤で強固に張りつける。 - 特許庁

Since an offset voltage is given by Voff=Vcc*(R1-R1)/(R1+R2)=0, the off-set voltage resulting from a deviation in the arrangement pattern can be reduced to zero.例文帳に追加

オフセット電圧Ｖｏｆｆ＝Ｖｃｃ・（Ｒ１−Ｒ１）／（Ｒ１＋Ｒ２）＝０になるため、配置パターンの誤差に起因するオフセット電圧を０にすることができる。 - 特許庁

This invention includes a step of forming the resist pattern by discharging a composition containing a photosensitizer on an object to be processed under reduced pressure.例文帳に追加

本発明は、減圧下で、被加工物上に、感光剤を含む組成物を吐出してレジストパターンを形成するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁