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semiconductor processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4100件
METHOD OF PROCESSING EAVE-SUPPORTING SHAPE SUBSTANCE AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME METHOD例文帳に追加
庇部支持型形状物の加工方法およびその加工方法を用いた半導体装置の作製方法 - 特許庁
To improve processing efficiency such as rewriting of data for the nonvolatile memory of a semiconductor memory device or the like.例文帳に追加
半導体記憶装置の不揮発性メモリに対するデータの書換えなどの処理効率を向上させる。 - 特許庁
To provide an improved gas supply system used in a reaction chamber used in semiconductor substrate processing.例文帳に追加
半導体基板処理に用いられる反応チャンバーで用いられるガス供給システムの改良に関する。 - 特許庁
To provide an adhesive tape for semiconductor wafer processing that reduces the occurrence of chipping caused during dicing.例文帳に追加
ダイシング時に発生するチッピングの発生を低減できる半導体ウェハ加工用粘着テープを提供する。 - 特許庁
To provide a novel and useful quartz member used for a substrate processing apparatus relates to semiconductor manufacturing.例文帳に追加
半導体製造に係る基板処理装置に用いられる、新規で有用な石英部材を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing a plurality of semiconductor wafers by processing a single crystal.例文帳に追加
単結晶を加工することによって多数の半導体ウェハを製造する方法を提供することである。 - 特許庁
To provide a semiconductor device for executing interrupt processing even during the data rewriting operation of a storage part.例文帳に追加
記憶部のデータ書換え動作中でも割込み処理を実行ができる半導体装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing semiconductor device for suppressing fluctuation in micro-processing of a memory cell.例文帳に追加
メモリセルの微細加工のばらつきを抑制することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To reduce contamination and reduce wafer cleaning cost in semiconductor wafer processing.例文帳に追加
半導体ウエハ処理に関し、汚染を低減し、ウエハ洗浄コストを低下させる装置及び手法を提供する。 - 特許庁
To detect the completion of a reaction in a plasma apparatus which is used for processing of semiconductor wafer.例文帳に追加
半導体ウエハの処理に用いられるプラズマ装置の反応の終点を検出するようにすること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device which can obtain desired proper processing status.例文帳に追加
所望の適正な加工状態を得ることが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor integrated circuit capable of performing an SNMP (Simple Network Management Protocol) processing with less storage capacity.例文帳に追加
少ない記憶容量でSNMPの処理を行うことができる半導体集積回路を提供する。 - 特許庁
To provide a lithography apparatus for semiconductor processing for generating a mask-less pattern using a MDI process technique.例文帳に追加
MDIプロセス技法を使用してマスクレス・パターン生成用の半導体処理リソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁
To provide a cleavage end face processing method for obtaining a semiconductor laser element which hardly suffers from COD deterioration.例文帳に追加
COD劣化が生じにくい半導体レーザ素子を得るための劈開端面処理方法を提供する。 - 特許庁
The support substrate 50 is used by being pasted to the processing substrate 10 in the process of manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加
支持基板50は、半導体装置の製造過程で加工基板10に貼り合わされて使用される。 - 特許庁
The punching tool for processing a lead of a semiconductor device comprises a flat base material 10 and a diamond film 20.例文帳に追加
半導体装置のリード加工用パンチ工具は平板状の基材10とダイヤモンド膜20とを備える。 - 特許庁
To provide a silicon carbide part of a plasma processing apparatus which allows the reduction of particle contamination on a semiconductor substrate.例文帳に追加
半導体基板のパーティクル汚染を減少させるプラズマ処理装置の炭化シリコン部品を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor integrated circuit for providing both a high speed processing and a low power consumption.例文帳に追加
高速処理と低消費電力の両立を実現する半導体集積回路を提供すること。 - 特許庁
A semiconductor chip 34 serving as a specimen is installed on a cathode electrode 35 in a plasma processing chamber 32.例文帳に追加
試料となる半導体チップ34を、プラズマ処理室32のカソード電極35の上に設置する。 - 特許庁
A central operation processing device 8 which has a storage device 9 controls semiconductor lasers of the respective groups independently.例文帳に追加
メモリ9を併設した中央演算処理装置8は、各群の半導体レーザを独立して制御する。 - 特許庁
A conductive film 20 is formed on the surface layer 18 of the semiconductor layer 16 having been subjected to the plasma processing.例文帳に追加
プラズマ処理が行われた半導体層16の表層18上に導電膜20を形成する。 - 特許庁
To achieve the efficient mirroring of data processing by using a non-volatile semiconductor memory.例文帳に追加
不揮発性の半導体メモリを用いてデータ処理の効率のよいミラーリングを実現することを課題とする。 - 特許庁
To provide a semiconductor chip configured such that a processed position for a processing treatment is precisely specified.例文帳に追加
加工処理を行なうための加工位置を精度よく特定することができる半導体チップを提供する。 - 特許庁
In a column A/D type CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) image sensor, processing for correcting dark currents of pixels is performed.例文帳に追加
例えば、カラムAD方式のCMOSイメージセンサにおいて、画素の暗電流を補正するための処理が行われる。 - 特許庁
ANALYSIS SAMPLE GATHERING UNIT FOR SEMICONDUCTOR VAPOR GENERATOR AND ANALYSIS PROCESSING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
半導体用水蒸気生成装置の分析試料採取器具及び該器具を用いた分析処理方法 - 特許庁
To provide a processing apparatus capable of partially cleaning a semiconductor wafer.例文帳に追加
この発明は半導体ウエハを部分的に洗浄処理することができる処理装置を提供することにある。 - 特許庁
To improve the reliability of rewriting control of a nonvolatile memory in a semiconductor device for data processing.例文帳に追加
データ処理用半導体装置における不揮発性メモリの書き換え制御の信頼性を向上させる。 - 特許庁
To automatically detect a thermal stress applied to a semiconductor device without using a color image processing.例文帳に追加
カラー画像処理を用いることなく、半導体装置に印加された熱ストレスの自動検出を行う。 - 特許庁
To provide a semiconductor fabrication apparatus that can treat the processing object evenly in a relative displacement direction.例文帳に追加
被処理物を相対移動方向に均一に処理することができる半導体製造装置を提供する。 - 特許庁
Using the abrasive cloth 13 treated with this flattering processing, a semiconductor wafer or the like is polished, for example.例文帳に追加
この平坦化処理が行われた研磨布13を用いて例えば半導体ウェーハなどを研磨する。 - 特許庁
Consequently, the optical processing element can be integrated on the same semiconductor substrate S while suppressing optical loss.例文帳に追加
これにより、光学的損失を抑えつつ光処理素子を同一半導体基板S上に集積できる。 - 特許庁
To improve the efficiency of defect discrimination processing of a semiconductor memory and to specify a defective part.例文帳に追加
半導体記憶装置の不良判定処理の効率向上、及び不良箇所の特定を可能とする。 - 特許庁
Further, the heating processing of the silicon carbide semiconductor substrate 1 is executed by heating the susceptor 13.例文帳に追加
また、サセプタ13を加熱することにより、炭化シリコン半導体基板1の加熱処理が実施される。 - 特許庁
A semiconductor device controls the operation of the laser diode and receives signals from the photodetector for processing.例文帳に追加
半導体装置がレーザダイオードの動作を制御し且つ処理のために光検知器からの信号を受取る。 - 特許庁
To provide a device of processing a semiconductor wafer capable of easily mounting a UV irradiation unit.例文帳に追加
紫外線照射ユニットを容易に取り付けることの可能な半導体ウェハの加工装置を提供する。 - 特許庁
To enhance the efficiency of probing and trimming processing for an IC chip formed on a semiconductor wafer.例文帳に追加
半導体ウェハ上に形成されたICチップに対するプロービング及びトリミング処理の効率を高める。 - 特許庁
DIFFERENTIAL OUTPUT BUFFER, DIFFERENTIAL INPUT BUFFER, SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, TRANSCEIVER CIRCUIT, BUS, AND INFORMATION PROCESSING UNIT例文帳に追加
差動出力バッファ、差動入力バッファ、半導体集積回路、トランシーバ回路、バス、情報処理装置 - 特許庁
Then, processing for doping hydrogen ions into the semiconductor film 6 transferred on the substrate 1 is carried out.例文帳に追加
そして、基板1上に転写された前記半導体膜6に水素イオンをドープする処理を行う。 - 特許庁
To provide a semiconductor memory for performing a desired arithmetic processing efficiently and at high speed.例文帳に追加
高速かつ効率的に所望の演算処理を行わせることができる半導体メモリ装置を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device which has a fast signal processing speed and has high reliability of a wiring film.例文帳に追加
信号処理速度が速く、かつ、配線膜の信頼性が高い半導体装置を提供することである。 - 特許庁
To obtain a semiconductor manufacturing device which can maintain a processing performance of resist peeling liquid.例文帳に追加
レジスト剥離液の処理能力を維持することができる半導体製造装置を得ることを目的とする。 - 特許庁
MEMBER USED FOR MASK, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, AND CHARGED PARTICLE BEAM PROCESSING SYSTEM例文帳に追加
マスク、半導体素子製造方法、電子ビーム露光装置、荷電ビーム処理装置において用いられる部材 - 特許庁
PROCESSING METHOD IN VAPOR PHASE GROWTH APPARATUS, FORMING METHOD OF THIN FILM AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR APPARATUS例文帳に追加
気相成長装置内の処理方法、薄膜の形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
To provide a semiconductor test equipment capable of reducing loads of CPU due to useless polling processing.例文帳に追加
無駄なポーリング処理によるCPUの負荷を削減することができる半導体試験装置を提供する。 - 特許庁
The acceleration sensor 3 and a signal processing chip 4 are provided on a die pad 2 of a semiconductor chip 1.例文帳に追加
半導体チップ1のダイパッド2の上に、加速度センサ3と信号処理チップ4が設けられている。 - 特許庁
SILICON SUBSTRATE PROCESSING METHOD FOR OBSERVING FAULT PLACE OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND FAULT PLACE SPECIFYING METHOD例文帳に追加
半導体装置の不良箇所観察のためのシリコン基板加工方法及び不良箇所特定方法 - 特許庁
To shorten processing time for cell placement in a cell placement method for a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加
半導体集積回路のセル配置方法において、セルの配置に要する処理時間を短縮する。 - 特許庁
To provide a substrate processing method capable of preventing the deterioration of productivity of a semiconductor device from a substrate.例文帳に追加
基板からの半導体デバイスの生産性が悪化するのを防止できる基板処理方法を提供する。 - 特許庁
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