「superposition error」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Superposition on a tracking error signal is eliminated through filtering of high sampling processing, and superposition on a tracking cross signal is eliminated through time-based filtering.例文帳に追加

トラッキングエラー信号への重畳は、高サンプリング処理によるフィルターで除去し、トラッククロス信号への重畳は、時間軸フィルターによって除去する。 - 特許庁

The actually measured superposition error and line width of that portion are reflected in this graphical image.例文帳に追加

このグラフィックイメージには、実際に計測されたその部分の重ね合わせ誤差や線幅が反映されている。 - 特許庁

Specifically, if the error is out of a predetermined range based on EGA (Enhanced Global Arrayment) superposition accuracy, it is judged that a measurement error is present.例文帳に追加

具体的には、この誤差が、ＥＧＡ重ね合わせ精度に基づく所定の範囲内にない場合には、計測エラーが生じていると判定する。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR INSPECTING SUPERPOSITION ERROR OF PATTERNS FORMED ON SUBSTRATE OR SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

基板又は半導体ウエーハに形成されたパターンの，重ね合わせ誤差検査装置及び重ね合わせ誤差検査方法 - 特許庁

A value found by adding the measurement error MIS due to the characteristics of the pattern to an actual superposition error (true value) is assumed as an expected value (the true value + MIS = the expected value).例文帳に追加

実際の重ね合わせ誤差（真値）にパターンの特性に起因する測定誤差（ＭＩＳ）を加えたものを期待値とする（真値＋ＭＩＳ＝期待値）。 - 特許庁

Subsequently, a relative distance of the first pattern in which the superposition error is reflected to the second pattern is calculated (S60).例文帳に追加

次いで、重ね合わせ誤差を反映した後の第１のパターンと第２のパターンの相対距離を算出する（Ｓ６０）。 - 特許庁

First, a superposition error of the second pattern to the first pattern is reflected in at least one of the first pattern and the second pattern (S50).例文帳に追加

まず、第１のパターンに対する第２のパターンの重ね合わせ誤差を、第１のパターン及び第２のパターンの少なくとも一方に、反映する（Ｓ５０）。 - 特許庁

To provide an electronic endoscope of a power supply superposition type, even if a power supply voltage is fluctuated, capable of transmitting signals without causing an error.例文帳に追加

電源電圧が変動してもエラーを起こすことなく信号を伝送できる電源重畳方式の電子内視鏡を提供すること。 - 特許庁

To improve accuracy in superposition of respective color images by suppressing an increase in control error even under an environment of large temperature variation in an image forming device.例文帳に追加

画像形成装置において、温度変化が大きい環境でも、制御誤差の増加を抑えて、各色画像の重ね合わせの精度を高める。 - 特許庁

To provide a photomask capable of improving a shift in transfer position due to an abbreviation of a projection lens, an alignment error due to a measurement error resulting from pattern asymmetry, and a decrease in superposition inspection precision.例文帳に追加

投影レンズの収差に起因した転写位置のずれや、パターン非対称による計測誤差に起因したアライメント誤差、及び重ね合わせ検査精度の低下を改善できるフォトマスクを提供すること。 - 特許庁

When the number of apertures in the light receiving system is changed, the TIS or the MIS is reduced, and measurement of the superposition error complying with the characteristics of the pattern is carried out.例文帳に追加

受光系の開口数を変更することにより、ＴＩＳ又はＭＩＳを低減して、パターンの特性に応じた重ね合わせ誤差の測定を行う。 - 特許庁

To provide an equipment for measuring superposition error in which the image of an inspection mark can be obtained with a high contrast and the work efficiency and the measurement accuracy can be enhanced.例文帳に追加

検査マークの画像が高コントラストで得られ、作業効率と測定精度の向上を図ることが可能な構成の重ね合わせ誤差測定装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image data processing device for achieving, before creating proofs, an error inspection and a superposition color verification inspection whose data dependence is pure as in the inspection of the superposition part between specific colors and multiple colors in the inspections that has been made by the conventional proofs.例文帳に追加

従来プルーフによって行っていた検査の内、特定色と多色の重畳部分の検査の様な純粋にデータ依存性の高い誤り検査や重畳色確認検査を、プルーフ作成する前に可能とする画像データ処理装置を提供する。 - 特許庁

In this automated ticket gate device for receiving and processing a plurality of boarding mediums 61 and 62, the boarding medium 62 with a writing error or the like generated therein is stored on the upper side (or lower side) of a superposition part 36, and the other boarding medium 61 is stored on the lower side (or upper side) of the superposition part 36.例文帳に追加

複数枚の乗車媒体６１，６２を受け入れて処理する自動改札装置において、書込み異常等が発生した乗車媒体６２を重ね合せ部３６の上側（または下側）に保留し、他の乗車媒体６１を重ね合せ部３６の下側（または上側）に保留する。 - 特許庁

To provide a frequency correction apparatus that suppresses increase of a demodulation error rate caused by a wrong carrier offset when a signal significantly subjected to superposition of noise component is received, and to provide a method of controlling the same.例文帳に追加

ノイズ成分の重畳が多い受信信号の場合、誤ったキャリアオフセットによる復調エラー率の増加を抑制する周波性補正装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

To provide a demodulator for a phase modulated signal such as a wobbling signal capable of suppressing an increase in demodulation error caused by noise superposition or the like, and to provide a data recorder having the same.例文帳に追加

ノイズの重畳等による復調誤りの増大を抑えることができる、ウォブル信号等の位相変調信号の復調装置およびこれを有するデータ記録装置を提供する。 - 特許庁

A header for storing error-detecting information used for determination of success or failure of information decoding generated from the additional information to become an object added to an image is prepared, and the superposition image is generated by integrating an encoding header which has error-correcting-encoded the header with encoding information which has error-correcting-encoded the additional information.例文帳に追加

画像に付加する対象となる付加情報から生成した情報復号の成否の判定に用いる誤り検出情報を格納するためのヘッダを用意し、ヘッダを誤り訂正符号化した符号化ヘッダと付加情報を誤り訂正符号化した符号化情報とを一体化して重畳画像を生成する。 - 特許庁

To prevent tracking and access stability from being deteriorated by superposition of the reproducing signal of an ID area in a tracking error signal and a track cross signal in high speed reproduction of a DVD-RAM disk.例文帳に追加

ＤＶＤ−ＲＡＭディスクの高倍速再生において、ＩＤ領域の再生信号がトラッキングエラー信号とトラッククロス信号に重畳することにより、トラッキングおよびアクセスの安定性を損なう。 - 特許庁

An image signal processing circuit 40 performs processing for calculating the measurement value of the superposition error and detecting a focus position giving a minimum MIS and processing for finding the TIS and the expected value from the measurement value.例文帳に追加

画像信号処理回路４０は、重ね合わせ誤差の測定値を算出し、ＭＩＳが最小となるフォーカス位置を検出する処理と、測定値からＴＩＳ及び期待値を算出する処理とを行う。 - 特許庁

To provide a pattern verifying method, used in a double patterning method in which after a first pattern is formed in a film to be processed, a second pattern is formed in the film to be process, verifying a pattern in consideration of a superposition error.例文帳に追加

被加工膜に第１のパターンを形成してから被加工膜に第２のパターンを形成するダブルパターニング法に用いられ、重ね合わせ誤差を考慮してパターンを検証することができるパターン検証方法を提供する。 - 特許庁

When the difference in the brightness of reflected light is small and the contrast of the image of an inspection mark 3 is insufficient, superposition error is calculated based on the image of the inspection mark subjected to gamma correction.例文帳に追加

反射光の明るさの差異が小さく、得られた検査マーク３の画像のコントラストが不充分である場合、この検査マーク画像にガンマ補正を施して得られる補正後の検査マーク画像に基づいて重ね合わせ誤差を算出する。 - 特許庁

Preferably, the deviation of a designed center position Y of the cartridge 235 for the hologram recording medium from a position of a center M2 of gravity or the error of superposition of notched parts of first and second shells 212a and 212b is specified to be within 0.1 mm.例文帳に追加

好ましくは、ホログラム記録媒体用カートリッジ２３５の設計上の中心位置Ｙと重心位置Ｍ２とのずれ、あるいは、第１シェルおよび第２シェル２１２ａ，２１２ｂの切り欠き部の重ね合わせ誤差を０．１ｍｍ以内とする。 - 特許庁

Further, mathematical models indicating relations between the operating variables and the quality are derived as superposition of the local relational expression and the local area with the activity function so as to select the minimum error mathematical model among a plurality of division patterns of mathematical models.例文帳に追加

更に局所関係式と活性性度関数を有する局所領域の重ね合せとして操業変数と品質との関連を表す数式モデルを導出し、複数の分割パターンの数式モデルのうち最小誤差数式モデルを選択する。 - 特許庁

To provide a photolithographic process allowing reduction of an alignment error of an exposure shot formed on a wafer using a method not increasing costs, improving the accuracy of superposition between upper and lower mask patterns even when exposure devices having different shot area sizes are used together.例文帳に追加

コスト上昇を招くことのない方法によってウェーハ上に形成される露光ショットの配列誤差を低減し、ショットエリアの大きさが異なる露光装置を混用しても上下のマスクパターンの重ね合わせ精度が向上できるフォトリソ工程を提供する。 - 特許庁

To provide a halftone mask having a structure of a light shielding film and a translucent film layered on a transparent substrate, in which admissibility for an alignment error is increased by patterning a first layer (light shielding film) by using indispensable pattern data if great importance is placed on the first layer and by patterning a second layer by using redundant pattern data including errors of superposition.例文帳に追加

透明基板上に遮光膜と半透過膜とが積層した構造を備えるハーフトーンマスクにおいて、アライメント装置によって第１層目と第２層目とのアライメントを行った際に発生する、第１層目と第２層目との間にアライメント誤差により必要なパターンが得られなくなるという問題を解決する。 - 特許庁

Only primary components such as a scaling component, an offset component and a rotary component included in the superposition error of a plurality of mark images included simultaneously in the exposure slit in a scanning exposure device are extracted as components related to the performance of the exposure device and other components are removed as components unrelated to the performance of the exposure device such as deformation of a wafer.例文帳に追加

走査露光装置における露光スリット内に同時に含まれる複数のマーク像の重ね合わせ誤差に含まれるスケーリング成分、オフセット成分、回転成分などの１次成分のみを、露光装置の性能に関係する成分として抽出し、それ以外の成分はウエハの変形などの露光装置の性能には無関係な成分として除去する。 - 特許庁

When the received packet error rate exceeds a predetermined value for the strength of received signal, the control section 18 judges that the degree of jamming is deteriorated and notifies the fact to a user by performing OSD display of information for notifying the degree of jamming from a OSD superposition section 16 or performs improvement operation by shifting the position of an antenna 11 by an antenna shifting means 12.例文帳に追加

制御部１８は、前記受信信号強度に対して、前記受信パケットエラー率が所定値を超える場合、電波妨害の程度が悪化していると判定し、その電波妨害の程度を通知するための情報をＯＳＤ重畳部１６からＯＳＤ表示してユーザに通知するか、あるいは、アンテナ移動手段１２でアンテナ１１の位置を移動させて改善動作を行う。 - 特許庁