「surface processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(92ページ目) - Weblio英語例文検索

A marking displayed on a surface 47 of an IC package is examined through image processing, and droplets 61a of the same color as that of the IC package are applied to droplets 60b landed at abnormal positions.例文帳に追加

ＩＣパッケージの表面４７に表示されたマーキングを画像処理にて検査し、異常な位置に着弾した液滴６０ｂにＩＣパッケージと同色の液滴６１ａを塗布する。 - 特許庁

To provide a processing method for a substrate and a substrate holding device that can rotate and process a substrate with a warp in a state wherein the substrate is stably sucked and held on a substrate placing surface.例文帳に追加

反りがある基板を、基板載置面に安定して吸着・保持したまま回転させて処理を行うことができる、基板の処理方法及び基板保持装置を提供する。 - 特許庁

A block body 20 abutting on an outer peripheral surface 12B of a flange part 12 of a hydraulic pump 11, is fixedly arranged in a support member 16 for supporting the exhaust gas processing device 15 by an engine 8.例文帳に追加

排気ガス処理装置１５をエンジン８に支持するための支持部材１６に、油圧ポンプ１１のフランジ部１２の外周面１２Ｂに当接するブロック体２０を固設する。 - 特許庁

In this inspection method for the marking shape, a marking on a workpiece W surface is imaged by a camera 10c, and an acquired image is processed by an image processing means 20 to determine quality of the shape thereof.例文帳に追加

ワークW表面に施された刻印をカメラ10cで撮像し、得られた画像を画像処理手段20で処理することで形状の良否を判定する刻印形状の検査方法である。 - 特許庁

To obtain a flexible non-combustible decorative sheet excellent in impact resistance and strength, having flexibility and adapted to a curved surface at a normal temperature without performing a special treatment such as watering or thermal processing.例文帳に追加

耐衝撃性、強度に優れる上、フレキシビリティであり、水打ちや熱加工等の特殊な処理無しでかつ常温において曲面用途に用いることができる不燃化粧板を得る。 - 特許庁

A color correction processing part 105 generates color transformation providing color appearance matching based on the color space of an input image and the color space on the projection surface, and stores it in a memory 102.例文帳に追加

色補正処理部１０５は入力画像の色空間と投影面上の色空間とに基づいて、色の見えを一致させる色変換を生成してメモリ１０２に格納する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device that is expected to sufficiently radiate heat although the manufacture is facilitated to easily reduce costs and any special surface processing is unnecessary.例文帳に追加

製造が容易でコストの低減を容易に図ることができかつ特別な表面処理も不要でありながら、十分な放熱を期待できる液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁

To obtain a thermally adhesive composite fiber excellent in nonwoven fabric-processing property, and capable of providing an inexpensive nonwoven fabric excellent in surface repulsion and cushioning property and rich in flexibility so as not to form creased wrinkles.例文帳に追加

不織布加工性に優れた熱接着性複合繊維であり、面反発性やクッション性に優れ、折れじわの発生しない柔軟性に富む安価な不織布を提供する。 - 特許庁

The electromagnetic clutch 100 is assembled by respectively assembling a hub 110, a rotor 120, an armature 140 or the like after applied running-in processing on a friction surface 140c of the armature 140.例文帳に追加

アーマチュア１４０の摩擦面１４０ｃに慣らし加工を施した後、ハブ１１０、ロータ１２０及びアーマチュア１４０等を互いに組み付けて電磁クラッチ１００を組み立てる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of exhibiting appropriate cleaning performance for the surface of an image carrier even if a processing speed is slowed down due to use of special paper.例文帳に追加

特殊な用紙の使用によりプロセス速度が低下した場合であっても、像担持体表面に対して好適なクリーニング性能を発揮することが可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Also, when the hardening rate exceeds 98%, powder drop caused at the time of punching is severe, and necessity that the cleaning processing of the card surface should be repeatedly executed is risen, and as a result the productivity is deteriorated.例文帳に追加

また、硬化率が９２％を超えると、打抜き時に発生する粉落ちがひどく、カード表面の清浄化処理を繰り返し行う必要性が生じて生産性が悪化する。 - 特許庁

When a shape memory alloy is used as a material for the plate spring or hardening processing is applied to the surface of the plate spring, strength resistible stress generated in the rotational bezel and the plate springs can be realized.例文帳に追加

また、板ばねの材質に形状記憶合金を用いたり板ばねの表面に硬化処理を行うことで、回転ベゼルと板ばねに生じる応力に耐えうる強度とする。 - 特許庁

To prevent processing irregularity such as etching irregularity caused by the accumulation of depositions on the surface of the substrate installation stand and to prevent a substrate from being sucked by the substrate installation stand.例文帳に追加

基板載置台の表面に付着物が蓄積することによって生じるエッチングむら等の処理むらを防止し、基板が基板載置台に吸着されてしまうこと等を防止する。 - 特許庁

In the plastic abrasive used for a blast processing, nonionic surface active agent in 0.1 to 5 wt%, preferably 0.5 to 1 wt% of a base material is mixed.例文帳に追加

ブラスト処理に使用されるプラスチック研削材において、樹脂基材に対し、０．１〜５重量％、好ましくは０．５〜１重量％の非イオン系界面活性剤が配合されている。 - 特許庁

To provide a processing agent that includes polysulfides [wherein Sx (x = 2 to 12)] as a main component that can be used as a variety of uses for example, as for heavy metal immobilization agent, reinforcing treatment agent, surface protection agent or the like.例文帳に追加

重金属固定化処理剤、補強処理剤、表面保護剤などの各種用途に用いられる多硫化物（但し、Sx（ｘ＝２〜１２））を主成分とする処理剤を提供すること。 - 特許庁

The shape of the model object specified by motion processing is deformed in accordance with the shape of the ground so that parts objects (legs and hands) constituting the model object may not be put under the ground surface.例文帳に追加

モデルオブジェクトを構成するパーツオブジェクト（足、手）が地形面に潜り込まないように、モーション処理により特定されるモデルオブジェクトの形状を地形の形状に応じて変形させる。 - 特許庁

To suppress the occurrence of local excess discharge and to suppress a situation that the surface of a photoreceptor drum is locally and excessively charged when performing contact charging processing using a brush roller.例文帳に追加

ブラシローラを用いた接触帯電処理を行う場合に、局所的な過剰放電の発生を抑制し、感光体ドラム表面が局所的に過剰帯電する事態を抑制する。 - 特許庁

To lessen energy consumption in a method for heat-processing a metallic, particularly aluminum workpiece comprising a base 1 and a surface layer 2 such as an oxide film, with laser beams 3.例文帳に追加

金属、特にアルミニウムのワーク基部１並びに表面層２、例えば酸化被膜から成るワークを、レーザービーム３によって熱加工するための方法において、エネルギー消費を少なくする。 - 特許庁

To provide a means for measuring the potential difference of plasma and current of plasma, generated on a wafer, which are important quantities in a semiconductor-surface processing apparatus using plasma, without modifying apparatus.例文帳に追加

プラズマを用いた半導体の表面処理装置で重要な量であるウエハ上に発生するプラズマ電位差及びプラズマ電流を装置の改造なしで測定する手段を提供する。 - 特許庁

A processing device 56 which constitutes a part of a control circuit to operate the lamp by controlling the main circuit is mounted on the main surface 87b on a far side from the first element 82 of the control circuit board 87.例文帳に追加

制御回路基板87の第１素子82に対して遠い側の主面87bに、主回路を制御してランプを駆動させる制御回路の一部を構成する処理装置56を実装する。 - 特許庁

With this structure, estimation processing of high quality can be led into the robot, and posture and action thereof can be stabilized by grasping the walking road surface condition even in case of irregular ground.例文帳に追加

これによってロボットに高度な予測処理が導入でき、不整地であっても早期から歩行路面状況を把握することにより、姿勢挙動を安定化することができる。 - 特許庁

In a varnishing processing, varnish can be prevented from impregnating into the connector 20, by sliding the insulating sleeve 16L to make the one end surface at the thermistor 10 side of the insulating sleeve 16A recede.例文帳に追加

ワニス処理において、絶縁スリーブ１６Ｌをスライドさせて絶縁スリーブ１６Ａのサーミスタ１０側の一方端面を後退させることで、ワニスがコネクタ２０に浸透するのを防止できる。 - 特許庁

To provide a fluororesin powder composition excellent in film formability and suitable for obtaining a coating or a molding excellent in surface smoothness by powder processing such as powder coating or rotational molding.例文帳に追加

膜形成性に優れ、粉体塗装や回転成形等の粉末加工により表面平滑性に優れた塗膜や成形物を得るに適したフッ素樹脂粉末組成物の提供。 - 特許庁

The solid etalon filter 9 is formed by providing a reflective film 11 formed of a dielectric etc., on a light incidence/projection surface on a substrate obtained by processing the LiTaO3 substrate to a designated plate thickness.例文帳に追加

ソリッドエタロンフィルタ９は、ＬｉＴａＯ３基板を所定の板厚に加工した基板１０に、光の入出射面に誘電体等からなる反射膜１１を施したものである。 - 特許庁

The control processing device 2 continuously changes the reflected image by moving relative positions of the specific image, the surface of the object 9, and a view point for simulating the reflection.例文帳に追加

制御処理装置２は、前記特定の画像と、被測定物９の表面と、映り込みをシミュレートする視点との相対位置を移動させて、映り込み画像を連続して変化させる。 - 特許庁

To lighten a seat cushion by dispensing with a wire frame, etc., in the seat cushion and to improve workability by mounting the seat cushion on the car body side simultaneously with terminal processing of its surface skin.例文帳に追加

シートクッション内のワイヤフレームなどを不要として軽量化を図るとともに、シートクッションを、その表皮の端末処理と同時に車体側に取り付けて作業性をよくする。 - 特許庁

The information processing part 101 calculates coordinates of the indicated point from a detecting position of an indicated material for indicating one point on an information surface of the display part 1 detected by the detecting part 11.例文帳に追加

情報処理部１０１は、検出部１１が検出した表示部１の情報面上の一点を指示する指示物体の検出位置を基に、その指示点の座標を算出する。 - 特許庁

Blast processing is performed on the surface of the sleeve 2 partially, and the magnetic blade is formed so that its length in the shaft direction of the sleeve 2 is longer than that in the developing width direction of the toner layer.例文帳に追加

現像スリーブの表面は部分的にブラスト処理が施されており、磁性ブレードは、回転現像スリーブの軸方向における長さがトナー層の現像幅方向より長い。 - 特許庁

To provide a mounting device for an attraction tool capable of mounting the attraction tool on the lens surface of a pair of glasses easily even if the lenses are processed, for example, subjected to a waterproof processing etc.例文帳に追加

例えば防水加工等された眼鏡レンズであっても容易に眼鏡レンズの表面に吸着治具を装着することができる吸着治具の取付装置を提供すること。 - 特許庁

Consequently, resist coating processing can be performed while maintaining high He gas concentration by supplying He gas discharged from the gas supply nozzle efficiently to the surface layer of the wafer.例文帳に追加

これにより、ガス供給ノズルから吐出されたＨｅガスをウエハの表面層に効率的に供給し、Ｈｅガス濃度を高く維持してレジスト塗布処理を行うことができる。 - 特許庁

Since the plasma generated between the pair of main electrodes passes through the center of the wafer, rotation of the wafer enables the plasma processing condition in the wafer surface to be uniformalized.例文帳に追加

主電極対間に生成されたプラズマはウエハ中心を貫通した状態になっているので、ウエハを回転させることにより、ウエハ面内でのプラズマ処理状況を均一化できる。 - 特許庁

To provide a lubricative medical instrument provided with favorable lubricity on the surface after processing at ordinary temperature without using a crosslinking agent, a catalyst, and the like, and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

架橋剤や触媒などを使用することなく、常温における処理により、表面に良好な潤滑性が付与された潤滑性医療用器具及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

After processing liquid for dissolving the water-repellent film is supplied to the surface of the substrate after immersion exposure which is held by a substrate holding part to remove the water-repellent film, the liquid developer is supplied to this substrate.例文帳に追加

基板保持部に保持された液浸露光後の基板の表面に撥水性膜を溶解するための処理液を供給して除去した後、この基板に現像液を供給する。 - 特許庁

To provide a technology of minimizing damage on the mounting table surface when cleaning a plasma processing apparatus of a substrate by means of plasma without using a dummy substrate.例文帳に追加

基板に対してプラズマ処理を行う装置についてダミー基板を用いずにプラズマによりクリーニングするにあたり、載置台表面の損傷を抑制することのできる技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which visibility of the name of a manufacturer and a serial number to be impressed on the surface of a backside resin layer by laser processing can be improved.例文帳に追加

レーザ加工により裏面側樹脂層の表面に刻印される製造会社名や品番などの視認性の向上を図ることができる半導体装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing technology for removing the pollutants such as particles adhering to the surface of a substrate, by using a freeze-cleaning technology with a simple facility at a low running cost.例文帳に追加

凍結洗浄技術を用いて基板表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去する基板処理技術を、簡易な設備で、しかも低ランニングコストで提供する。 - 特許庁

To obtain a dicing sheet, which facilitates surface smoothness of a bonding agent layer and uniformity of the film thickness of the bonding agent layer, and also facilitates fine processing of a work material.例文帳に追加

本発明の目的は、接着剤層の表面平滑性、膜厚の均一性を容易とすると共に、ワーク材の微細加工を容易にするダイシングシートを提供することにある。 - 特許庁

A gallium ion (Ga3+) is irradiated from an ion gun 11 of a FIB device 9 to an exposed surface 22 again by exposing a cross section through a cleavage or FIB processing a semiconductor material.例文帳に追加

半導体試料をへき開またはＦＩＢ加工して断面を露出させ、当該露出面２２に再度ＦＩＢ装置９のイオン銃１１からガリウムイオン（Ｇａ３＋）を照射する。 - 特許庁

To reduce irregularity of etching caused when an etching processing is performed by a reactive ion etching (RIE) device for forming fine ruggedness on the surface of a silicon substrate for solar cell.例文帳に追加

太陽電池用シリコン基板の表面に微細な凹凸を形成するための反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）装置で、エッチング処理する際に生じるエッチングのムラを低減すること。 - 特許庁

The package 11 of a crystal resonator comprises a base 13 where an insulation layer 16 is formed on the surface by applying Tafram processing to an aluminium plate and an aluminium cover 14 formed in a box shape.例文帳に追加

水晶振動子のパッケージ１１は、アルミニウム板をタフラム処理して表面に絶縁層１６を形成したベース１３と、箱型に形成したアルミニウムの蓋１４とから構成される。 - 特許庁

To markedly reduce noise without giving damage to a detail structure in an image or time resolution, and to reduce a calculation cost for processing in the image data set flat surface.例文帳に追加

画像内における細部構造または時間分解能に被害を与えることなしにノイズを著しく低減し、画像データセット平面における処理のための計算費用を低減する。 - 特許庁

The substrate processor has a process container 10 for processing a silicon substrate 8 and a heater 55 for heating a silicon substrate 8 in the process container 10, a heater for heating the wall surface 11 of the process container 10.例文帳に追加

シリコン基板８を処理する処理容器１０と、処理容器１０内のシリコン基板８を加熱する加熱ヒータ５５と、処理容器１０の壁面１１を加熱するヒータとを有する。 - 特許庁

To provide a workpiece laminating device capable of laminating workpieces in a non-load state, and successively carrying out a series of laminating processing, while preventing the generation of bubbles on a laminating surface.例文帳に追加

ワークどうしを貼合面に気泡が生じるのを防止しながら、無負荷状態のままで貼合でき、しかも一連の貼合処理を連続して行なえるワーク貼合装置を提供する。 - 特許庁

A base board unsupported part 27 based on the reverse side superposing margin part 16 of the end part of the surface-mounting material 14, is processed by fitting the end part processing material 23 having thermal insulation performance and waterproofness.例文帳に追加

表装材１４の端部の裏側重ね代部１６に基づく基板非支持部２７は、断熱性及び防水性を有する端部処理材２３が嵌め込まれて処理される。 - 特許庁

To minimize a draft angle in casting to reduce mechanical machining margin in the post processing of a bore surface, and to thereby decrease exposure of a blow hole, in casting a linerless cylinder block.例文帳に追加

ライナレスシリンダブロックを鋳造成形する際に、鋳造時の抜け勾配を極力小さくしてボア表面の後工程での機械加工代を少なくし、もって鋳巣の露出量を少なくする。 - 特許庁