「surface processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(89ページ目) - Weblio英語例文検索

The IC card 1 has a forgery prevention processing part 23 on its base material, and the forgery prevention processing part 23 has a protective layer covered with ink for a protective layer, at least on its surface, and the ink for a protective layer hardens by light, and wax is contained.例文帳に追加

ＩＣカード１のカード基材上に偽変造防止加工部２３を備え、少なくとも偽変造防止加工部２３の表面には、保護層用インクで覆われた保護層を有しており、保護層用インクに光により硬化し、かつワックスを含有させる。 - 特許庁

To provide an image processor and an image processing method, capable of easily and fully confirming the difference between processed results caused by changing the parameters in applying digital image processing to the surface images of an original printed on both sides of recording paper, and to provide a recording medium.例文帳に追加

記録紙の両面に印刷された原稿の表面画像をデジタル画像処理するとき、処理パラメータの変更によって生じた処理結果間の相違が容易かつ全面的に確認できる画像処理装置、画像処理方法及び記録媒体を提供する。 - 特許庁

The polishing device uses a fixed abrasive grain grinding wheel 11 formed by bonding the abrasive grain by a hydrophobic material and is provided with a processing liquid feed device 21 in which water or the mixed liquid of water and alcohol are fed to a surface of the grinding wheel as the processing liquid.例文帳に追加

砥粒が疎水性材料によって結合されて形成された固定砥粒砥石１１を使用する研磨装置であって、水または水とアルコールとからなる混合液を加工液として砥石表面に供給する加工液供給装置２１を備えている。 - 特許庁

To provide a reinforcing method to solve the problem of the breakage of the leavings in the process wherein a long-form adhesive sheet is provided with printing on its surface and die-cut into various shapes and then the continuous leavings are removed, and to provide a label processing method, an attaching apparatus and a label processing apparatus.例文帳に追加

長尺接着シートの表面に印刷を施し各種形状にダイカットした後、連続状カス部を除去する工程におけるカス切れ問題を解決する補強方法、ラベル加工方法、貼付装置及びラベル加工装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide an apparatus for holding and rotating a substrate with a simple configuration which can uniformly process the entire external circumferential end surface of a substrate and can rotate the substrate at a high speed, and to provide a substrate processing apparatus with the same and a substrate processing method.例文帳に追加

簡単な構成で基板の外周端面の全体を均一に処理することができるとともに基板を高速に回転させることができる基板保持回転装置およびそれを備えた基板処理装置ならびに基板処理方法を提供することである。 - 特許庁

To achieve a high aspect ratio and microfabrication of an uneven structure by improving a PR selection ratio in substrate plasma processing for forming, on a surface of a sapphire substrate, the uneven structure corresponding to a mask pattern by executing the plasma processing on the sapphire substrate on which the mask pattern is arranged.例文帳に追加

マスクパターンが配置されたサファイア基板に対して、プラズマ処理を行い、サファイア基板の表面にマスクパターンに応じた凹凸構造を形成する基板のプラズマ処理において、ＰＲ選択比を向上させて、凹凸構造の高アスペクト比化や微細化を実現する。 - 特許庁

Thus, a space between the inner wall 64 of the lower wall 62 and a side wall outer surface 56 of a substrate transporting mechanism 3 is made narrow, thereby preventing wraparound of a processing gas into a chamber lower space 69 lower than the step 65 during processing of a semiconductor wafer 10.例文帳に追加

このようにしてチャンバ下側壁６２の内壁６４と基板移動機構３の側壁外面５６との間の空間を狭くすることにより、半導体ウエハ１０の処理中、段差部６５よりも下のチャンバ下空間６９への処理ガスの回り込みを防止する。 - 特許庁

The surface of the rubber composition, for example, the tire sidewall rubber component, in its uncured state contains the hydrophilic sorbitan monostearate on its surface together with the specialized tackifying resin to promote enhanced building tack and thereby counteract building tack loss by the sorbitan monostearate having been exposed to moisture (moisture exposed surface) during the processing of the rubber composition, particularly after its high shear processing such as, for example, extrusion.例文帳に追加

該ゴム組成物、例えばタイヤサイドウオールのゴム組成物の表面は、その未硬化状態で、成形粘着性の向上を促進するために、その表面内に該特化粘着付与剤と共に該親水性ソルビタンモノステアレートを含み、それによって、ゴム組成物の加工中に、特に、例えば押出しのような高剪断加工後に、湿分に曝されたソルビタンモノステアレートによって湿分に暴露された表面の成形粘着性の損失を妨害する。 - 特許庁

To provide a photosensitive material processing apparatus provided with a conveying mechanism conveying a photosensitive material and a liquid dipping part for supplying processing liquid to the photosensitive material being conveyed by the conveying mechanism, wherein the liquid dipping part is provided with a friction means of rubbing a surface of the photosensitive material having been supplied with the processing liquid, wherein the photosensitive material is more efficiently processed.例文帳に追加

感材を搬送する搬送機構と、搬送機構によって搬送中の感材に処理液を施す液浸部とを備え、液浸部には、処理液を施された感材の面を摩擦する摩擦手段が設けられている感材処理装置において、感材の処理がより効率的に行われる感材処理装置を提供する。 - 特許庁

A plasma etching processing apparatus 1 comprises a nozzle head 10 for implementing an etching processing by spraying etching gas 4 to the surface of a silicon substrate 2 to be processed, and a cleaning head 20 for cleaning the silicon substrate 2 to remove residues such as ammonium silicofluoride and ammonium fluoride or the like formed by a reaction between a silicon compound produced by the etching processing and etching gas.例文帳に追加

プラズマエッチング処理装置１は、被処理物であるシリコン基板２の表面にエッチングガス４を吹き付けてエッチング処理するノズルヘッド１０と、エッチング処理により生じたシリコン化合物とエッチングガスとが反応して形成されたケイフッ化アンモニウムやフッ化アンモニウム等の残渣物を除去するべくシリコン基板２を洗浄する洗浄ヘッド２０とを備える。 - 特許庁

To provide a wafer processing tank made of quartz glass that is easily manufactured even when a large-sized type applicable to a large-diameter, and has a structure which withstands water pressure of a chemical solution reservoired in the processing tank, reduces the amount of the chemical solution, and supplies the chemical solution to a large-area wafer surface, and to provide a method of manufacturing the wafer processing tank.例文帳に追加

大口径のウエハーに対応可能な大型の処理槽であっても製作が容易であり、処理槽内に蓄えられる処理薬液による水圧にも耐え、薬液の量を削減できかつ効率よく薬液を大面積のウエハー表面に流れるような構造を有する石英ガラス製ウエハー処理槽及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

For a system in which the mask material for exposure is supported almost vertically and processed with liquid successively, this mask development processing method for exposure is characterized by that the elapsed time from dipping the material in previous-stage processing liquid to dipping it in trailing-stage processing liquid is different for different positions on the surface of the mask material for exposure.例文帳に追加

露光用マスク材料を概ね鉛直方向に直立するように支持し、液体による処理を連続して行うシステムに於いて、前段の処理液に浸漬してから後段の処理液に浸漬するまでの経過時間が被処理露光用マスク材料表面の部位により異なることを特徴とする露光用マスク現像処理方法。 - 特許庁

This method for producing the polyimide resin endless belt includes a blast processing process for applying blast processing to the surface of a core body with spherical particles, a polyimide resin film forming process for applying a polyimide resin film precursor solution to the core body subjected to blast processing and drying and calcinating the precursor solution to form a polyimide resin film.例文帳に追加

芯体の表面に球状粒子によるブラスト処理を施すブラスト処理工程と、ブラスト処理後の前記芯体にポリイミド樹脂前駆体溶液を塗布し、乾燥および焼成してポリイミド樹脂皮膜を形成するポリイミド樹脂皮膜形成工程と、を含むことを特徴とするポリイミド樹脂無端ベルトの製造方法である。 - 特許庁

A first processing liquid having a function not to coagulate the ink on the whole image forming area surface of an intermediate transfer body 12, and containing polymer particulates 21 is applied, and then, ink droplets 24 containing pigment particulates are delivered to the first processing liquid layer 22 based on image data, and then, the second processing liquid is delivered in accordance with the ink droplets 24.例文帳に追加

中間転写体１２の画像形成領域の全面にインクを凝集させない機能を有し、ポリマー微粒子２１を含有する第１処理液を付与し、第１処理液層２２に画像データに基づいて顔料微粒子を含有するインク液滴２４を打滴し、インク液滴２４に対応して第２処理液を打滴する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the magnetic recording medium wherein at least a non-magnetic underlayer, a magnetic layer and a protective layer are sequentially layered on the surface of the disk substrate 1 on which the texture processing is performed after the texture processing is performed, when the texture processing is performed, a polishing slurry S including an abrasive formed by sintering and pulverizing cluster diamond is used.例文帳に追加

ディスク基板１の表面にテクスチャ加工を施した後に、このテクスチャ加工が施されたディスク基板１の表面上に、少なくとも非磁性下地層、磁性層、及び保護層を順次積層する磁気記録媒体の製造方法であって、前記テクスチャ加工を施す際に、クラスターダイヤを焼結し、粉砕してなる砥粒を含む研磨スラリーＳを用いる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus constituted so that the prescribed control of the near end of toner judging processing, a toner-end judging processing and a toner replenishing processing, etc., required in accordance with the toner consumption can be accurately performed by accurately reflecting the toner consumption by surface staining to the toner consumption from each color developing apparatus 31K, 31C, 31M and 31Y to a photoreceptor 11.例文帳に追加

各色の現像装置３１Ｋ，Ｃ，Ｍ，Ｙから感光体１１へのトナー消費量に、地汚れによるトナー消費を正確に反映させて、トナー消費に伴って必要になるトナーニアエンド判定処理、トナーエンド判定処理、トナー補給処理等の所定の制御を正確に行うことができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In this removal method for removing a silicon oxide film formed on a surface of a processing object W in a processing vessel 4 capable of being vacuumed, a removal process of removing the silicon oxide film by using HF gas and NH_3 gas and setting a set range of processing temperature to 150-200°C is executed.例文帳に追加

真空引き可能になされた処理容器４内にて、被処理体Ｗの表面に形成されているシリコン酸化膜を除去するための除去方法において、ＨＦガスとＮＨ_３ ガスとを用いると共に、処理温度の設定範囲として１５０〜２００℃の範囲内に設定することによりシリコン酸化膜を除去する除去工程を行うようにした。 - 特許庁

The controller 15 includes an image processing part 17 for performing image processing for the imaged image of each tuft 12 acquired by the imaging camera 14, and a separation detecting part 18 for detecting a separation state of the air layer flowing along on the blade surface based on image data of each tuft 12 obtained by the image processing part 17.例文帳に追加

コントローラ１５は、撮像カメラ１４により取得された各気流糸１２の撮像画像に対して画像処理を施す画像処理部１７と、画像処理部１７により得られた各気流糸１２の画像データに基づいて、翼面上に沿って流れる空気層の剥離状態を検出する剥離検出部１８とを有している。 - 特許庁

In the time measuring system, the time measuring device, and the vehicle, a mobile unit 1 continuously images a road surface by a CCD camera 11 and transmits an image by a transmitter 12; an image processing device 2 analyses the image and recognizes start/end point of the time measurement to output it to a time processing device 3; and the time processing device measures time.例文帳に追加

移動体１がＣＣＤカメラ１１により路面を連続的に撮像して送信機１２で送信し、画像処理装置２がこの画像を分析して、タイム計測の開始・終了点を認識してタイム処理装置３に出力し、タイム処理装置３がタイム計測を行うタイム計測システム、タイム計測装置、及び車両である。 - 特許庁

In a laser processing method irradiating with laser beam a processed word in which chemical composition of at least adjacent two layers are different and a portion provided for a plurality of hole processing of a surface layer is removed, reflecting light from the processed work is detected regarding first irradiated laser beam, and that laser processing is stopped when detecting value deviated from a required value.例文帳に追加

少なくとも隣接する２層の化学組成が異なり、表層の複数の穴加工を行う部分を除去した被加工物へレーザ光を照射するレーザ加工方法であって、初めに照射されたレーザ光について被加工物からの反射光を検出し、所望の検出値から外れる場合にレーザ加工を中止するレーザ加工方法を行う。 - 特許庁

To provide an epoch making steam processing method for fixing a dyeing material to a ground fabric by preventing generation of irregular colors and creases after steam processing of the ground fabric by bringing steam to pass through a space between the surface and the back in a hanging section for hanging the ground fabric, and a steam processing apparatus for fixing the dyeing material to the ground fabric.例文帳に追加

生地を掛け下げる掛け下げ部に、蒸気が生地の表裏間を通気し得るようにすることで、蒸し加工後の生地に色むらや折り目が発生することを防止することができるこれまでにない画期的な染色材を生地に定着させるための蒸し加工方法並びに染色材を生地に定着させるための蒸し加工装置を提供すること。 - 特許庁

To easily and accurately exchange a processing cartridge even by a user when the toner near-end of a developing device is detected in an image forming device in which a photoreceptor and the developing device to visualize an electrostatic latent image on a surface thereof are constituted an integral processing cartridge and the processing cartridge is freely attachably and detachably attached to an image forming device body.例文帳に追加

感光体と、その表面の静電潜像を可視像化する現像装置とが一体的なプロセスカートリッジとして構成され、そのプロセスカートリッジが画像形成装置本体に着脱自在に装着される画像形成装置において、現像装置のトナーのニアエンドが検知されたとき、ユーザでも、簡単かつ正確にプロセスカートリッジを交換できるようにする。 - 特許庁

To provide a photosensitive material processing apparatus provided with a conveying mechanism conveying a photosensitive material and a liquid dipping part for supplying processing liquid to the photosensitive material being conveyed by the conveying mechanism, wherein the liquid dipping part is provided with a friction means of rubbing a surface of the photosensitive material having been supplied with the processing liquid, wherein the photosensitive material is more efficiently processed.例文帳に追加

感材を搬送する搬送機構と、前記搬送機構によって搬送中の感材に処理液を施す液浸部とを備え、前記液浸部には、処理液を施された感材の面を摩擦する摩擦手段が設けられている感材処理装置において、感材の処理がより効率的に行われる感材処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a glow plug improved in certainty in power distribution to a heating element, when metal different from metal used to form a shaft, is used in plate processing of a surface of a ring member.例文帳に追加

リング部材の表面のめっき処理に、中軸を形成する金属とは異なる金属を用いた場合における、発熱体への通電の確実性を高めたグロープラグを提供すること。 - 特許庁

To provide a clip attaching structure enhanced in appearance looked from the side surface of a clip, capable of preventing the lowering of the attaching strength of the clip and also easy in the bending processing of the clip.例文帳に追加

クリップ側面から見た場合の見栄えが向上すると共に、クリップの取付強度の低下を防止でき、しかも、クリップの折曲加工も容易となるクリップ取付構造を提供する。 - 特許庁

By this setup, the measurement of the electric sensor 7 can be corrected for a temperature rise of the external surface 11 of the device due to plasma processing, and a state of plasma can be monitored with high accuracy.例文帳に追加

これにより、プラズマ処理による装置外表面１１の温度上昇による、電気センサー７計測値の補正を可能とし、高精度にプラズマ状態をモニタすることができる。 - 特許庁

An electric wiring board 208 fitted with a light emitting element 202 is arranged on a back surface side of a game board 18, fitted to a set plate 206 having been grounded in advance, and subjected to conduction processing.例文帳に追加

発光素子２０２が取り付けられた電気配線基板２０８を、遊技盤１８の裏面側に配設され、予め接地処理されたセット板２０６に取り付け、かつ導通処理を施した。 - 特許庁

To provide a device and a data structure capable of performing graphics processing for sticking another image on the surface of a three-dimensional(3 D) object drawn on an image in a short time with a little computational complexity.例文帳に追加

画像に描かれた３次元物体の表面に別の画像の貼り付けるグラフィックス処理を、少ない計算量で短時間に行うことのできる装置およびデータ構造を提供する。 - 特許庁

A hardly soluble layer 4 is formed on an interface between the low molecular hole transportation layer 3 and the high molecular light emission layer 5 by performing surface processing of the low molecular hole transportation layer 3 by using an ether compound.例文帳に追加

低分子ホール輸送層３をエーテル化合物にて表面処理することにより、低分子ホール輸送層３と高分子発光層５との界面に難溶化層４を形成する。 - 特許庁

To perform processing so as to limit the waving or deformation of a substrate for a magnetic recording medium to a minimum and to maintain similar surface accuracy irrespective of a substrate plate thickness or a substrate size.例文帳に追加

磁気記録媒体用の基板のうねり、変形を最小にとどめること、基板の板厚や基板サイズに関わらず同様の表面精度を保持するように処理すること。 - 特許庁

To obtain a picture tube which uses a panel without processing its surface, has almost uniform brightness ratio between a peripheral part and a center part of a screen and can reproduce an image without degrading a contrast.例文帳に追加

表面処理をしないパネルを使用した受像管おいて、画面の周辺部／中央部での輝度比がほぼ均一でしかもコントラスト劣化の少ない画像を再現できる受像管を得る。 - 特許庁

Crowning machining by grinding is applied on the peripheral surface of a roller 3 of a conical roller bearing, and after that, finishing processing is carried out by barrel polishing and tumbler polishing such that grinding scale division is prevented from remaining.例文帳に追加

円錐ころ軸受のころ３の周面に研削によるクラウニング加工を行い、その後、バレル研磨またはタンブラー研磨により研削目が残らないように仕上げ加工を行なう。 - 特許庁

The processing liquid is discharged in the shape of a line along the arrangement direction X from a diagonal upper direction to the upper surface of the substrate W along the rotating direction A of the substrate W from a multi-pore nozzle 32.例文帳に追加

多孔ノズル３２から基板Ｗの回転方向Ａに沿って基板Ｗの上面に対して斜め上方から配列方向Ｘに沿って列状に処理液を吐出させる。 - 特許庁

After parts except the pit region part 13 are masked and a surface treatment by a fluorine processing agent is executed only at the pit region part 13, dyestuff application by a spin coat (formation made of a recording film) is executed.例文帳に追加

ピット領域部１３以外の部分をマスクし、ピット部領域１３にのみフッ素加工剤による表面処理を施した後、スピンコートにより色素塗布（記録膜の形成）を行った。 - 特許庁

To provide a sealant film not causing an orange peel in the surface of a package even when an oil-containing foodstuff is packaged with an aluminum foil laminated film for a high retort and subjected to a high retort processing.例文帳に追加

ハイレトルト用アルミ箔積層フィルムで油分含有食品を包装し、ハイレトルト処理を施しても包装体の表面にゆず肌を生じさせないシーラントフィルムを提供する。 - 特許庁

After carrying out press molding of a separator material board, or before carrying out press molding, a chemical substance layer forming processing, in which volume expansion of the mother material is urged, is performed to the surface of the separator material board.例文帳に追加

セパレータ素材板をプレス成形した後、もしくはプレス成形する前に、セパレータ素材板の表面に、母材の体積膨張を促す化学物層形成処理を施す。 - 特許庁

By structuring the substrate processing device like that, a part of the back surface of the semiconductor wafer supported by a support member can be made different in the heat treatment executed in the heat treatment module for every heat treatment.例文帳に追加

このような構成にすることで、熱処理モジュールで行われる熱処理では熱処理毎に半導体ウエハの裏面を支持部材により支持する部位を異ならせることができる。 - 特許庁

A processing chamber 1 is constituted by fitting a panel-like front plate 13, a side plate 14, and a back plate 16 to an opening in a side surface of the frame through seal members 138, 148, 168.例文帳に追加

その側面の開口部に、パネル状の前板１３、側板１４および裏板１６がシール部材１３８、１４８および１６８を介して取り付けられて処理チャンバ１が構成される。 - 特許庁

IN the device, one side edge of a plate-like reinforcing material where an R-shape in a cross section for relaxing the electric field is formed by being processing is attached to an inner surface of a container sidewall.例文帳に追加

横断面において電界緩和用のＲ形状が折り曲げ加工にて形成された板状の補強部材の一側縁を容器側壁の内面に取り付けた構成とした。 - 特許庁

The storage elements are mounted not in the process to generate the sheet itself but in the process to carry out the surface working processing of the sheet so that the storage elements can be mounted on the sheet as necessary.例文帳に追加

用紙自体を生成する過程ではなく、用紙の表面加工処理が行われる際に記憶素子が実装されるため、必要に応じて用紙に記憶素子を実装することができる。 - 特許庁

A processing part 405 outputs the presence or absence of polishing residual films in the whole region of the surface to be polished of the wafer Wm as a monitoring result based on color image information obtained from the CCD 401.例文帳に追加

処理部４０５は、ＣＣＤ４０１から得られるカラー画像情報に基づいて、ウエハＷｍの被研磨面の全域における研磨残り膜の有無を、モニタ結果として出力する。 - 特許庁

To enhance the surface strength of a decorative sheet, using no vinyl chloride resin and having an embossed pattern formed by emposs processing so that the decorative sheet is hardly damaged at the time of use as a floor material or the like.例文帳に追加

塩化ビニル樹脂シートを使用せずエンボス加工による凹凸模様を有する化粧シートを、床材等に使用時に傷付き難い様に表面強度を向上させる。 - 特許庁

It is desirable that the surface of the conductor layer of the printed circuit board is performed coarsening processing so that the relative roughness Rz of the part contacting to the paste for filling through hole may be set to 0.3 to 20 μm at least.例文帳に追加

プリント配線板の導体層の表面は、少なくともスルーホール充填用ペーストと接触する部分を粗度Ｒｚが０．３〜２０μｍになるように粗化処理するとよい。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which can form a uniform and homogeneous thin film on the entire surface of a substrate by eliminating the specific point of the central part of the substrate, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

基板中央部の特異点を無くし、基板全面で均一かつ均質な薄膜を形成することができる基板処理装置及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

It is possible to perform side surface shifting of the sheet passing through the system 20 by simply inclining a pair of the curved baffles 32, 34 relative to the processing direction of the paper pass.例文帳に追加

システム２０を通過しているシートの側面シフトは、１対の湾曲されたバッフル３２、３４をペーパーパスの処理方向に対して単に斜めにすることによって達成することができる。 - 特許庁