「surface processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(90ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which has a good polishing accuracy and polishing speed by setting processing conditions in compliance with a state of unevenness of the surface to be processed.例文帳に追加

加工すべき表面の凹凸の状態に合わせて加工条件を設定することで、研磨加工精度及び研磨加工速度に優れた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

An antenna coil 2 having a terminal 2a is formed on a module substrate 1, and the simplified transfer processing of the anisotropic conductive film is applied to the surface, where the antenna coil 2 is formed, of the module substrate 1 at least.例文帳に追加

モジュール基板１上に端子２ａを有するアンテナコイル２を形成し、少なくともモジュール基板１のアンテナコイル２形成面に異方性導電フィルムの易転写処理を施す。 - 特許庁

To obtain a three-dimensional shape data processor with a function capable of automatically executing the precise extracting processing of a face area for model, which is required when preparing a face surface model.例文帳に追加

顔面模型を作成する際に必要とされる模型用顔領域の正確な抽出処理を自動的に行うことができる機能を有する３次元形状データ処理装置を得る。 - 特許庁

An end surface 820 of the workpiece 80 gripped by a chuck 50 equipped on a first main spindle of the lathe system processing machine, is machined, and a screw hole 830 is formed.例文帳に追加

旋盤系複合加工機の第１主軸に装備されたチャック５０に把持された加工物８０の端面８２０は機械加工されるとともに、ねじ穴８３０が形成される。 - 特許庁

The method for manufacturing the glass optical element comprises press-molding the glass workpiece comprising fluorophosphate glass by using a mold and without subjecting the optical functional surface formed by press molding to mechanical processing.例文帳に追加

フツリン酸ガラスからなるガラス素材を、成形型によってプレス成形して、プレス成形によって形成された光学機能面を機械加工することなしにガラス光学素子を製造する方法。 - 特許庁

To provide a substrate processor and a substrate processing method for generating a frozen film on a substrate surface while suppressing the deterioration of the durability of a substrate peripheral member.例文帳に追加

基板周辺部材の耐久性が劣化するのを抑制しながら基板表面に凍結膜を生成することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ink set that applies a first ink and a second ink over a sheet substrate and lends itself well to processing of this coated surface, and to provide a printed matter and a molded article.例文帳に追加

シート状をなす基材上に第１のインクと第２のインクとを塗布し、その塗布面に対して加工を施す際の加工性に優れるインクセット、印刷物および成形体を提供する。 - 特許庁

The image data processing unit 12 determines the width of the heat affected zone 5 from the boundary position between the heat affected zone 5 and the surface of a parent material and sends the result to a quality determination unit 13.例文帳に追加

画像データ処理装置１２では、熱影響部５と母材表面との境界位置から熱影響部５の幅を求め、その結果を良否判定装置１３へ送出する。 - 特許庁

The number of dressing runs to the slope 31 can be made greater than the case where no flat surface 33 is provided, and it is possible to increase the number of processing runs per grinding element.例文帳に追加

また、平坦面３３を設けない場合よりも、斜面３１のドレス回数を多くすることができ、これによって砥石１つ当たりの加工数を増大させることができる。 - 特許庁

During (i+1)th period, a data block DB_i+1 is inputted from a terminal 7 with the surface side and the backside alternated, and the similar processing is repeated.例文帳に追加

ｉ＋１番目の時間では表面側と裏面側を交代してデータブロックＤＢ_i+1 が端子６から入力され、データブロックＤＢ_i が端子７から入力され、同様の処理を繰り返す。 - 特許庁

To obtain the improvement of a working efficiency for lubricating-treatment, related to a lubricating-treatment apparatus for billet and a billet-lubrication processing method for forming a film of lubricant on the surface of the billet.例文帳に追加

ビレットの表面に潤滑剤の皮膜を形成するためのビレット用潤滑処理装置、およびビレット潤滑処理方法に関して、潤滑処理の作業効率の向上を図る。 - 特許庁

A multifunction device 100 performs read processing of reading images of document surfaces from both surfaces of a document per document surface and has a page number recognition part 200 and a display control part 201.例文帳に追加

複合機１００は、原稿の両面から原稿面の画像を原稿面毎に読み取る読取処理を行い、頁番号認定部２００および表示制御部２０１を有する。 - 特許庁

After reflow processing is carried out for five minutes at 350°C, an aluminum film is etched back to the surface of the product substrate to manufacture a polarizing optical element having a conductive element array of aluminum buried in a quartz substrate.例文帳に追加

３５０℃で５分間リフローした後、アルミニウム膜を製品基板表面までエッチバックして、アルミニウムの導電素子アレイが石英基板に埋め込まれた偏光光学素子を製作した。 - 特許庁

To simply manufacture artificial marble not transparent only on the back side thereof without coating only the back side or especially processing only one mold so as to form a rough surface.例文帳に追加

裏面側のみに塗装をしたり、あるいは片側の成形型のみ特別に粗面に加工したりすることなく、簡単な方法で裏面側のみが透明でない人造大理石を製造できる。 - 特許庁

To provide a plasma doping method excellent in a uniformity of an impurity concentration introduced on the surface of a sample and providing a fast processing speed than conventional method, and to provide a device.例文帳に追加

試料表面に導入される不純物濃度の均一性に優れたプラズマドーピング方法や、従来よりも早い処理速度を実現できるプラズマドーピング方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image data processing method for preparing two-dimensional image data on a prescribed horizontal center projection surface from image information obtained from a line sensor loaded on a moving object.例文帳に追加

移動体に搭載したラインセンサから得られた画像情報から所定の水平中心投影面上における２次元画像データを作成する画像データ処理方法を提供する。 - 特許庁

The heating means 30 is provided with a halogen lamp 35 being a heat source, a radiation heat transmission body composed of a core bar 32 and a radiation energy absorbing material 33, and a surface processing part 34.例文帳に追加

加熱手段３０には、熱源であるハロゲンランプ３５、芯金３１と輻射エネルギー吸収材３３よりなる輻射熱伝達体、および表面処理部３４を備える。 - 特許庁

To provide an improved method of forming a dielectric layer on a substrate in a board processing chamber, and besides cleaning and removing the stacked material on the wall inside the chamber and the surface.例文帳に追加

基板処理チャンバの中に配置される基板の上に誘電層を形成し且つチャンバの内部の壁及び表面の堆積材料をクリーニングして取り去る改良された方法。 - 特許庁

In an arithmetic processing circuit 11, the pixel value of pixels composing of an image is separated to a surface reflected light component and a diffused and reflected light component on the basis of a dichromatic reflection model.例文帳に追加

演算処理回路１１において、画像を構成する画素の画素値が、ダイクロマティックリフレクションモデルに基づいて、表面反射光成分と拡散反射光成分とに分離される。 - 特許庁

To provide a plasma processing unit, and its substrate mounting table, in which a self-bias voltage can be measured while using a substrate mounting table of such a structure as the surface is coated with an insulator.例文帳に追加

表面が絶縁体で被覆された構造の基板載置台を用いつつ、自己バイアス電圧を測定することの可能なプラズマ処理装置、および、その基板載置台を提供すること。 - 特許庁

To obtain an image processing method and an image pickup device which can accurately detect an artificial product fast even in a state wherein there are many disturbing images like a water surface.例文帳に追加

水面のように擾乱画像の多い状況下においても人工物等を的確且つ高速に検出することができる画像処理方法および撮像装置を提供する。 - 特許庁

The signal processing IC 4 is disposed between the pressure sensor element and the circuit board 9 and mounted on the mounting surface of the circuit board 9 in such a way as to be opposed to the shield layer 9h.例文帳に追加

信号処理用ＩＣ４を、圧力センサ素子と回路基板９との間に配置し且つシールド層９ｈと対向するように回路基板９の実装面上に実装する。 - 特許庁

The wall surface of a waste liquid tank of the photographic processing device is provided with a guide path for guiding a waste liquid hose along the prescribed route and a holding part for holding the waste liquid hose to this guide path.例文帳に追加

写真処理装置の廃液タンクの壁面に、廃液ホースを所定の経路に沿って案内するための案内路と、廃液ホースを前記案内路に保持するための保持部とを設けた。 - 特許庁

In order to inspect the surface of the developing roller 100 of a laser printer, a light source 1, a camera 2 and a personal computer 21 which performs an image processing operation on the basis of image data from the camera 2 are provided.例文帳に追加

レーザプリンタの現像ローラ１００の表面を検査するために、光源１と、カメラ２と、カメラ２からの画像データに基づいて画像処理を行うパソコン２１と、を備える。 - 特許庁

In the method of rapid thermal processing (RTP) of a silicon substrate, a very low partial pressure of reactive gas is used to control etching and growth of oxides on the silicon surface.例文帳に追加

シリコン基板の高速昇降温処理（ＲＴＰ）の方法において、非常に低い分圧の反応性ガスを使用してシリコン表面上でのエッチングおよび酸化膜の成長を制御する。 - 特許庁

To provide a substrate-processing device which can blow off gas of a uniform wind velocity over a blow-off surface, even if a gas blow-off means supplying down flow to a substrate is thin.例文帳に追加

基板にダウンフローを供給する気体吹出手段が薄型であっても、吹出面にわたって均一な風速の気体を吹出すことができるものを備えた基板処理装置を提供する。 - 特許庁

A defect 13 can be detected by conducting various image processing for an image of the surface of the sheet-like product 1 image by an image pickup means 12.例文帳に追加

撮像手段１２が撮像するシート状製品１１の表面の画像に対して各種の画像処理を施すことなどによって、欠陥１３として検出することができる。 - 特許庁

To provide a process to obtain broad range of feature detail in the same resist film with sufficiently uniform surface topography and without the need to perform significant post-patterning processing.例文帳に追加

同一レジスト膜に、実質的なパターニング後処理を行う必要がない十分に均一な表面トポグラフィを有する、広範囲のフィーチャのディテールを得ることが可能なプロセスの提供。 - 特許庁

The amount of the processing liquid 14 existing between the glass substrates 23 is set to be 1.4 to 71 g/cm^2 with respect to the surface area of the glass substrate 23.例文帳に追加

このとき、対向するガラス基板２３間に存在する化学強化処理液１４の量は、ガラス基板２３の表面積に対して１．４〜７１ｇ／ｃｍ^2に設定されている。 - 特許庁

To provide a chlorine-containing thermoplastic resin composition holding low-temperature impact resistance and high-temperature mechanical characteristics, having good processing characteristics, and providing a molded product having good surface appearance and color development.例文帳に追加

低温衝撃強度及び高温機械特性を保持し、良好な加工特性、成形物表面外観及び発色性を有する塩素含有熱可塑性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To prevent bending of a substrate, in a state where the lower surface of the substrate is not in contact with other members, when laser beam processing is performed from above while placing on the lower side a thin film formed on the large substrate.例文帳に追加

大きな基板上に形成された薄膜を下側にして上側からレーザ加工する際に、基板の下面が他の部材に接触しない状態で基板の撓みを防止する。 - 特許庁

Then, the information of the reliability to a detected result is presented by using the reliability of the voxel part used when performing the detection of a lesion candidate or the like with the surface model by image processing.例文帳に追加

そして、画像処理により表面モデルを病変候補の検出等を行う場合に、用いたボクセル部分の信頼度を用いて検出結果に対する信頼度の情報を提示する。 - 特許庁

Groove parts 5 can be applied to the decorative sheet at a depth exceeding the thickness of the decorative sheet 3 but no piercing the hard sheet layer from the surface of the decorative sheet 3 by cutting processing or the like.例文帳に追加

該化粧シート３の表面から、該化粧シート３の厚みを越え、前記硬質シート層２を貫通しない深さに、切削加工等により溝部５を施すことができる。 - 特許庁

To provide a metallic member for adhesion by vulcanization sufficiently removing an oxide layer on a surface thereof by blast processing, with superior resistance to corrosion and deterioration of an adhesive interface.例文帳に追加

ブラスト処理により表面の酸化物層が十分に除去され、ゴムとの加硫接着性、接着界面の耐腐食劣化性に優れた加硫接着用金属部材を提供する。 - 特許庁

The controller 40 performs the wiping processing in such a state that the pressing force from the wiper member 39 to the nozzle formed surface 22a is made to approach the set pressing force.例文帳に追加

そして、制御装置４０は、ノズル形成面２２ａに対するワイパー部材３９からの押し付け力を、設定した押し付け力に近づけた状態で払拭処理を実行する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of suppressing an occurrence of loading effect without reference to the shape of a circuit pattern formed on a wafer to improve uniformity in film thickness in a wafer surface.例文帳に追加

ウエハに形成された回路パターンの形状によらずにローディング効果の発生を抑制でき、ウエハ面内における膜厚の均一性を向上できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The detection part 5 is installed at the upstream side of the conveyance 2 of the print processing part 7, and configured to detect whether or not the first main surface of the radio token 11 faces a thermal head 7A.例文帳に追加

検出部５は、印字処理部７よりも搬送路２の上流側に設けられ、無線トークン１１の第１の主面がサーマルヘッド７Ａに対面するか否かを検出する。 - 特許庁

Chamfering processing is carried out to a second delivery cylinder 3 on the peripheral surface S so that the part to which the paper bottom side of sheet P contacts may radially become reduced diameter of a cylinder rather than a near gripper G.例文帳に追加

第二排紙胴３は、その周面Ｓについて、グリッパＧ付近よりも、枚葉紙Ｐの紙尻側が当接する部分が、胴の径方向で径小となるように面取り加工されている。 - 特許庁

While the atmosphere shield plate 30 is brought closer to the substrate W and the substrate W is rotated, the processing liquid and gaseous nitrogen, etc., are supplied from the lower surface and the processings of washing and drying, etc., are performed.例文帳に追加

雰囲気遮断板３０を基板Ｗに近接させて基板Ｗを回転させつつ、その下面から処理液や窒素ガス等を供給して洗浄や乾燥等の処理を行う。 - 特許庁

To provide an ultra-thin polyimide film easy to handle during processing by virtue of slipperiness of the surface and suitable for attaining smaller size and higher density of an electronic device such as a film capacitor.例文帳に追加

表面の易滑性に優れていることにより加工の際に取り扱いの容易な、フィルムコンデンサなどの電子機器類の小型化、高密度化に好適な極薄いポリイミドフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing device for thin-film solar cell in which a laser scribing processing is desirably performed with the film forming surface of a substrate facing downward, as is disclosed as a conventional technique example.例文帳に追加

薄膜太陽電池の製造装置においては、従来の技術例として開示されている基板上の成膜面を下に向けた状態で該基板をレーザスクライブ加工する方が望ましい。 - 特許庁

In a substrate processing apparatus, a substrate W is held at a predetermined position on a spin base 13 by pressing the substrate to supporting pins FF1 to FF6, and SS1 to SS6 with nitrogen gas supplied to the substrate surface.例文帳に追加

基板表面に供給される窒素ガスによって基板Ｗが所定の支持位置で各支持ピンＦＦ１〜ＦＦ６，ＳＳ１〜ＳＳ６に押圧されてスピンベース１３に保持される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a wiring board that can perform processing while maintaining size stability up to interconnect formation on a back-to-back separation surface, and secure high operation efficiency.例文帳に追加

背合わせ分離面の配線形成まで寸法安定性を維持しながら加工することができ、高い作業効率を確保することのできる配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain high surface passivation effect and to shorten a film deposition time, with respect to film depositing processing wherein a silicon nitride thin film is deposited on a semiconductor element by plasma CVD (Chemical Vapor Deposition).例文帳に追加

プラズマＣＶＤによって半導体素子上に窒化シリコン薄膜を形成する成膜処理において、高い表面パッシベーション効果を得ると共に、成膜時間を短縮する。 - 特許庁

A drill blade 102 is arranged by turning its tip toward the processing object surface 201a, and is rotatingly driven in the axially rotating direction of its axis AY by driving of an air drill body 103.例文帳に追加

ドリル刃１０２は、その先端を加工対象面２０１ａに向けて配置され、エアドリル本体１０３の駆動によってその軸線ＡＹの軸回り方向に回転駆動する。 - 特許庁