「surface processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(94ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an accurate surface state judging device by using one optical system for reducing the size of a judging device and the cost, and at the same time, omitting the correction processing.例文帳に追加

一つの光学系を用いることにより装置の小型化および低コスト化を図るとともに、補正処理を省略し、より精度の高い表面状態判定装置を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method, after washing a piezoelectric single crystal wafer for the surface acoustic wave substrate with weak acid liquid whose pH is in the range of 4.0-6.5, it is cleaned with pure water whose pH is in the range of 6.0-8.0 (pre-processing process).例文帳に追加

弾性表面波基板用圧電単結晶ウェーハをｐＨが 4.0〜 6.5の範囲の微弱酸液で洗浄した後、ｐＨが 6.0〜 8.0の範囲の純水で洗浄する（前処理工程）。 - 特許庁

A fitted means is fitted at an inner periphery surface of a rotor shaft 25 formed by plasticity processing to form a positioning form portion 36 which can be positioned in a circumferential direction.例文帳に追加

塑性加工により形成されるロータ軸２５は、内周面に、被係合手段が係合されることで周方向に位置決め可能な位置決め形状部３６が形成されている。 - 特許庁

When the processing mode of characteristic process is an entire surface mode requiring no image characteristics information (S701; Y), the parameter Zdata Length of packet data is set at 0 (S702).例文帳に追加

特性処理の処理モードが画像特性情報を必要としない全面モードである場合（Ｓ７０１，Ｙ）、画像入力インターフェース部において、パケットデータのパラメータＺｄａｔａＬｅｎｇｔｈを０に設定する（Ｓ７０２）。 - 特許庁

Processing for clearing an alpha map, and for plotting the surface side of a model 600, and for setting a preliminarily decided alpha value is repeated from an outside model 600d to an inside model 600a.例文帳に追加

アルファマップをクリアした後、モデル６００の表側を描画し、あらかじめ定めたアルファ値を設定する処理を外側のモデル６００ｄから、内側のモデル６００ａまで繰り返す。 - 特許庁

In a washing and drying chamber 1 being the liquid processing chamber, a liquid drop removing part 210 is arranged which is shaped covering the carry-out/in opening 27 bored in the in-chamber wall surface 21.例文帳に追加

液体処理室である洗浄乾燥室１の室内において、室内壁面２１に開口された搬出入口２７を覆う形状を有する液滴除去部２１０を配設する。 - 特許庁

To provide a method for forming texture by which a post-processing is made unnecessary by suppressing the occurrence of debris without degrading the shape accuracy of the texture formed on the surface of a sliding member.例文帳に追加

摺動部材表面に形成されるテクスチャの形状精度を低下させることなく、かつ、デブリの発生を抑制して後工程を必要としないテクスチャ形成方法を提供する。 - 特許庁

When processing sheet jamming in the relay conveyor 4, an automatic document feeder 2a and the reader case 4a are integrally turned backward to open a carrying surface of a sheet.例文帳に追加

中継搬送装置４におけるシートジャムを処理する場合、自動原稿給送装置２ａと読取筐体４ａとを一体に後方へ回動させてシートの搬送面を開放する。 - 特許庁

Reporting by this reporting means is performed, attracting the interest of the person to be photographed, by reproducing and displaying moving image data selected in processing of S2 on a back surface monitor 12.例文帳に追加

この報知手段による報知は、Ｓ２の処理で選択された動画データが背面モニタ１２に再生表示されることによって、被撮影者に興味が持たせられて行われる。 - 特許庁

A method for processing a semiconductor base material wherein a base material having single crystal on its surface is heat-treated in a reducing atmosphere at a temperature not higher than a melting point of the single crystal.例文帳に追加

表面に単結晶を有する基体を該単結晶の融点以下の温度において還元性雰囲気中で熱処理することを特徴とする半導体基材の加工方法。 - 特許庁

The surface, which must be overlaid with the high gloss film, of the resin impregnated laminated sheet is subjected to smoothing processing.例文帳に追加

この基材１２となる樹脂含浸材積層板は、０．８ｍｍ〜１．６ｍｍの厚みを有し、樹脂含浸材積層板のうち、ハイグロスフィルムが積層されるべき面は、平滑化加工されている。 - 特許庁

A processing tool 2 is provided with a pin 23 at an axial center of longitudinal one end of a rod-like tool body 21, the pin 23 having a curved surface 23a whose diameter is gradually reduced toward the tip.例文帳に追加

加工ツール２には、棒状ツール本体２１の長手方向一端の軸心上に先端に向かって次第に縮径する湾曲面２３ａを有するピン２３が突設されている。 - 特許庁

A doomed enclosure wall 120 for a plasma processing chamber 100 is made of a dielectric material with a rough surface, having average roughness of about 150 to about 450 microinches.例文帳に追加

プラズマ処理チャンバ１００のためのドーム型エンクロージャ壁１２０は、約１５０から約４５０までマイクロインチの粗さ平均を有する粗い表面を有する誘電材料から作られる。 - 特許庁

With respect to the processing method for wafers, a polysilicon film 12 having a thickness of 0.1-2 μm is formed on the whole surface of a silicon wafer 11 contaminated by a metal impurity containing Cu and/or Ni.例文帳に追加

Ｃｕ又はＮｉのいずれか一方又はその双方を含む金属不純物に汚染されたシリコンウェーハ１１の全面に厚さ０．１〜２μｍのポリシリコン膜１２を成膜する。 - 特許庁

When a blast processing solution is jetted from the opening 16 of the case port, the insulating layer of the wall surface of a case cylinder 14 remains without performing masking, and the insulating layer of the case back 18 is removed.例文帳に追加

ブラスト処理液をケース入口開口１６から噴射すると、マスキングを施さなくても、ケース筒部１４の壁面の絶縁層が残り、ケース奥部１８の絶縁層が除去される。 - 特許庁

Then, the Z value is applied to the set Z value application range, and hidden surface erasure processing within the Z value application range based on the replay camera CM is performed so that a replay image can be generated.例文帳に追加

そして、設定されたＺ値適用範囲にＺ値が適用され、リプレイカメラＣＭに基づくＺ値適用範囲内の隠面消去処理を行うことでリプレイ画像が生成される。 - 特許庁

Fluctuation of a rotating torque of the tapered shaft 3 is detected by a torque sensor 5, and a signal detected by the torque sensor 5 is subjected to signal processing, to thereby detect a defect on the rolling contact surface or on the roller.例文帳に追加

このテーパ軸３の回転トルクの変動をトルクセンサ５で検出し、トルクセンサ５で検出された信号を信号処理することで前記転走面またはころの欠陥を検出する。 - 特許庁

This processing method for board has the process of preparing the board 101 on which a laser stopping layer 108 made of a material, which can suppress the permeation of laser beams, is installed on one surface side.例文帳に追加

基板の加工方法は、一方の面側にレーザー光の透過を抑制することが可能な材料からなるレーザーストップ層１０８が設けられた基板１０１を用意することを有する。 - 特許庁

Both of a laser device 3 and a condensing lens 5 are positioned by a moving device so that the forcus point of a laser beam is positioned in the vicinity of the center of the processing surface of the ingot 1.例文帳に追加

レーザー光の集光点が、インゴット１の加工面の中心近傍に位置するように、レーザー装置３および集光レンズ５の位置を、移動装置によって位置決めする。 - 特許庁

A polysilicon film surface processing agent is substantially consisting of hydrofluoric acid of 0.01 to 0.5 mass% or ammonium fluoride of 0.5 to 5 mass%, nitric acid of 50.0 to 80.0 mass% and water.例文帳に追加

０．０１〜０．５質量％のフッ化水素酸又は０．５〜５質量％のフッ化アンモニウム、５０．０〜８０．０質量％の硝酸及び水とから本質的になる、ポリシリコン膜の表面処理剤。 - 特許庁

A multiple spiral electrode 22 is formed by thin film fine processing on the surface of the dielectric board 1 and a ground electrode 3 is formed on the lower face to configure a multiple spiral resonator.例文帳に追加

誘電体基板１の表面に薄膜微細加工による多重スパイラル電極２２を形成し、下面にグランド電極３を形成して多重スパイラル共振器を構成する。 - 特許庁

EXPLORER HAVING GRATING COUPLER AND ITS MANUFACTURING METHOD, PROBE HAVING EXPLORER, INFORMATION PROCESSING DEVICE HAVING PROBE, SURFACE OBSERVATION DEVICE, EXPOSURE DEVICE, AND OPTICAL ELEMENT BY EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

グレーティングカップラを有する探針及びその製造方法、該探針を有するプローブ、及び該プローブを有する情報処理装置、表面観察装置、露光装置、該露光装置による光学素子 - 特許庁

To manufacture a plurality of optical disk substrates from one master glass plate by solving problems of surface deterioration due to oxidation processing and squareness deterioration due to the transfer of 2P resin.例文帳に追加

酸化処理による表面性の劣化がなく、更に２Ｐ樹脂の転写による矩形性の劣化の問題を解決し、一枚のガラス原盤から複数の光ディスク基板用スタンパーを作製する。 - 特許庁

To electrolytically etch the surface of a disk extremely precisely with a single disk processing by supplying an electrolytic liquid from a nozzle to the disk while driving to rotate the disk by a spindle.例文帳に追加

ディスクをスピンドルにより回転駆動する間に、電解液をノズルからディスクに供給することにより枚葉処理で、ディスクの表面を極めて高精度に電解エッチング加工を行う。 - 特許庁

For the after treatment of the permanent depilation processing, an induction roller 3 imparts the weak currents from the main body device 1 to the part of the skin surface subjected to the permanent depilation process.例文帳に追加

導入ローラ３において、本体装置１からの微弱電流を、永久脱毛処理後の手入れを行うために、永久脱毛処理を行った皮膚表面部位に与える。 - 特許庁

This coloring combined with the roughness of a surface passivation layer makes the tone change unnoticeable between the openings or portions of the electrode patterns resulting from the integrating processing.例文帳に追加

また前記の着色は、表面パッシベーション層の凹凸と相俟って、集積化加工に伴う開孔や電極パターンの部分間での色調変化を目立たなくすることができる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method without causing occurrence of a foreign material on a surface of a substrate even when annealing is performed by a batch processing system using a vertical annealing furnace.例文帳に追加

縦型アニール炉を使ったバッチ処理方式によってアニールを行った場合にも基板表面に異物が発生することがない、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

That is, this circuit is constituted so as to perform the laser texture processing for a hard disk substrate surface after the laser energy is fixed by controlling pulse width for every one pulse.例文帳に追加

すなわち、本発明においては、１パルス毎にパルス幅を制御することによりレーザエネルギを一定としたうえで、ハードディスク基板表面に対してレーザテクスチャ加工を行うようにしている。 - 特許庁

To provide a water bottom polluted ground stabilization processing construction method for inexpensively solidifying the water bottom ground having a polluted floating mud layer on a surface without diffusing the floating mud layer.例文帳に追加

表面に汚染された浮泥層を有する水底地盤を、その浮泥層を拡散させることしなく低コストで固化処理できる水底汚染地盤の安定化処理工法の提供。 - 特許庁

To provide a sample preparation method for a microsampling operation using a focused ion beam, which prevents substances sputtered by and which prevents sample processing from adhering to a sample surface.例文帳に追加

集束イオンビームを用いたマイクロサンプリングにおいて、試料加工の妨げとなる、スパッタリングされた物質の試料表面への付着を防止する試料の作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a processing machine which can remove a low dielectric constant insulator laminated on the surface of a semiconductor wafer along a street without deteriorating a semiconductor circuit.例文帳に追加

半導体ウエーハの表面に積層されている低誘電率絶縁体を、半導体回路を劣化せしめることなく、ストリートに沿って除去することができる加工機を提供する。 - 特許庁

To achieve a processing such as a toner replenishment or a cartridge exchange in an appropriate timing by correcting output errors of an antenna signal for detecting a residual toner caused by the surface layer scraping of a resin coated sleeve.例文帳に追加

樹脂コートスリーブの表層削れにより生じる、アンテナ残検信号の出力誤差を補正し、トナー補給あるいはカートリッジ交換などの処理を適切なタイミングで行なう。 - 特許庁

Then, the silicon nitride film 32 other than a part covered with the photoresist 33 is removed, and thermal oxidation processing is applied onto the upper surface of the exposed groove 31 to form a thermal oxidation film 34.例文帳に追加

続いて、フォトレジスト３３で被覆された部分以外の窒化シリコン膜３２を除去し、露出した溝３１の上面に熱酸化処理を施して熱酸化膜３４を形成する。 - 特許庁

To improve pump efficiency by largely increasing a rotating speed of an impeller, by reducing rotational resistance of the impeller to fluid by inexpensive and simple shroud roughened surface processing.例文帳に追加

低コストでしかも簡単なシュラウド粗面加工によって、流体に対する羽根車の回転抵抗を低減でき、羽根車の回転数を大幅に増加してポンプ効率を良好にすること。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus capable of preventing a wall surface inside a plasma generation box from being etched by using an inductively coupling type electrode for plasma generation.例文帳に追加

プラズマ発生のために誘導結合型の電極を用いることにより、プラズマ形成ボックス内の壁面がエッチングされることを防止することが可能なプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

A downward recess 41 is formed by performing blast processing to the peripheral surface of the nickel plating layer 36 by the use of glass beads of an average particle diameter of 0.2 mm and at most 1 mm.例文帳に追加

０．２ｍ以上１ｍｍ以下の平均粒子径を有するガラスビーズを用いて、ニッケルメッキ層３６の周面に対してブラスト処理を行い、下向きくぼみ４１を形成する。 - 特許庁

To provide a spectacle lens whose surface sliding property is lowered to such an extent that lens shape processing can be performed without lowering the antifouling performance of an antifouling layer, and its manufacturing method.例文帳に追加

防汚層の防汚性能を低下させることなく、玉型加工できる程度にレンズ表面の滑性を低下させることができる眼鏡レンズおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The solar cell can be manufactured by making a light incident surface-side electrode having a particular structure and thereafter processing the photoelectric conversion layer by etching or the like.例文帳に追加

この太陽電池は、特定の構造を有する光入射面側電極を作製した後に、さらにエッチングなどにより光電変換層を加工することにより製造することができる。 - 特許庁

This glass substrate for magnetic disk is obtained by applying solution including compound including zirconium on a surface of the glass substrate, performing heat processing of the applied glass substrate, and forming a layer including zirconium.例文帳に追加

上記磁気ディスク用ガラス基板は、ジルコニウム含有化合物を含む溶液をガラス基板表面に塗布し、塗布されたガラス基板を熱処理して、ジルコニウム含有層を有することにより得る。 - 特許庁

To provide a surface-treated magnesium hydroxide flame retardant which effectively overcomes problems of lowered fluidity, lowered processability, foaming during processing when added to an olefin resin.例文帳に追加

オレフィン系樹脂に配合したとき、流動性や加工性の低下、及び加工時の発泡の問題が有効に解決された表面処理水酸化マグネシウム系難燃剤を提供する。 - 特許庁

The magnet arrangement is used in the plasma processing system having a top electrode 1 placed above a surface of the wafer 23 and an outer insulating member 3 for supporting the electrode 1.例文帳に追加

マグネット配列は、ウェハー２３の表面の上方に配置される上部電極１と上部電極１を支持するための外側絶縁部材３とを有するプラズマ処理装置に用いられる。 - 特許庁

A substrate W to be processed is mounted on the upper surface of a susceptor (lower electrode) 16 disposed oppositely to both upper electrodes 36 and 38 and a plasma of the processing gas is generated above the substrate W.例文帳に追加

両上部電極３６，３８と対向して配置されるサセプタ（下部電極）１６の上面に被処理基板Ｗが載置され、基板Ｗの上で処理ガスのプラズマが生成される。 - 特許庁

To provide inexpensively an electrostatic chuck capable of obtaining big attracting force by a small applying voltage by actualizing an excellent flatness of attracting surface of the electrostatic chuck without effecting post processing.例文帳に追加

静電チャックの吸着面の良好な平面度を後加工することなく実現し、小さな印加電圧で大きな吸着力が得られる静電チャックを安価に提供する。 - 特許庁

Torque capacity of a joining part between the compressor wheel 7 and the nut 17 is increased by performing processing so as to increase a friction coefficient of a contact surface of the joining part.例文帳に追加

上記コンプレッサホイール（７）とナット（１７）との間の結合部のトルク能力は、上記結合部の接触面の摩擦係数を増大するように加工処理することによって増加される。 - 特許庁

The textile processing agent for imparting ultraviolet shielding function contains a surfactant and polymer-coated fine particles produced by coating the surface of core particles having ultraviolet shielding function with a polymer.例文帳に追加

紫外線カット機能を付与する繊維処理剤は、紫外線カット機能を有するコア粒子の表面をポリマーで被覆してなるポリマー被覆微粒子と界面活性剤とを含有する。 - 特許庁