「surface processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(98ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a semiconductor substrate capable of suppressing the warpage occurring thereon due to high temperature processing without depending on a thick film on the substrate, even when high temperature processing is required after forming a contact electrode film that covers substantially the whole rear surface of the substrate, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

基板裏面の略全面を覆うコンタクト電極膜の成膜後に高温処理を必要とする場合であれ、基板の膜厚によることなく同処理の加熱に起因する基板の反りを抑制することのできる半導体基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

At the processing liquid drying part 200, the chip of the recording paper 12 is gripped and conveyed along a predetermined conveying path, and by sliding the back face of the recording paper 12 on a heating, sucking and conveying face 218 on its conveying process, the processing liquid is dried by a noncontact condition with the surface.例文帳に追加

処理液乾燥部２００では、記録用紙１２の先端を把持して、所定の搬送経路に沿って搬送し、その搬送過程で記録用紙１２の裏面を加熱吸引搬送面２１８の上を滑らせることにより、表面には非接触で処理液を乾燥させる。 - 特許庁

To provide a forefront of an endoscope not having paths for sending air and water other than that for inserting processing tools which is capable of securing a favorable optical observation capability by sending air and water toward the surface of an observation window through the path for inserting processing tools.例文帳に追加

処置具挿通路とは別に独立した送気送水路が設けられていない内視鏡において、処置具挿通路を介して観察窓の表面に向けて送気送水を行って、良好な光学観察能を確保することができる内視鏡の先端部を提供すること。 - 特許庁

To provide a joint structure having no crack on the surface even if there is no variation in a joint width, a joint processing material used for executing work to the joint structure and a joint processing method capable of facilitating construction work, getting along with few construction manhour and allowing expansion and contraction of an exterior wall board by the difference of temperature.例文帳に追加

施工し易く、施工工数が少なくてすみ、しかも、寒暖の差によって外壁ボードが膨張収縮し、目地幅が変化しても、表面にクラックの入らない目地構造と、この目地構造に施工するために使用する目地処理材や目地処理方法を提供すること。 - 特許庁

A work W in a plate shape for working is to be butted for location to a butting surface 79 of a back gauge device 55 installed behind the processing position, and at this time, the work W is carried to the processing position and a support conveyor 83 is lifted to the position of a pass line marked on the work W.例文帳に追加

加工すべき板状の素材Ｗを加工位置の後方に設けたバックゲージ装置５５の突当て面７９に突き当て位置決めする際に、素材Ｗを加工位置へ搬入してからサポートコンベア８３が素材Ｗのパスラインの位置まで上昇される。 - 特許庁

The other end part of each of these levers so extends to the bottom surface of the tray as to put on or off a photo-sensor provided in a binding processing device in order to let the binding processing device judge the residual number, the ring size and the correctness or incorrectness of the loading direction and control the warning display, the possibility or impossibility of starting or the like.例文帳に追加

これらのレバーの他端部はトレイの底面に延びていて、バインド処理装置に設けたフォトセンサがレバーの動きに応じてオンオフし、バインド処理装置が残数、リングサイズ、装填方向の正誤を判断して警告表示や起動の可否などを制御する。 - 特許庁

To provide a thermocurable aqueous coating agent which contains no formaldehyde, has excellent storage stability, scratch resistance and excellent transporting property, and further forms a coated film having balanced properties of surface lubricity, processing and hardness after retort processing.例文帳に追加

ホルムアルデヒドを含有せず、貯蔵安定性が良好であるとともに、耐傷つき性、搬送性に優れ、さらには、レトルト処理後においても塗膜の表面潤滑性、並びに加工性及び硬度のバランスに優れた塗膜を形成可能な熱硬化性缶用水性コーティング剤を提供すること。 - 特許庁

The derivation processing part derives the growing degree relative to a plurality of drops of dew on the sample surface, and derives the adhesive size by performing statistical processing by removing the dew having a growing degree over a prescribed threshold to a growing degree of the dew having the smallest growing degree.例文帳に追加

導出処理部は、試料表面上の複数の露について成長度合いを導出するとともに、成長度合いの最も小さい露についての成長度合いに対して所定の閾値以上の成長度合いを有する露については除外して統計処理して付着物の大きさを導出する。 - 特許庁

The gas for plasma processing is introduced between electrodes 1, 1 facing each other when generating a plasma 3 under a pressure near the atmospheric pressure by applying voltages between the electrodes 1, 1 facing each other and applying a plasma processing on the surface of an object 4 to be processed by the plasma 3.例文帳に追加

対向配置された電極１、１間に電圧を印加することよって大気圧近傍の圧力下でプラズマ３を生成すると共に該プラズマ３により被処理物４の表面をプラズマ処理する際に、上記対向する電極１、１間に導入されるプラズマ処理用ガスに関する。 - 特許庁

To provide a method for producing a vinyl chloride based resin for paste processing in which adhesion of resin particles to a sieve screen surface is prevented and disruption of powder is suppressed by using a three- dimensionally moving sieve when removing coarse particles by using a sieve from the vinyl chloride based resin for paste processing.例文帳に追加

ペースト塩化ビニル系樹脂粉体から篩を用いて粗大粒子を除去する際に、三次元運動篩を用いることにより篩スクリーン面への樹脂粒子の付着を防止するとともに、粉体の破砕が抑制されたペースト加工用塩化ビニル系樹脂を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a wafer processing method by which a wafer is surely fixed onto a hard plate, the upper surface of the wafer is processed, and the wafer can be surely peeled off from the hard plate without damaging the wafer, and to provide a covering film to be used suitably for the processing method.例文帳に追加

ウエハを硬質板に確実に固定し、ウエハの上面に加工を施した後、ウエハを破損させることなく硬質板から確実に剥離することのできる、ウエハの加工方法およびそのような加工方法に好適に用いられる包被フィルムを提供すること。 - 特許庁

In a single-wafer processing apparatus 1, provided with a placing table 3 for placing the work W in a processing chamber 2, a plurality of grooves 30 are formed on the upper surface of the placing table 3, and a plurality of vents 31 piercing the placing table 3 so as to communicate with the grooves 30 are provided.例文帳に追加

処理容器２内に被処理体ｗを載置する載置台３を備えた枚葉式処理装置１において、前記載置台３の上面に複数の溝３０を形成すると共に、その溝３０と連通して載置台３を貫通する複数の通気孔３１を設けている。 - 特許庁

To provide a plasma processor in which a sputtering of a porous shielding plate can be prevented even if a surface is not protected with quartz and the like while a microwave field and electrically charged particles are shielded and a stable processing by activated neutral particles is performed, and to provide a plasma processing method.例文帳に追加

マイクロ波電界及び荷電粒子を遮蔽して活性化された中性粒子による安定した処理を行いつつ、石英等で表面を保護しなくても多孔遮蔽板のスパッタを防止することができるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

Since processing temperature is relatively low (about 150°C or less), even if a substrate K composed of plastics is used, the substrate K is not deformed or broken during processing and the micromachine 100 can be easily formed on a surface of the substrate K.例文帳に追加

処理温度が比較的低くなるため（約１５０°Ｃ以下）、プラスチックにより構成された基板Ｋを用いた場合においても、処理時における基板Ｋの変形や破損等の不具合の発生を招くことなく、基板Ｋの表面にマイクロマシン１００を容易に形成することが可能となる。 - 特許庁

A fixing temperature, that is a surface temperature of the fixing roller 1 in fixing processing, is set in every group classified in response to a rotary shaft-directional width of the fixing roller 1 in a recording material for the fixing processing, and the fixing temperature is set to get lower along with the width getting narrower in the groups.例文帳に追加

定着処理を行う記録材における定着ローラ１の回転軸方向の幅に応じて分類されるグループ毎に定着処理時における定着ローラ１の表面温度である定着温度を設定し、上記幅が狭いグループほど定着温度を低く設定する。 - 特許庁

In the laser processing method of a nonlinear crystal substrate for forming laser processing grooves by irradiating the processed surface of a nonlinear crystal substrate with a pulse laser beam along the dividing lines, the pulse laser beam has a pulse width set to 200 ps or less, and a repetition frequency set to 50 kHz or lower.例文帳に追加

非線形結晶基板の被加工面に分割予定ラインに沿ってパルスレーザー光線を照射し、レーザー加工溝を形成する非線形結晶基板のレーザー加工方法であって、パルスレーザー光線は、パルス幅が２００ps以下に設定され、繰り返し周波数が５０kHz以下に設定されている。 - 特許庁

The visual inspection device includes: a camera 3 for photographing an inspection target surface of an inspection target 10; an image processing device 1 which is connected to the camera 3 and performs quality determination on the inspection target 10 based on a picture signal from the camera 3; and a simulation device 2 connected to the image processing device 1.例文帳に追加

検査対象物１０の検査対象面を撮像するカメラ３と、カメラ３に接続され、カメラ３からの映像信号に基づいて検査対象物１０の良否判定を行う画像処理装置１と、画像処理装置１に接続されたシミュレート装置２とを備える。 - 特許庁

In the plasma processing apparatus, an electrode which prevents degradation of electrostatic attraction force and reduces the leakage of helium gas used for heat transfer of an electrode is provided by providing a level difference which is higher than the inside and capable of maintaining electrostatic attraction force on the outer periphery of the surface of electrode in the plasma processing chamber.例文帳に追加

プラズマ処理装置において、プラズマ処理室内の電極表面の外周部に、内側よりも高く、静電吸着力を維持できる段差を設けることで、静電吸着力低下の抑制と電極の熱伝達に用いるヘリウムガスのもれを低減する電極を備えた。 - 特許庁

A processing unit 70 of the surface activation apparatus includes a radical generation unit 80 for generating radicals, by making a processed gas excited by plasma and a processing unit 81 for activating surfaces W_U1, W_L1 of wafers W_U, W_L by the radicals generated by the radical generating unit 80.例文帳に追加

表面活性化装置の処理部７０は、処理ガスをプラズマ励起させてラジカルを生成するラジカル生成ユニット８０と、ラジカル生成ユニット８０で生成されたラジカルを用いて、ウェハＷ_Ｕ、Ｗ_Ｌの表面Ｗ_Ｕ１、Ｗ_Ｌ１を活性化する処理ユニット８１とを有している。 - 特許庁

To prevent production of defective of processed products caused by contact of a work with a conveyor roller, by preventing sticking, to the work, of stains of the surface of the conveyor roller for conveying the work to be processed in a device for processing the work using a liquefied processing agent.例文帳に追加

液状処理剤を使用してワークを加工処理する装置内において加工処理するワークを搬送するコンベアコロの表面の汚れのワークへの付着を防止してワークが搬送コロと接触することによる加工処理製品の不良品の発生を低減させる。 - 特許庁

Furthermore, the monitor device is also provided with a computer on which a conversion processing program to convert the curved surface image captured by the CCD 4 into a planar image is installed and with a display device that is connected to the computer and displays the planar image obtained through the conversion processing program.例文帳に追加

また、このモニタ装置は、上記ＣＣＤ装置４に取り込んだ曲面像を平面像に変換する変換処理プログラムを組み込んだコンピュータ装置と、このコンピュータ装置に接続され、上記変換処理プログラムによって得られた平面像を映し出すディスプレイ装置と、を備える。 - 特許庁

The image processing apparatus 1, while synchronizing with feeding speed of the substrate carrier device 7 by the encoder signal, photographs the inspected surface irradiated by the line lighting 5 by the line sensor camera 4, to record the inspected image photographed into a memory in the image processing apparatus 1.例文帳に追加

画像処理装置１は、このエンコーダ信号によって、基板搬送装置７の送り速度と同期を取りながら、ライン照明５によって照射されている被検査面を、ラインセンサカメラ４によって撮影し、撮影した被検査画像を画像処理装置１内のメモリに記録する。 - 特許庁

An information processor 10 is pressed onto an opposed surface of the drive unit 220, whereby a contact portion of a predetermined arrangement mode touches a button of a corresponding arrangement mode in the multi-touch display 12 to cause the information processor 10 to perform corresponding processing (content display processing, etc.).例文帳に追加

駆動装置２２０の対向面に情報処理装置１０を押し当てることにより、所定の配置態様の接触部がマルチタッチディスプレイ１２における対応する配置態様のボタンに接触し、対応する処理（コンテンツ表示処理等）を情報処理装置１０に実行させる。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus in which substrate chucking operation for fixing a substrate onto a substrate placing surface of a substrate holder can be performed only by reciprocally moving the substrate holder by combination with conveying operation of a substrate conveying mechanism, consequently the constitution of a vacuum processing chamber is simplified and the manufacturing cost is reduced.例文帳に追加

基板搬送機構の搬送動作との組合せにより、基板ホルダを往復動させるだけで、基板を基板ホルダの基板搭載面に固定する基板チャック動作も可能になり、真空処理室の構成が簡素化され、製作コストを低減できる真空処理装置を提供する。 - 特許庁

The image processing part 19 performs signal processing by associating the quasi-electrostatic field intensity detected by the quasi-electrostatic field detection probe 16 to the position information inputted from the control part 20, and generates the image of the surface condition of the object to be inspected 10 along with the movement of a stage 11.例文帳に追加

画像処理部１９は、準静電界検出プローブ１６で検出された準静電界の強度を制御部２０から入力される位置情報に対応付けて信号処理し、ステージ１１の移動にともなって検査対象１０の表面状態の画像を生成する。 - 特許庁

The shower head 100 is provided on a processing chamber 201 for processing a substrate in the inside so as to face a placing table 202 for placing the substrate and supply a gas like shower toward the substrate from a plurality of gas jetting holes 11 equipped on the opposite surface facing the placing table.例文帳に追加

内部で基板を処理する処理チャンバー２０１に、基板を載置するための載置台２０２と対向するように設けられ、載置台と対向する対向面に複数設けられたガス吐出孔１１から基板に向けてガスをシャワー状に供給するためのシャワーヘッド１００である。 - 特許庁

To provide a lead frame and a surface-mounting circuit substrate using the lead frame wherein, when subjecting the circuit substrate to a reflow processing, no reflow jig for supporting the lead frame is required, and there are made possible the reduction of the manufacturing cost of the circuit substrate, the simplification of the work of the reflow processing, and the efficient operation of a reflow furnace.例文帳に追加

リフロー処理時、リードフレームを保持するリフロー治具を不要として、製造コストの低減、リフロー処理作業の簡素化、及びリフロー炉の効率運転を図ることのできるリードフレーム及び同リードフレームを用いた表面実装基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

The sensor unit 10 is provided with: a vibrator 22 for giving vibration toward muscles surrounding the bladder; a vibration detection sensor 25 for detecting vibration transmitted to the surface of the skin; and a sensor unit processing control part 13 for processing the signal detected by the vibration detection sensor 25.例文帳に追加

センサーユニット１０は、膀胱周辺の筋肉に向かって振動を与えるための加振機２２と、更に、皮膚表面に伝達した振動を検出するための振動検出センサー２５と、振動検出センサー２５で検出された信号を処理するセンサーユニット処理制御部１３とを備える。 - 特許庁

To simultaneously ensure the rigidity of the leading end part of a tool main body and cut refuse discharge properties in a cutting tool for a fragile material and to prevent the occurrence of a deficit part or the like in a part acting as an outer peripheral cutting blade even when groove processing or side surface processing is performed like an end mill.例文帳に追加

脆性材料用切削工具において工具本体先端部の剛性と切屑排出性とを同時に確保することができ、さらにはエンドミルのように溝加工や側面加工を行う場合でも外周切刃として作用する部分に欠損等が生じるのを防ぐ。 - 特許庁

To provide an electrolytic processing method to process a work furnished with a first hole and a second hole to be open in the wall portion surrounding the first hole, capable of processing the edge part as the contacting part of the first hole surrounding wall with the second hole surrounding wall into an approximately curved surface.例文帳に追加

被加工物に、第１の孔と、第１の孔の周壁部に開口する第２の孔とが形成されている場合に、第１の孔の周壁部と第２の孔の周壁部とが接する部分であるエッジ部を、略曲面状に加工することが可能な電解加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a color image forming device capable of improving the operability and maintainability of a processing frame, preventing a photoreceptor from being exposed even in a state where the processing frame including plural photoreceptors is drawn out, and preventing the lowering of photoreceptive characteristic and the damage of the surface of the photoreceptor.例文帳に追加

プロセス架台の操作性、メンテナンス性を向上し、かつ、複数の感光体を含むプロセス架台を引き出した状態においても、感光体が露出せず、感光特性の低下、感光体表面の損傷等の発生を防止するカラー画像形成装置を提供する。 - 特許庁

A target is mounted on a prescribed position of the structure at a fixed tilt angle against a vertical line, and the laser range finder is installed on the ground level so that a laser beam can be projected vertically onto the target surface, and operation processing of the output of the laser range finder is executed by an operation processing device, to thereby determine the vertical displacement.例文帳に追加

構造物の所定位置へ鉛直線に対し一定の傾斜角でターゲットを取り付け、地上レベルには、レーザ距離計を前記ターゲット面へ垂直にレーザービームを投射可能に設置し、前記レーザー距離計の出力を演算処理装置で演算処理して鉛直変位を求める。 - 特許庁

To suppress that, in a vertical tube processing device, a reaction gas ejected from a gas supply port provided to an uppermost part of a gas supply nozzle flows into a space above an upper surface of a wafer boat, which causes the change in the flow rate and the flow quantity of the reaction gas in a processing chamber.例文帳に追加

縦型チューブ処理装置において、ガス供給ノズルの最上部にあるガス供給口から噴出された反応ガスがウェハボートの上面より上の空間にも流れてしまい処理室内で反応ガスの流速や流量が変わってしまうことを抑制する。 - 特許庁

The processing method of a three-layered binder system by an acrylate resin comprises applying picture sticking and processing of the decoration materials, such as the Japanese paper, cloth, woolen yarn, photographs, and films, to the pottery surface, and the like.例文帳に追加

装飾素材の質感を損なうことなく、装飾素材を挟み込む三層バインダー方式の加工方法を発明することにより、皮膜強度不足および接着強度不足による剥離、装飾素材の変化の課題を解決し、色彩豊かな焼物を提供できることとなった。 - 特許庁

To provide a squeezing apparatus which can prevent that a processing agent is solidified on the surface of a metallic roll, does not cause defects such as the irregular adhesion of the processing agent and the readhesion of a solidified material to a fabric, and can thereby provide the fabric having a stable quality.例文帳に追加

加工剤が金属ロールの表面で固化することを防止することができ、長時間の連続操業の場合においても、加工材剤の付与量にバラツキが生じたり、固化したものが布帛に再付着して欠点となったりすることの少ない品質の安定した加工布帛を提供する。 - 特許庁

A known standard defect 9 is provided in a sample 2, the defect appearing on a surface of the sample 2 is detected, and prescribed processing recipe evaluation information that varies in response to difference in a processing recipe used in the prescribed production process is acquired, based on a detection result of the standard defect 9.例文帳に追加

試料２に既知の標準欠陥９を設けて、試料２の表面に現れる欠陥を検出し、所定の製造プロセスで使用された処理レシピの相違に応じて変化する所定の処理レシピ評価情報を、標準欠陥９の検出結果に基づいて取得する。 - 特許庁

To provide a coil-spring-containing reinforcement joint that can reduce the processing cost using a low cost processing method and much reduce the cost through mass production, and absorb variations of the inner surface dimensions of a metal cylindrical material to ensure the strength of connecting reinforcements, and also provide its manufacturing method.例文帳に追加

安価な加工方法で加工コストを引下げ、連続生産で大幅なコストの低減を行なうことのできると共に金属円筒材の内面の寸法のバラツキを吸収して鉄筋の接続強度を保証するコイルばね入り鉄筋継手およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In an imaging system-determining part 200, processing successively applied to imaging data corresponding to an imaging system is determined and the combination of a plurality of the system conversion parts of a signal processing part 201 respectively corresponding to a spot sequential system, a two-plate system, a three-plate system and a surface sequential system is determined.例文帳に追加

撮像方式判定部２００で、撮像方式に対応して撮像画像データに順次行うべき処理を決定し、点順次方式、二板方式、三板方式、面順次方式にそれぞれ対応する信号処理部２０１の複数の形式変換部の組み合わせを決定する。 - 特許庁

Also, the surface of at least the one substrate 1 of either of the substrates 1, 2 opposite to the other substrate 2 is subjected to alignment processing with an aligning direction parallel or vertical to the polarization absorbing axis of either of the polarizing plates 6, 7, or to vertical alignment processing.例文帳に追加

また、上記基板１・２のうち少なくとも一方の基板１における他方の基板２との対向面表面に、上記偏光板６・７の何れかの偏光板吸収軸に平行または直交する方向の水平配向処理、もしくは、垂直配向処理が施されている。 - 特許庁

To provide a portable electric cutter which adopts a mechanism for correcting a housing inclined by a component processing error, an assembling error or the like to be in parallel with the side edge extending in the fore-and-aft direction of a surface plate, thus preventing the deterioration of processing accuracy, and is favorable in operability.例文帳に追加

部品の加工誤差、組み立て時の誤差等により傾斜したハウジングを、定盤の前後方向に伸びる側縁に対し平行になるように矯正する機構を採用し、もって加工精度が落ちることが無く、操作性の良い携帯用電動切断機を提供する。 - 特許庁

It is also possible that a metal plate or a composite material of metal and ceramic is placed on the processing object mounting surface of the ceramic heater to which the processing object is mounted, and at least the metal plate or a composite material of metal and ceramic is covered with the covering material having a heat conductivity of 200 W/mK or higher.例文帳に追加

被処理物を搭載するセラミックスヒータの被処理物搭載面上に、金属板あるいは金属とセラミックスの複合体の板を載せ、少なくとも金属板あるいは金属とセラミックスの複合体の板の上に、熱伝導率２００Ｗ／ｍＫ以上の被覆材料を被覆してもよい。 - 特許庁

To provide a surface processing method of a film with metal foil, with which a life of roughening liquid is prolonged, a stable roughening processing is realized and a wiring board superior in bonding reliability of a wiring circuit layer, a via conductor and an insulating layer can easily be manufactured, and to provide a manufacturing method of the wiring board.例文帳に追加

粗化液の寿命を延長し、安定した粗化処理を可能とし、配線回路層と、ビア導体及び絶縁層との接合信頼性に優れた配線基板を容易に作製できる金属箔付きフィルムの表面処理方法および配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

When scene information 11 having the function of the product of the illuminance of a given image to a scene and an object surface reflectance is inputted to the scene of a given image, it is made into a digital signal in a digital image generation processing part 12, and an input image 13 is inputted to a pixel value converting processing part 14.例文帳に追加

与えられる画像のシーンヘの照度と物体表面反射率の積の関数を持つシーン情報１１が入力されると、ディジタル画像生成処理部１２においてディジタル信号化され、入力画像１３が画素値変換処理部１４へ入力される。 - 特許庁

To provide an image processing method capable of taking out a surface reflection component of an object at the time of photographing as data different from scene image data of the object, processing the image in postprocessing by using the component and correcting the reflection optical component for one part of the scene.例文帳に追加

撮影時の被写体の表面反射成分を被写体のシーン画像データと別のデータとして取り出し、それを使用して後処理で画像を加工したり、シーンの一部について反射光成分の修正をすることのできる画像処理方法を提供すること。 - 特許庁

The plasma processing apparatus comprises a processing chamber in which plasma is formed, a rotating body which is rotated around a shaft facing the plasma, and a space which is arranged on the side facing the plasma of a bearing part of the shaft, and has a step larger than a space between a bearing surface of the bearing part and the shaft.例文帳に追加

内部にプラズマが形成される処理室と、前記プラズマに面して軸周りに回転する回転体と、前記軸の軸受部の前記プラズマに面する側に配置され、前記軸受部の軸受面と軸との間の隙間より大きくされた段差を有する空間とを備えたプラズマ処理装置。 - 特許庁