「surface processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(99ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a bearing device for wheel and its processing method capable of performing the polishing process without generating a deflection in the squareness of the brake disc mounting surface of a hub flange part to the bearing part of a shaft body part, i.e. without causing side-runout, and of reducing the man-hours for processing.例文帳に追加

ハブのフランジ部のブレ−キディスク取付面と軸本体部の軸受部との直角度に振れを生じさせることなく、即ち、『面振れ』を起こすことなく研磨加工が可能であり、加工工数も低減することのできるホィ−ル用軸受装置及びその加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide an information processing apparatus transmitting sound signals to an apparatus on a sound reproduction side without adding a special device to the surface portion of an apparatus body, and also to provide a sound wave reproducing system and method, configured by this information processing apparatus and the apparatus on the sound reproduction side.例文帳に追加

装置本体の表面部位に特別のデバイスを追加せずに、音声信号を音声の再生側の装置に送出可能な情報処理装置およびこの情報処理装置と再生側の装置で構成される音波再生システムならびに音波再生方法を得る。 - 特許庁

After that, the pattern 14 is processed in the processing margin of the profile surface 11a of the material 11 by mechanical processing or electric discharge machining, and an exhaust hole 15 communicating with the air in the slope line direction the mold back side is formed on the line of the cast joint part X of the material 11.例文帳に追加

その後、前記モールド粗材１１のプロファイル面１１ａの加工代に、機械加工または放電加工によりパターン１４を加工し、更に粗材の鋳継ぎ部Ｘのライン上に、モールド背面側から法線方向に大気と連通する排気孔１５を形成する。 - 特許庁

The constitution has the accumulation means for loading the sheet to be sequentially taken out in the bundle, a conveyor means which conveys the sheet from this accumulation means in predetermined processing positions, and an adhesive application means for applying the adhesive to the binding end surface of the sheet bundle conveyed in the processing positions.例文帳に追加

その構成は、順次搬出されるシートを束状に積載する集積手段と、この集積手段からのシートを所定の処理位置に搬送する搬送手段と、前記処理位置に搬送されたシート束の綴じ端面に接着剤を塗布する接着剤塗布手段とを備える。 - 特許庁

The processing vessel and the vaporization vessel are respectively heated by the heating means, and the metallic vaporization material is vaporized while raising the temperature of the workpiece to the predetermined value, so that the vaporized metal atoms are fed to the surface of the workpiece in the processing vessel.例文帳に追加

そして、加熱手段によって処理容器及び蒸発容器をそれぞれ加熱して被処理物を所定温度まで昇温させつつ金属蒸発材料を蒸発させ、この蒸発した金属原子が処理容器内の被処理物表面に供給されるように構成する。 - 特許庁

To provide a composition for abrasive for CMP processing with a high selectivity which has a big grinding rate for a copper film and a small grinding rate for a tantalum compound in a CMP processing of a semiconductor device having the copper film and the tantalum compound, and excellent in smoothness of the copper film surface.例文帳に追加

銅膜とタンタル化合物を有する半導体デバイスのＣＭＰ加工プロセスにおいて、銅の研磨レートは大きいがタンタル化合物の研磨レートが小さいという選択性の高い研磨用組成物であり、銅膜表面の平滑性にも優れたＣＭＰ加工用の研磨用組成物を提供する。 - 特許庁

This plasma processing method is used for entering a substrate W into a plasma generation area P where plasma is generated by applying a voltage to an application electrode 15 to activate a processing gas G1, and for decomposing and removing organic matter present on a surface of the substrate W.例文帳に追加

本発明のプラズマ処理方法は、印加電極１５に電圧を印加して処理ガスＧ１を活性化させることによりプラズマが発生するプラズマ発生領域Ｐ内に、基板Ｗを進入させて、基板Ｗの表面にある有機物を分解、除去する処理方法である。 - 特許庁

A conduction hole 4 is formed using a double surface copper-clad plate with the aid of a punch and a mold, and an insulating base member 2 including an exposed end of the conduction hole 4 produced upon half etching after processing of the hole 4 is removed by making use of laser processing, plasma etching, and wet etching.例文帳に追加

両面銅張り板を用いて、パンチ、金型で導通用孔４を形成し、この孔４の加工後にハ−フエッチングを行った際に発生する導通用孔４の端部の露出した絶縁べ−ス材２をレ−ザ−加工、プラズマエッチング、ウエットエッチング手法で除去する。 - 特許庁

To produce a jig for the processing of a semiconductor wafer and made of a quartz glass having high etching resistance, causing little generation of dust such as particles and effective for stabilizing the surface treatment of the jig as a post-treatment process by completely removing stains such as oil attached to a quartz glass jig for the processing of a semiconductor.例文帳に追加

石英ガラス製の半導体処理用治具に付着した油分などの汚染物を完全に除去し、後工程である治具の表面処理の安定化を図り、パーティクルなどの発塵が少なく、耐エッチング性の高い石英ガラス製半導体処理用治具を製造する。 - 特許庁

To provide a tapered roller bearing and its design method, capable of lengthening the service life of a bearing by reducing the bearing pressure and stress of a contact part, and capable of improving processing efficiency by reducing a drop quantity of both ends of a roller while eliminating processing failure of a raceway surface.例文帳に追加

面圧や接触部の応力を低減し軸受の長寿命化を図ると共に、軌道面の加工不良を未然に解消しつつ、ころの両端部のドロップ量の低減を図り、加工効率の向上を図ることができる円すいころ軸受およびその設計方法を提供する。 - 特許庁

The gas containing a solvent delivered to a reflow processing space S forms a unidirectional flow toward the solvent suction port 75 and when the solvent in the atmosphere of the reflow processing space is sucked to a resist on the surface of the substrate G, the resist is softened and fluidized, thus forming a deformation resist pattern.例文帳に追加

リフロー処理空間Ｓへ吐出された溶剤を含む気体は、溶剤吸入口７５へ向かう一方向の流れを形成し、基板Ｇ表面のレジストにリフロー処理空間の雰囲気中の溶剤が吸収されることにより、レジストが軟化して流動化し、変形レジストパターンが形成される。 - 特許庁

To provide a resist coating method by a spin coating method, capable of coating a resist onto a wafer surface having a sharp end shape without doing an additional processing such as a chamfer processing at the end part, without generating an uncoated part or an extremely thin portion of resist up to the outermost peripheral part of the wafer.例文帳に追加

鋭利な端部形状を有するウェハーの面に、その端部に面取り加工などの追加加工を施さないで、ウェハーの最外周部までレジストの未塗布部や極めて薄い部分を発生させることなくレジストを塗布することができる、スピンコート法によるレジスト塗布方法を提供する。 - 特許庁

When this system receives input sentences from the input device, the system selects a sentence containing a surface of a subject word of revision of dictionary among the received input sentences, and carries out language processing of the subject word of processing on the basis of the master dictionary and the temporary registered dictionary.例文帳に追加

次いで、入力装置からの入力文を受信すると、受信した入力文の中から辞書修正の対象語の表層を含む文を処理対象文として選択し、マスタ辞書および仮登録辞書のそれぞれにもとづく処理対象文の言語処理を実行する。 - 特許庁

Even in the case of performing information input processing and the control processing of an external apparatus, a user can input various selection information and operation information by touching each display surface or rotating or inclining the information input/output device itself and various control for various apparatuses can be achieved.例文帳に追加

情報入力処理や外部機器の制御処理を実行する場合も、ユーザは、各表示面を触れる処理や、情報入出力装置自体を回転または傾けることで、様々な選択情報や操作情報の入力が可能であり、様々な機器に対する多様な制御が可能となる。 - 特許庁

This device for detecting the mine M existing underground is equipped with an infrared camera 4 and a visible camera 6 for imaging the ground surface G, and an image processing part 16 for applying image processing to first and second image data imaged by the infrared camera 4 and the visible camera 6 respectively.例文帳に追加

地中内に存在する地雷Ｍを探知する装置２は、地表面Ｇを撮像する赤外線カメラ４および可視カメラ６と、赤外線カメラ４および可視カメラ６でそれぞれ撮像した第１および第２の画像データに対し画像処理を施すための画像処理部１６とを備える。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus and a liquid processing method, which can dissolve with sufficient accuracy a film formed on a substrate also in the end surface of the substrate, and is hard to produce ununiformity of the dissolution by the splash of the process liquid, and furthermore can reduce the amount of the process liquid used.例文帳に追加

基板上に形成された膜を基板の端面においても精度よく溶解することができ、しかも処理液のはね返りによる溶解の不均一が生じ難く、さらに処理液の使用量を低減することができる液処理装置および液処理方法を提供すること。 - 特許庁

The noise canceling system includes: a noise canceling sound collection microphone 10 detachably attached on the outer surface of an arbitrary earphone 2; and a processing section having a detachably attached arbitrary earphone connected thereto, processing the phase of sounds collected with the sound collecting microphone 10 and outputting the processed sounds to the arbitrary earphone.例文帳に追加

任意のイヤホン２の外面に対して着脱可能なノイズキャンセル用の集音マイク１０と、任意のイヤホンが着脱可能に接続され、集音マイク１０により集音した音声の位相を処理するとともに、任意のイヤホンへ処理した音声を出力する処理部と、を備えた。 - 特許庁

The antenna module has an antenna part and a signal processing circuit part on one dielectric substrate and is characterized in that a gap part is provided between the antenna part and signal processing circuit part and a ground electrode is formed on an end surface in contact with the gap part at the periphery of the gap part.例文帳に追加

アンテナ部および信号処理回路部を１つの誘電体基板に形成したアンテナモジュールであって、前記アンテナ部と前記信号処理回路部の間に空隙部を設け、該空隙部に接する端面または該空隙部の周辺に接地電極を形成した構造を特徴とする。 - 特許庁

An image processing device part 3 is equipped with a color extraction processing part 31e aiming as a reference color at the surface 7a color of the wiring substrate 7 from an image of a lead 11 of a QFP element 10 photographed by a color CCD camera 1, and extracting the reference color.例文帳に追加

画像処理装置部３に、カラーＣＣＤカメラ１によって撮影されたＱＦＰ素子１０のリード１１の画像から配線基板７の表面７ａの色を基準色として照準をあて、その基準色を抽出する色抽出処理部３１ｅを備える。 - 特許庁

Thus, a contaminant generated by electron beam radiation to the substrate W is exhausted into an outer space of a processing space 41a together with the argon gas as exhaust gas to prevent the contaminant from being re-adhered to the substrate surface and from being dispersed into the whole of the processing space 41a.例文帳に追加

このため、基板Ｗへの電子ビーム照射によって発生する汚染物質がアルゴンガスと一緒に排気ガスとして処理空間４１ａの外側空間に排気され、基板表面への汚染物質の再付着や処理空間４１ａ全体への汚染物質の拡散が防止される。 - 特許庁

To provide a surface protection sheet that does not cause substrate breakage, and scars and dents on a metal plate, even when subjected to bending processing or the like, that does not cause peeling-off or the like after the processing, and that can be peeled off easily, even when stored outdoors or in a similar condition for a long time.例文帳に追加

曲げ加工等を行った場合にも基材ギレや金属板表面への傷やくぼみの発生なく、さらには加工後に剥れ等も発生せず、さらには屋外等に長期保存された場合においても良好に剥離可能な表面保護シートを提供する。 - 特許庁

Since the embedded trench 1c can be formed into a thin piece from a side surface direction by this alteration of an FIB processing direction, a processing depth is set to about trench width (5 μm) and the conversion of an observation region to an amorphous state or the like is not caused and the observation sample of good quality for TEM can be manufactured.例文帳に追加

ＦＩＢ加工方向をこのように変更することで、埋め込みトレンチ１ｃを側面方向から薄片化できるため、加工深さはトレンチ幅（５μｍ）程度で済み、観察部位の非結晶化等は発生せず、良質なＴＥＭ用観察試料を作製可能である。 - 特許庁

A first oxide film 4 is formed by immersing a silicon 1 to be processed inside a low concentration oxidizing solution 3 in a first processing vessel 2, next, a chemical oxide film (silicon dioxide film) is formed on a surface of the silicon 1 by immersing the silicon 1 inside a high concentration oxidizing solution 6 in a second processing vessel 5.例文帳に追加

被処理用シリコン１を第一処理槽２内の低濃度酸化性溶液３に浸して第一酸化膜４を形成して、続いて第二処理槽５内の高濃度の酸化性溶液６に浸すことによって、上記シリコン１の表面に化学酸化膜（二酸化シリコン膜）を形成する。 - 特許庁

To solve the problem, dry etching using mixed gas with the combination containing gas with chloride gas and nitrogen as etching gas and that not containing hydrogen oxygen is performed, and then nitride film passivation processing is performed after direct surface processing or that with a nitrogen gas plasma.例文帳に追加

上記課題を解決するため，エッチングガスとして塩素系ガスと窒素を含有するガスで且つ水素および酸素を含有しない組み合わせの混合ガスを用いたドライエッチングを行い，直接もしくは窒素ガスプラズマによる表面処理後，窒化膜パッシベーション処理を行う。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a resin plate whose surface has an unevenly shaped part formed by a cut processing, which method can thoroughly smooth the cut-processed surfaces of the uneven shape part without changing the uneven shapes formed by the cut processing.例文帳に追加

削り加工を施すことによって樹脂板の表面に凹凸形状部を形成する製造方法であって、削り加工により形成した凹凸形状を変形させることなく、凹凸形状部の削り加工面を十分に平滑化することのできる製造方法を提供する。 - 特許庁

An image processing means 10 conducts an image processing of an image pictured by the picturing means 9, and calculates a convergence measurement value at one or more arbitral positions in the image display surface of the color display device 6, and a convergence measurement value of a light-emitting means 8.例文帳に追加

画像処理手段１０は、撮像手段９により撮像された撮像画像を画像処理してカラーディスプレイ装置６の画像表示面内における１つ以上の任意の測定箇所でのコンバーゼンス計測値と発光手段８のコンバーゼンス計測値とを算出する。 - 特許庁

In this cleaning method of a plasma processor, provided with metal components inside the processing chamber, at the removing of a deposited film generated during plasma processing and stuck to the surface of the metal component by cleaning, the cleaning is ended to leave a part in the thickness direction of the deposited film.例文帳に追加

処理室内部に金属部品を有するプラズマ処理装置のクリーニング方法において、プラズマ処理中に発生し、金属部品の表面に付着した堆積膜をクリーニングによって除去する際に、該堆積膜の厚さ方向の一部を残して前記クリーニングを終了することにより、達成される。 - 特許庁

To provide a wet cleaning device capable of improving the collecting function of dust, etc., and functions of deodorization, detoxicating processing and cleaning processing by a water filter and suppressing foaming of a detergent and flowing out of water from a discharging port by adjusting the waving state of a water surface.例文帳に追加

水フィルタによる塵埃等の捕集機能や脱臭や無害化処理および浄化処理の機能を向上させることができ、また水面の波立ち状態を調整可能として洗剤等の泡立ち及び排出口からの水の流出を抑制可能とした湿式清浄装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for processing an adherend using a thermopeelable double-sided adhesive sheet provided on one side with a thermoexpansible adhesive layer containing thermoexpansible microspheres, enabling the surface smoothness of the adherend to be kept in processing it.例文帳に追加

熱膨張性微小球を含有する熱膨張性粘着層を備えた熱剥離性両面粘着シートを用いた被着体加工方法であって、被着体加工時には被着体表面の平滑性を保持することができる被着体の加工方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for producing a waterproof and moisture-permeable processed fabric obtained by directly coating a fiber fabric with an aqueous resin, which obtains a waterproof and moisture-permeable processed fabric having excellent moisture permeability and waterproofness and excellent film surface qualities free from processing defects such as processing wrinkles, coating unevenness, etc.例文帳に追加

水系樹脂を繊維布帛に直接コーティングする防水透湿加工布帛の製造方法において、優れた透湿性と防水性を有し、かつ、加工シワ、塗工ムラなどの加工欠点がない膜面品位の優れた防水透湿加工布帛を提供すること。 - 特許庁

Further, the slicing is made to be the flattening slicing, for instance, wire discharging processing, processing with a diamond band saw so that a abutting face between the power feeding body and the electrolyte electrode joint becomes to be the smoothing surface required for the performance and the life of the electrochemical cell simultaneously with the slicing.例文帳に追加

さらに、前記スライス加工は、スライスと同時に前記給電体の電解質電極接合体との当接面が前記電気化学セルの性能および寿命上所期の平滑面となるような，例えばワイヤ放電加工やダイヤモンドバンドソー加工による平坦化スライス加工とする。 - 特許庁

The method expands an expanding tape 23 stuck on a rear surface 21 of a workpiece 1 having a melting processing region 13 formed in its inside along the cutting schedule line, thereby cutting the workpiece 1 along the cutting schedule line using the melting processing region 13 as a start point of cutting.例文帳に追加

切断予定ラインに沿って溶融処理領域１３が内部に形成された加工対象物１の裏面２１に貼り付けられたエキスパンドテープ２３を拡張させることで、溶融処理領域１３を切断の起点として加工対象物１を切断予定ラインに沿って切断する。 - 特許庁

To easily maintain and continue a stable processing at a desired curvature radius, and to reduce a poor quality and the mechanical regulation work, when a spherical lens having a concave spherical surface of the processing diameter different from the outer diameter size is manufactured.例文帳に追加

外径寸法と異なる加工径の凹形状球面を有する球面レンズの製造に際し、所望の曲率半径の安定加工を容易に維持継続でき、品質不良や機械調整作業を減少させることができる凹形状球面レンズの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and device for washing a car which is friendly to the environment, of a simple processing method, and has an excellent processing effect, in which wastewater of car wash containing oil, mud, sand, a surface active agent, and the like generated in each car wash station and the like is processed by a filtering device using a natural material.例文帳に追加

各洗車処理場等で生じる油分、泥、砂、界面活性剤等を含有する洗車廃水を、天然素材を用いた濾過装置により処理する、環境に優しく、処理方法が簡便で、処理効果が優れた洗車方法及び洗車装置を提供する。 - 特許庁

The upper electrode 105 for a parallel-plate plasma processing apparatus includes a substrate 105a formed of a desired dielectric, and a dielectric layer 110 formed at least partially on the lower electrode 210 side surface of the plasma processing apparatus out of the surface of the substrate 105a, the dielectric layer 110 having a sparse and dense pattern where the outside of the lower electrode 210 side surface is denser than the inside.例文帳に追加

平行平板型のプラズマ処理装置用の上部電極１０５であって、所望の誘電体から形成された基材１０５ａと、前記基材１０５ａの表面のうち、少なくとも前記プラズマ処理装置の下部電極２１０側の表面の一部に形成された導電体層１１０と、を含み、前記導電体層１１０は、前記下部電極２１０側の表面の外側が内側より密になるように疎密のパターンを有する上部電極１０５が提供される。 - 特許庁

This condensation core measuring device includes: a cooling mechanism 48 for generating condensation on the sample surface; and a derivation processing part for deriving a growing degree of dew generated on the sample surface by the cooling mechanism 48, and deriving the adhesive size based on the derived growing degree.例文帳に追加

試料表面で結露を生じさせる冷却機構４８と、冷却機構４８によって試料表面に発生した露の成長度合いを導出するとともに、この導出された成長度合いに基づいて、付着物の大きさを導出する導出処理部と、が含まれている。 - 特許庁

To provide an adhesive tape for processing wafer which is laminated on the wafer surface in order to protect the luminous layer or the circuit surface and to allow for grinding the backside of the wafer to a predetermined finish thickness with no problem, in a process of grinding the backside of a brittle wafer, especially a sapphire wafer.例文帳に追加

本発明は、脆性ウェハ、特にサファイアウェハの裏面を研削する工程において、該ウェハ表面に貼合することにより発光層や回路面を保護するとともに、該ウェハの裏面を所定の仕上げ厚さまで問題なく研削することを可能とする、ウェハ加工用粘着テープを提供する。 - 特許庁

The loudspeaker is constituted by using a voice coil 28 that is formed by winding a wire material 28A obtained by applying insulation processing to the outer surface of a copper wire core material 28a made of oxygen free copper by covering the outer surface with a modified polyamide film 28b with hardness of 120 or below.例文帳に追加

本発明のスピーカは、無酸素銅から構成された銅線の芯材２８ａの外表面を硬度１２０よりも小さい変性ポリアミド皮膜２８ｂにより被覆して絶縁処理した線材２８Ａを、巻回してボイスコイル２８を形成し、このボイスコイル２８を使用してスピーカを構成したものである。 - 特許庁

This biological activity improving processing agent has a covering layer forming material for forming a covering layer on the surface of a base material set in a place contacting water, and a ceramic particle whose surface is covered with apatite and which is fixed in a condition of exposing part thereof from the covering layer.例文帳に追加

本発明の生物活性向上処理剤は、水に接する場所に設置される基材の表面に被覆層を形成するための被覆層形成材と、表面がアパタイトにより被覆され、一部が被覆層から露出した状態で固定されるセラミック粒子とを備える。 - 特許庁

The two fluids which have the gas and the liquids are supplied from the two-fluid nozzle 21 throughout along the substrate width of the surface, which crosses in the substrate conveyance direction, and the processing liquid of the last process which still remains on the substrate front surface is removed.例文帳に追加

そして、このリンス液が供給された後の基板Ｗの表面に対して、２流体ノズル２１から、基板搬送方向に交差する基板幅の全域に亘って、気体と液体とからなる２流体を供給して、基板表面になお残存する前工程の処理液を除去する。 - 特許庁

To provide a printed circuit board having a metal plate that reduces trouble, such as restriction on flexibility of wiring and corrosion from a piece substrate side surface, due to exposure of a metal portion of the piece substrate side surface with respect to a metal base substrate divided into piece substrates through division processing.例文帳に追加

分割加工によりピース基板毎に分割された金属ベース基板においても、配線自由度の束縛やピース基板側面からの腐食等、ピース基板側面の金属部分が露出することによる不具合を低減した金属板を備えたプリント配線板の提供。 - 特許庁

The release paper is produced by continuously carrying out (1) a calender processing step for the substrate, (2) a forming step of the plastic laminate layer on the substrate surface and (3) a forming step of a release agent layer on the surface of the plastic laminate layer on the same line.例文帳に追加

紙を基材とする剥離紙の製造方法であって、（１）基材に対するカレンダー加工工程、（２）基材の表面へのプラスチックラミネート層の形成工程、および（３）プラスチックラミネート層表面への剥離剤層の形成工程、を同一ライン上で連続的に行うことを特徴とする。 - 特許庁

This structured surface is obtained by providing upheaved parts having 50 nm-10 μm average height and 50 nm-10 μm average interval to an unstructured material having ≥2O mN/m surface energy by mechanical embossing, lithographical etching, or molding processing.例文帳に追加

平均高さ５０ｎｍ〜１０μｍおよび平均間隔５０ｎｍ〜１０μｍを有する隆起部を、２０ｍＮ／ｍよりも大きい表面エネルギーを有する構造化されていない材料上に機械的にエンボスするか、またはリソグラフィー法によりエッチングするか、または成形加工により施与する。 - 特許庁

To provide a decorative sheet which has high design properties caused by applying an uneven pattern on the surface and exhibits excellent surface physical properties such as scratch resistance and does not generate chlorine compd. etc., even when incineration means is used as a processing means for destruction rubbishes and is inexpensive.例文帳に追加

表面に凹凸模様が施されることによる高意匠性を有し、耐スクラッチ性等の表面物性に優れるとともに、廃材の処理手段として焼却手段を利用する際にも塩素化合物等の発生のない低価格の化粧シートを提供することにある。 - 特許庁

The support ring 8 includes an annular expansion surface 36 provided enclosing the entire circumference of the substrate W and expanding an outer circumferential edge of the substrate W outward so that the processing liquid may flow outward from a top surface of the substrate W held by the support ring 8.例文帳に追加

支持リング８は、支持リング８に保持された基板Ｗの上面から外方へと処理液が流れていくように、当該基板Ｗの全周を取り囲んで当該基板Ｗの外周縁を外方に拡張するように設けられた環状の拡張面３６を有している。 - 特許庁