| 意味 | 例文 |
surface- roughnessの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4887件
The crystal domain of the phase change material layer on the record mark is made smaller than on the space by making the average surface roughness of the record mark area larger than the RMS of the other areas on the support substrate surface.例文帳に追加
支持基板表面における記録マーク部分の表面平均粗さを、記録マーク以外の部分のRMS値よりも大きくすることで、記録マーク上の相変化材料層の結晶ドメインをスペース部分上の結晶ドメインよりも小さくしている。 - 特許庁
The metal foil with a surface roughness Ra of 30-500 nm and an insulating film which is made of an organic group-modified inorganic polymer and coats the surface of the metal foil are formed on the insulation-coated metal foil for the electronic device substrate.例文帳に追加
電子デバイス基板用絶縁被覆金属箔には、表面粗さRaが30nm以上500nm以下である金属箔と、有機基で修飾された無機ポリマーからなり、前記金属箔の表面を被覆する絶縁膜と、が設けられている。 - 特許庁
At least one side of the slide contact surfaces 12a, 30a where the storage part 12 brings into sliding contact with the movable core is treated with gas soft nitriding, salt-bath soft nitriding, nitrosulphuring or nitriding treatment, and surface roughness of such a nitrided surface after treatment is controlled to be within the prescribed range.例文帳に追加
収容部12と可動コア30とが摺接する摺接面12a,30aの少なくとも一方は、ガス軟窒化処理、塩浴軟窒化処理、浸硫窒化処理又は窒化処理が施されており、処理後の面粗さが所定の範囲内に設定されている。 - 特許庁
This is the abrasive material formed by a CVD method and having the amorphous layer of an inorganic compound of which the surface roughness Ra is in the range of 1-10 μm on the surface, and the abrasive material in which a porous ceramic layer is formed under this amorphous layer.例文帳に追加
CVD法によって形成されてなり、表面粗さRaが1〜10μmの範囲にある無機化合物のアモルファス層を表面に有する研削材、及びこのアモルファス層の下に多孔性セラミック層が形成されている研削材。 - 特許庁
A microscopic light transmission area 31 transmitting incident light and a scattering area 32 scattering light by increasing the roughness of the surface of a substrate 30 are formed on the surface of the substrate 30 adapted to transmit light with a specified wavelength.例文帳に追加
所定の波長の光を透過する基板30の表面には、入射する光を透過させる微小光透過領域31と、基板30の表面の粗さを大きくして光を散乱させる散乱領域32とが形成されている。 - 特許庁
By adjusting the surface roughness of an insulating layer or a high resistance layer provided on the surface of a developer carrier 11, the non-magnetic conductive developer 16 is carried nearly in an isolated state (discontinuous state) on the developer carrier 11.例文帳に追加
現像剤担持体11の表面に設けられた絶縁層または高抵抗層の表面粗さを調整することで、非磁性の導電性現像剤16を現像剤担持体11において略孤立した状態(不連続な状態)で担持する。 - 特許庁
A dielectric constant εc of resin material forming the cleaner container C is set to 2 to 10, surface resistivity ρs(Ω/sq.) of the intermediate transfer belt 5 is set to 1.0×10^9 to 5.0×10^13, and surface roughness Rz(μm) of the base is set to 1.5 or less.例文帳に追加
クリーナ容器Cを形成する樹脂材料の比誘電率εcを2〜10とし、中間転写ベルト5の表面抵抗率ρs(Ω/□)を1.0×10^9〜5.0×10^13とし、底面の表面粗さRz(μm)を1.5以下とする。 - 特許庁
The glass film laminate 1 is formed by stacking a supporting glass 3 on a glass film 2, and a surface roughness Ra of a surface of a side where the glass film and the supporting glass are brought into contact with each other is 2.0 nm or less.例文帳に追加
ガラスフィルム2に支持ガラス3を積層したガラスフィルム積層体1であって、前記ガラスフィルム及び前記支持ガラス相互に接触する側の表面の表面粗さRaが2.0nm以下であることを特徴とするガラスフィルム積層体。 - 特許庁
The adhesive sheet for the optical film of the image display device has the adhesive layer on a release sheet, wherein the surface roughness (Ra) of a surface of the adhesive layer on the release sheet is in the range of 2-150 nm.例文帳に追加
離型シート上に粘着剤層を有する画像表示装置の光学フィルム用粘着シートであって、離型シート上の粘着剤層表面の表面粗さ(Ra)が、2〜150nmである画像表示装置の光学フィルム用粘着シート。 - 特許庁
Preferably, the surface free energy of polyimide, in particular, hydrogen-bonded components after plasma treatment, be increased by 10.0-25.0dyne/cm, as compared with the preprocessed status, and surface roughness Ra be increased by 0.1-1.8nm, as compared with the preprocessed status.例文帳に追加
更に、プラズマ処理後のポリイミドの表面自由エネルギーが処理前よりもその水素結合成分が10.0〜25.0dyne/cm増加し、且つ、表面粗さRaが処理前よりもRaが0.1〜1.8nm増加していることが好ましい。 - 特許庁
To provide an electrolytic copper foil having a low roughness surface which is suitable for an electrolytic copper foil material used for a Tape Automated Bonding method and does not substantially have an uneven shape formed in a rough surface side, has high tensile strength, and does not cause the peeling of a tin plating film.例文帳に追加
Tape Automated Bonding工法に用いる電解銅箔材料として好適な粗面側に山谷形状が実質的に形成されていない低粗面を持ち、且つ、高抗張力を備えており、スズめっき剥がれが発生しない電解銅箔を提供する。 - 特許庁
The optical sheet 1 has a microlens array 3 on its surface, the diameter (D) of each microlens 4 constituting the microlens array 3 is 100-1000μm and the surface roughness (Ra) of respective microlenses is ≥0.05μm and <0.1μm.例文帳に追加
光学シート1は、表面にマイクロレンズアレイ3を有し、このマイクロレンズアレイ3を構成するマイクロレンズ4の直径(D)が100μm以上1000μm以下で、マイクロレンズの表面粗さ(Ra)が0.005μm以上0.1μm未満である。 - 特許庁
The titanium oxide structure includes a titanium substrate, an anodic oxide film existing on the surface of the titanium substrate and having micropore, wherein the surface roughness Ra of the anodic oxide film is ≥0.25 μm.例文帳に追加
チタン基板と、前記チタン基板の表面に存在する、マイクロポアを有する陽極酸化皮膜と、を有する酸化チタン構造体であって、前記陽極酸化皮膜の表面粗さRaが0.25μm以上であることを特徴とする酸化チタン構造体。 - 特許庁
Due to interposition of unevenness with the predetermined surface roughness on the surface 2 of the core 1, the winding material can be neatly wound even when the film is thin, the dyne number is small, and adhesion to the core with water cannot be expected.例文帳に追加
所定の表面粗さを有する凹凸が巻芯1の表面2に介在することにより、巻き取り材料であるフィルムが薄く、ダイン数が小さく水による巻芯との密着が期待できない素材であっても、きれいに巻き取ることが可能である。 - 特許庁
To provide a polyimide belt having a coefficient of friction on the inner face of the belt being hardly influenced by the surface roughness of the surface, achieving stable driving control and eliminating electrification failure by driving, and to provide a method for manufacturing the belt.例文帳に追加
本発明の目的は、ポリイミドベルト内面の摩擦係数がその面の表面粗さの影響を受けにくく、安定した駆動制御と、その駆動による帯電不具合を解消したポリイミドベルト及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁
The catalyst layer transfer sheet 1 is formed by applying a platinum-containing catalyst layer 3 to a substrate film 2, and the surface of the substrate film 2 has a wettability of 40-90 degrees and an arithmetic mean surface roughness of 0.04-0.5 μm.例文帳に追加
基材フィルム2の上に白金含有触媒層3を塗工形成した触媒層転写シート1であって、基材フィルム2表面は、濡れ性が40〜90度であり且つ表面粗さが0.04〜0.5μmの算術平均粗さを有することとした。 - 特許庁
The belt type transfer member has a position detecting mark formed by partially changing the surface roughness of its outermost layer, and the abrasion loss of its surface is set to <10mg.例文帳に追加
ベルト状転写部材の最表層の表面粗さを部分的に変化させることにより形成された位置検出マークを有し、該ベルト状転写部材表面の磨耗量が10mg未満であることを特徴とする電子写真装置用ベルト状転写部材。 - 特許庁
To provide a carbon fiber unwoven fabric having a high gas diffusion property, water draining property, and excellent electric contact owing to its small surface irregularities (small surface roughness), easy to wind in roll-shape, which can be effectively manufactured.例文帳に追加
高いガス拡散性と排水性を併せ持ち、かつ、表面凹凸が小さい(表面粗さが小さい)ため電気的な接触が良好で、さらには、ロール状に巻き上げることが容易であるため、効率よく製造できる炭素繊維不織布を提供すること - 特許庁
To provide a manufacturing method of conductive roller capable of solving problems such as toner filming, defective electrification and image failure by making surface roughness on outer circumferential surface of a conductive roller appropriate through improvement of the manufacturing method and a conductive roller obtained by the same method.例文帳に追加
製法により、導電性ロール外周面の表面粗さを適切にして、トナーフィルミング、帯電不良、画像不具合等の問題を解消することができる導電性ロールの製法およびそれにより得られた導電性ロールを提供する。 - 特許庁
A laser beam is radiated on the recording medium, a speckle generated by surface scattering is measured by an image sensor, speckle information obtained is subjected to FFT transform, and a paper quality of the record medium is discriminated from a peculiar pattern due to roughness of the surface of the record medium.例文帳に追加
記録媒体にレーザ光を照射し、表面散乱により生成されるスペックルを画像センサで測定し、得られたスペックル情報をFFT変換し、記録媒体の表面の粗さによる固有パターンから、記録媒体の紙質を判別する。 - 特許庁
The composition of an RE-TM alloy constituting the recording layer 5 is denoted by TMrich, and the flattening layer 3 of good surface smoothness is formed on the substrate of the antiferromagnetic layer 4 to deal with surface roughness caused by the formation of the antiferromagnetic layer 4.例文帳に追加
記録層5を構成するRE−TM合金の組成をTMrichとし、反強磁性層4の形成による表面荒れに対しては反強磁性層4の下地に表面平滑性の良い平坦化層3を形成するものとする。 - 特許庁
The electrolytic copper foil has a profile with such an ultra-low surface roughness (Rzjis) as less than 1.0 μm and a glossiness [Gs (60°)] of 400 or higher both on the surface in the deposition side regardless of its thickness.例文帳に追加
上記課題を解決するために、電解銅箔は厚さによらずに析出面側の表面粗さ(Rzjis)は1.0μm未満の超低プロファイルであり、且つ、当該析出面の光沢度[Gs(60°)]は400以上である電解銅箔とする。 - 特許庁
To provide a substrate processing device that is easily adaptive to a case wherein surface roughness of a substrate placement surface of a rotary table deviates from a suitable range by detachably providing a substrate placement member for placing a substrate to the rotary table.例文帳に追加
基板を載置するための基板載置部材を回転テーブルに着脱自在に設けることにより、前記回転テーブルにおける基板載置面の表面粗さが適切な範囲から外れた場合に容易に対応できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁
In the conductive particulates wherein a conductive layer and a low melting-point metal layer are formed in sequence on the surface of each base material particulates, an arithmetric average roughness of the surface of the low melting-point metal layer is 50 nm or less.例文帳に追加
基材微粒子の表面に、導電層及び低融点金属層が順次形成されている導電性微粒子であって、前記低融点金属層表面の算術平均粗さが50nm以下であることを特徴とする導電性微粒子。 - 特許庁
The laminated polyester film for transferring the antireflection layer has a coating layer containing a release agent on at least one surface of a polyester film, wherein the center line average roughness (Ra) of either surface having the coating layer is ≤50 nm.例文帳に追加
ポリエステルフィルムの少なくとも片面に離型剤を含有する塗布層を有し、当該塗布層を有するいずれかの表面の中心線平均粗さ(Ra)が50nm以下であることを特徴とする反射防止層転写用積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁
The optical sheet 1 has a microlens array 3 on its surface, and the diameter (D) of microlenses 4 constituting the microlens array 3 is 100 to 1,000 μm and the surface roughness (Ra) is 0.1 to 10 μm.例文帳に追加
本発明の光学シート1は、表面にマイクロレンズアレイ3を有し、このマイクロレンズアレイ3を構成するマイクロレンズ4の直径(D)が100μm以上1000μm以下で、マイクロレンズの表面粗さ(Ra)が0.1μm以上10μm以下である。 - 特許庁
To provide a treatment method of surface roughening aluminum and an aluminum alloy having all kinds of intricate shapes to a surface roughness of 2 to 20 μm in a short time with a reduced amount of corrosion without distortion by immersing the aluminum and the aluminum alloy into a solution.例文帳に追加
アルミニウムおよびアルミニウム合金を溶液に浸漬させて、短時間に腐食量が少なく、あらゆる複雑な形状のアルミニウムおよびアルミニウム合金を表面粗さ2〜20μmに、歪みなく、粗面化する処理方法を提供することにある。 - 特許庁
This printed wiring board boring method having a process for boring a hole on a printed wiring board by a drill through a surface of the aluminum or an aluminum alloy having the average surface roughness of 0.01 to 0.07 μm.例文帳に追加
また、平均表面粗さ(Ra)が0.01〜0.07μmであるアルミニウムまたはアルミニウム合金の表面を介して、ドリルによりプリント配線板に穴をあける工程を有することを特徴とするプリント配線板の穴あけ加工方法である。 - 特許庁
Roughness is formed on the surface, and a core is provided including: a negative plate containing a reinforcing base material and resin; an electroless conductive layer formed in a prescribed pattern on the surface of the negative plate; and an electrolysis plating layer formed on the electroless conductive layer.例文帳に追加
表面に粗さが形成されており、補強基材と樹脂を含む原板と、前記原板の表面に所定のパターンに形成された無電解導電層と、前記無電解導電層上に形成された電解鍍金層とを含むコアを備える。 - 特許庁
The chemical conversion treatment method for forming the coating film containing no hexavalent chromium on aluminum or an aluminum alloy includes a surface treatment step of adjusting the average surface roughness of aluminum or the aluminum alloy to a predetermined value as pretreatment for the chemical conversion treatment step.例文帳に追加
アルミニウムまたはアルミニウム合金の化成処理方法において、ノン6価クロム皮膜を形成する化成処理工程の前処理として、アルミニウムまたはアルミニウム合金の平均表面粗さを所定の値に調整する表面処理工程を実施する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a cold-rolled steel sheet by which the cold-rolled steel sheet excellent in press formability and the uniformity of surface appearance or surface roughness is manufactured and productivity in a cold rolling stage is simultaneously improved.例文帳に追加
プレス成形性に優れ、表面外観あるいは表面粗さの均一性に優れた冷延鋼板を製造することができると同時に、冷間圧延工程における生産性を向上することができる冷延鋼板の製造方法を提供する。 - 特許庁
The squareness of the thrust bearing and the radial bearing, and the surface roughness of the thrust bearing are formed by a large diameter outer peripheral part 9a integrally formed with a shaft 9 to obtain a desired accuracy, eliminating the need for surface treatment by the solid lubrication agent.例文帳に追加
スラスト軸受とラジアル軸受の直角度、およびスラスト軸受の面粗度を、シャフト9に一体で形成された大径外周部9aによって構成し、所望の精度が得られるので、固体潤滑剤などの表面処理が不要となる。 - 特許庁
An inner ring 1 of a deep groove ball bearing is provided with a raceway surface 1a as a rolling slide face where relative rolling contact or slide contact occur between the inner ring 1 and a mating member, and the surface roughness Ra is set to be less than 0.02 μm.例文帳に追加
深溝玉軸受用の内輪1は、相手部材との間で相対的な転がり接触又はすべり接触が生じる転がり摺動面である軌道面1aを備えており、その表面粗さRaは0.02μm未満に設定されている。 - 特許庁
To provide a technique for obtaining an optical reflection mirror constituted by forming a reflection film on the surface of a base plate composed of an SiC-Si composite material with which the reflection film free from cracks is easily formed and which has ultra-precision surface roughness and flatness.例文帳に追加
亀裂のない反射膜の形成が容易であり、なおかつ超精密な表面粗さと平面度を有しているSiC−Si複合材料からなる基板の表面に反射膜を形成してなる光学反射ミラーを得る技術を提供する。 - 特許庁
Components including a gas distribution plate 22, a chamber liner 30 and a focus ring 14 that constitute a plasma processing chamber 10 are subjected to surface plasma-splaying of ceramics or high temperature polymers having surface roughness properties to improve polymer adhesion for coating 32 thereof.例文帳に追加
プラズマ処理チャンバ10を構成する、ガス供給板22、チャンバライナ30、フォーカスリング14などの部品の表面を、ポリマーの付着を促進する表面粗さ特性を持つ、セラミック又は高温ポリマー等の材料をプラズマ溶射し、被覆32する。 - 特許庁
The solution is delivered using the pipe line the inner surface of which satisfies the following relational expression: Ra<X between the value (Ra:μm) of arithmetic mean roughness showing the surface smoothness and the size (X:μm) of the foreign matter in the delivered semiconductor manufacturing composite solution.例文帳に追加
表面平滑度を示す算術平均粗さの値(Ra;μm)が、送液される半導体製造用組成物溶液中の異物サイズ(X;μm)との間に以下の関係式Ra<Xが成立するような内面の配管を用いて送液する。 - 特許庁
The surface roughness of the bearing surface 21b is planarized, by removing the press oil remained between the head piece 58 and a bottom of a work piece W therefore, in turn, the yoke 21 which is hard to cause the fluctuation in the characteristics is manufactured.例文帳に追加
したがって、ヘッド駒58とワークWの底部との間に残留するプレス油を無くして軸受面21bの表面粗度の平滑化を図ることが可能となり、ひいては、特性にばらつきが生じ難いヨーク21を製造することができる。 - 特許庁
Preferable size of the conductive fine particle group 23 is in the range of 0.1 to 5.0 μm in a thickness direction of a composite material, and preferable surface roughness (Rz) of a surface provided with the conductive fine particle group 23 is in the range of 0.5 to 10.0 μm.例文帳に追加
前記導電性微粒子群の大きさは、複合材料の厚さ方向で0.1〜5.0μmの範囲にあることが好ましく、導電性微粒子群が設けられた面の表面粗度(Rz)は、0.5〜10.0μmの範囲にあることが好ましい。 - 特許庁
When this steel sheet is manufactured, on the surface of the unidirectional silicon steel secondary recrystallized sheet before re-rolling, for example, a mechanical-grinding or a chemical-corrosion is applied, and after making an arithmetic means Ra of the surface roughness from 0.6 μm to <3.5 μm, the re-rolling is applied.例文帳に追加
製造するにあたっては、再圧延前の一方向性珪素鋼二次再結晶板表面に、例えば、機械的な研磨または化学的な腐食を施し、表面粗度の算術平均Raを0.6μm以上3.5μm未満にした後、再圧延する。 - 特許庁
The ornament comprises one or a plurality of first phases essentially consisting of Pt and one or a plurality of second phases comprising Cu in the surface, and in the surfaces of both the phases, the arithmetic average surface roughness of the first phase(s) is higher than that of the second phase(s).例文帳に追加
Ptを主成分とする1または複数の第1相と、Cuを含む1または複数の第2相と、を表面に有し、両相の表面において第1相は第2相よりも算術平均表面粗さが大きいこと。 - 特許庁
The method for producing the crimped polytetrafluoroethylene fiber includes feeding a polytetrafluoroethylene fiber having a coefficient of dynamic friction of the surface of the fiber of 0.01-0.5 to a crimper roll having a surface roughness of 0.5-1.5 μm to impart crimps and to provide the crimped polytetrafluoroethylene fiber.例文帳に追加
繊維表面の動摩擦係数が0.01〜0.5であるフッ素繊維を、表面粗度が0.5〜1.5μmであるクリンパーロールに供給して、捲縮付与し、捲縮フッ素繊維を得ることを特徴とする捲縮フッ素繊維の製造方法。 - 特許庁
The auscultation garment enables diagnosis through fabric, wherein an average deviation of surface roughness of each of the wale direction and the course direction of a knit, or a length direction and a width direction of the knit detected by the KES method is 0-2.0 μm in both surface of woven/knit.例文帳に追加
編物のウェル方向およびコース方向、または編み物のタテ方向およびヨコ方向各々のKES法による表面粗さの平均偏差が織編物の両面において0〜2.0μmである、布帛を通して聴診可能な聴診用衣服。 - 特許庁
To provide a bonding base that can maintain bonding strength and durability even when the base has a large surface roughness and a concavo-convex pattern or steps present on the surface, or has a small contact area where base materials to be bonded are in contact with each other.例文帳に追加
基材の表面粗さが大きく表面に凹凸や段差が存在し、接合させる基材どうしが接する接触面積がわずかな場合でも、接合強度や耐久性を確保することが可能な接合基材を提供する。 - 特許庁
In the fiber stub 3 fixing an optical fiber 1b in a through hole of a ferrule 1a, one end face of the optical fiber 1b is made 0.1 μm or greater of surface roughness Ra, and an adhesive layer 2 of 1.35-1.6 of a refractive index is formed on the surface.例文帳に追加
フェルール1aの貫通孔に光ファイバ1bを固定したファイバスタブ3であって、光ファイバ1bの一方の端面を表面粗さRa0.1μm以上とするとともに、その表面に屈折率1.35〜1.6の接着剤層2を形成する。 - 特許庁
This is the copper foil for roughening treatment in which a cold-rolled surface has an uneven shape and preferably in which surface roughness of a rolling right angle direction and a rolling parallel direction by cold-rolling is Ra≥0.2 μm.例文帳に追加
冷間圧延した表面が凹状の形状を有し、好ましくは、冷間圧延によって圧延直角方向及び圧延平行方向の表面粗さがRa≧0.2μmであることを特徴とする粗化処理用圧延銅箔である。 - 特許庁
A member is formed from a SiC coated carbon stock that a SiC film is coated on a surface of a carbon material and a film thickness of the SiC film is 0.02-0.5 mm and a surface roughness Ra of the SiC film is ≤0.5 μm.例文帳に追加
炭素材の表面にSiC被膜が被着され、SiC被膜の膜厚が0.02〜0.5mm、SiC被膜の表面粗度Ra が5.0μm 以下の性状を備えたSiC被覆炭素材から形成されたプラズマ処理装置の内壁保護部材。 - 特許庁
To provide a printed article which has rich gradation properties and an image with a high image quality, and generates no cracking in a resin layer by bending even when a substrate such as a paper with a rough surface roughness, and a plastic with an uneven surface like an embossed one, is used.例文帳に追加
表面粗さの粗い紙または、エンボス加工をしたような表面が凸凹のプラスチック等の基材を用いても、階調性が豊かで高画質な画像を有し、且つ屈曲させても樹脂層に割れを生じない印刷物を提供する。 - 特許庁
The surface of at least a portion of the support means that comes into contact with the thin-film coated board 1 is permitted to be a smooth plane having an arithmetic average surface roughness (Ra) of 0.1 μm or smaller.例文帳に追加
マスクブランク等の薄膜付基板1を支持するための支持手段を備える支持部材2,5であって、支持手段の少なくとも薄膜付基板1と接触する部位の表面を、算術平均表面粗さ(Ra)で0.1μm以下である平滑面とした。 - 特許庁
To remove the flaws and defects of a wafer surface, while improving the roughness of the wafer surface without deteriorating the productive efficiency of a silicon wafer, by removing silicon chips remaining on polishing cloth, without having to interrupt the polishing works of the silicon wafer.例文帳に追加
シリコンウェーハの研磨作業を途中で中断することなく、研磨クロスに残存しているシリコン屑を除去するようにして、ウェーハの生産効率を落とすことなく、ウェーハ表面の傷、欠陥をなくすとともにウェーハ表面の粗さを改善する。 - 特許庁
As the arithmetical mean roughness Ra of the wire surface is 1.0 νm or smaller, the friction between the wire surface and the inside face of the electrode tip is reduced and hence, the wire can be smoothly fed and the fear that jamming or buckling arises is further reduced.例文帳に追加
また線材表面の算術平均粗さRaが1.0μm以下であることから、ワイヤ表面と電極チップ内面との摩擦が小さくなって、ワイヤの送りがスムーズになり、ワイヤに詰まりや座屈が発生する恐れをさらに小さくしている。 - 特許庁
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