「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(65ページ目) - Weblio英語例文検索

When the catalytic species layer is annealed at a temperature above the melting point before the metal salt solution is applied, pores in the catalytic species layer are closed and surface roughness of the catalytic species layer can be reduced.例文帳に追加

このように、金属塩溶液を塗布する前に、種触媒層を融点以上の温度でアニールすれば、種触媒層の細孔を閉塞させることや、種触媒層の表面粗さを小さくできる。 - 特許庁

To provide a rolling mill which uniformly roughens the surface of a rolled copper foil and produces the rolled copper foil with low roughness and achieves fine wiring of an FPC (Flexible Printed Circuit Board), to provide the rolled copper foil and the flexible printed circuit board.例文帳に追加

圧延銅箔の表面を均一に粗すことができ、圧延銅箔の低粗度化及びＦＰＣの微細配線化が図れる圧延機及び圧延銅箔並びにフレキシブルプリント基板を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a coating film on a conductive roller by which the transport quantity or the static charge of a toner is made proper by ensuring appropriate surface roughness of the coating film layer on the conductive roller with a simple method.例文帳に追加

簡素な方法により、導電性ローラの塗膜層表面粗さを適切にして、トナーの搬送量や帯電量を適正にできる導電性ローラの塗膜形成方法を提供する。 - 特許庁

In an injection molding mold, the cavity face corresponding to the reflective face of the reflection mirror is formed from ceramics such as zirconia polished to ≤5 nm surface roughness, while other cavity face is formed from a steel material.例文帳に追加

射出成形用金型においては、反射鏡の光反射面に対応するキャビテイ面を表面粗さ５ｎｍ以下に研磨したジルコニヤなどのセラミックスで形成し、他方のキャビテイ面は鋼材とした。 - 特許庁

The laminate has a structure wherein an inorganic layer is laminated on an organic layer, and the organic layer contains an anti-static agent and has a surface roughness of 2 nm or lower.例文帳に追加

有機層の上に無機層を積層した構造を含む積層体であって、前記有機層が帯電防止剤を含みかつ前記有機層の表面粗さが２ｎｍ以下であることを特徴とする積層体。 - 特許庁

To provide a compressor equipped with an intermittent lubricating mechanism whose lubricating passage member and an opposite member side have sliding surfaces prevented from wearing by improving the surface roughness of the sliding surfaces and removing a machining step therefrom.例文帳に追加

間欠給油機構の給油通路部材と他方の部材側との摺動面の面粗度の改良、及び摺動面の加工段差をなくし摺動面の摩耗を防止した圧縮機を提供する。 - 特許庁

The ferrite particle contains as a principal component a material represented by the general formula: Mn_xFe_3-xO_4 (wherein 0≤x≤1), and has a surface roughness of 0.4 to 0.6 μm and a saturation magnetization of 60 emu/g or more.例文帳に追加

一般式Ｍｎ_ｘＦｅ_３−ｘＯ_４（但し、０≦ｘ≦１）で表される材料を主成分とし、粒子の表面粗さを０．４〜０．６μｍの範囲とし、飽和磁化を６０ｅｍｕ／ｇ以上とする。 - 特許庁

To provide an inspection method capable of inspecting the degree of fine irregularities or the surface roughness of an end face of a glass plate or the like chamfered with a grinding stone or a polishing stone.例文帳に追加

研削砥石や研磨砥石を用いて面取り加工が施されたガラス板等の端面の微細な凹凸の程度、すなわち表面粗さの検査を行うことが可能な検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a grain-oriented silicon steel sheet excellent in stable core-loss property regardless of a iron surface roughness in the laser domain-conyrolled grain-oriented silicon steel sheet, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

レーザ磁区制御した一方向性電磁鋼板において、地鉄表面粗度に関係なく、鉄損特性が安定かつの優れた、一方向性電磁鋼板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Alternatively, the whole face of the casting face in the mold for metal casting is provided with ruggedness with the surface roughness Rmax of 0.1 to 1.0 mm, the casting face is coated with a silicon based release agent, and thereafter, molten metal is poured therein.例文帳に追加

あるいは、金属鋳造用鋳型の鋳込み面の全面に、表面粗さＲmaxが０．１〜１．０ｍｍとなる凹凸を設け、鋳込み面にシリコン系離型剤を塗布した後、溶湯を注ぎ込む。 - 特許庁

In manufacturing the material, finish rolling is conducted with a rolling amount in the range of ≥10 μm and ≤100 μm, using a roll that is subjected to film lapping treatment and has a surface roughness Ra of 0.1-0.05 μm.例文帳に追加

仕上げ圧延として、フィルムラッピング処理した、Ｒａで０．１〜０．０５μｍの表面粗さを有するロールを用いて、圧延量を１０μｍ以上１００μｍ以下の範囲で圧延を行い、製造する。 - 特許庁

The heat radiation members 50, 55, 58 have surfaces 52a, 55aa, 58a in contact with the developer 40 and the contct surfaces have arithmetic surface roughness Ra1 set to be 1/3 or less of the volume average particle size of toner.例文帳に追加

放熱部材５０，５５，５８の現像剤４０と接触する表面５２ａ，５５ａａ，５８ａは、算術表面粗さＲａ１がトナーの体積平均粒径の１／３以下となるように設定されている。 - 特許庁

To provide an optical system which is not easily influenced by surface roughness even when an aspheric lens is used, can be easily manufactured and is not easily influenced by environmental changes such as a temperature change.例文帳に追加

非球面レンズを用いた場合でも面粗さの影響が少なく、且つ容易に製造可能であり、更に温度変化等の環境の変化による影響が少ない光学系を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a lubricant film having an uniform desired thickness with less labor and in a short time, or homogeneously containing a solid lubricant and having low surface roughness.例文帳に追加

少ない労力と時間で所望の厚さの均一な潤滑皮膜Ｆを形成し、また固体潤滑剤が均一に含まれ、表面粗度が小さい潤滑皮膜Ｆを形成する方法を提供する。 - 特許庁

In this stamper which is made by electroplating method and is used for injection molding of the plastic substrate for optical disk, the center line average roughness Ra of stamper back surface after the completion of electroplating is less than 1.5 μm.例文帳に追加

電解メッキ法で作製され、光ディスク用プラスチック基板の射出成形用に使用されるスタンパにおいて、電解メッキ終了後のスタンパ裏面の中心線平均粗さRaが1.5μm未満であるスタンパ - 特許庁

When especially the peach skin finish surface is formed, the fine irregularities preferably show that the arithmetic mean roughness Ra is 0.5 to 15 μm and the average interval Sn is 0.5 to 10 μm and the average gradient θa is 45 to 90°.例文帳に追加

前記微細な凹凸は、特にピーチスキン調の表面を形成する場合、その算術平均粗さRaを 0.5〜15μｍ、平均間隔Smを 0.5〜10μｍ、平均傾斜θa を45°以上、90°未満とすることが好ましい。 - 特許庁

The alkali etchant is the one for controlling the surface roughness of a semiconductor wafer, comprises a sodium hydroxide aqueous solution or a potassium hydroxide aqueous solution, and further, has the weight concentration of 55-70 wt.%.例文帳に追加

半導体ウェーハの表面粗さ制御用アルカリエッチャントであって、水酸化ナトリウム水溶液又は水酸化カリウム水溶液からなり、重量濃度が５５重量％〜７０重量％である。 - 特許庁

At least a part other than a part for mounting the wafer on the wafer mounting face of the chuck top or the chuck top conductive layer 3 preferably has its surface roughness (Ra) of ≥0.0001 μm and ≤0.05 μm.例文帳に追加

チャックトップのウエハ載置面又はチャックトップ導体層３の少なくともウエハを載置する部分以外の部分は、その表面粗さがＲａで０.０００１μｍ以上０.０５μｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a multilayer mirror having a peel ply consisting of a material with small surface roughness at the time of film formation, on a substrate and not lowering its reflectivity compared with a case without the peel ply.例文帳に追加

成膜した際の表面粗さが小さい材料からなる剥離層を基板との間に有し、剥離層がない場合と比較して反射率が低下しない多層膜反射鏡を提供する。 - 特許庁

To provide a developer carrying member having an electric hard plating layer free from an abnormal metal deposition part and having very accurate surface roughness, and prevented from causing a tailing phenomenon even in high-speed printing process.例文帳に追加

異常な金属析出部のない高い精度の表面粗さを持つ電気硬質メッキ層を有し、高速プリントプロセスでも尾引き現象を生じない現像剤担持部材を提供することにある。 - 特許庁

To provide a polishing device for spherical bodies, having a machining pressure adjusting mechanism stable in a case where an elastic polishing pad is used as a tool and having high precision and small surface roughness.例文帳に追加

弾性を有する研磨パッドを工具として使用した場合における安定した加工圧力調整機構を持ち、高精度かつ面粗度の小さい球体の研磨装置を提供することにある。 - 特許庁

This manufacturing method includes preparing a base material for the terminal by stamping a copper alloy strip having large surface roughness; and plating the whole copper-alloy strip with Ni, Cu and Sn, as a post-plating treatment.例文帳に追加

表面粗さの大きい銅合金板条に打抜き加工を施して端子素材を形成した後、銅合金板条全体に後めっきとしてＮｉめっき、Ｃｕめっき及びＳｎめっきを行う。 - 特許庁

An n^- region is provided on the channel region and a portion of the n- region is removed so that a portion of the n^- region remains on the channel region to provide reduction in a surface roughness of the channel region.例文帳に追加

ｎ”領域は、チャネル領域上に設けられ、＆領域の一部分が除去され、それにより、ｎ”領域の一部分が、チャネル領域上に残って、チャネル領域の表面粗さの低減をもたらす。 - 特許庁

Furthermore, since the aluminum- base complex material constituting the finger 23 is a forged material to molten metal, cast-blow hole does not occur and a surface roughness can be improved in comparison with a cast product produced with the other making method.例文帳に追加

また、フィンガー２３を構成するアルミニウムの金属基複合材料は、溶湯鍛造物であるから鋳巣が発生せず、他の製法による鋳造物に比べて面粗度を高めることができる。 - 特許庁

The reference disk for measuring flying height of an inspection head is constituted of a substrate, having surface roughness Ra of substantially 1.70-2.00 nm, and a protective layer provided on the upper side of the substrate.例文帳に追加

検査ヘッドの浮上量を測定するための基準ディスクは、約１．７０ｎｍ〜約２．００ｎｍの表面粗さＲａを有する基板と、基板の上方に設けられた保護層を備えた構成を有する。 - 特許庁

Particularly preferably, central surface roughness (SRa) is set to be in a range of 5-15 μm, and a vertical interval between a projection and a recess is set in such a manner that a ten point height of irregularities (SRz) is in a range of 30-100 μm.例文帳に追加

中心面粗さ（ＳＲａ）を５μｍ以上、１５μｍ以下、また、凹凸の高低差を十点平均粗さ（ＳＲｚ）で３０μｍ以上、１００μｍ以下にすると特に好ましい。 - 特許庁

To provide a method for stably manufacturing a color filter with a broad margin which has neither color mixing nor void inferiority, has no pixel roughness on a partition wall surface and has flat and uniform colored layers at respective pixels.例文帳に追加

混色や白抜け不良の無い、隔壁表面の画素荒れの無い、各画素に平坦で均一な着色層を有するカラーフィルタを、マージン広く安定して製造する方法を提供する。 - 特許庁

To improve surface roughness (Ra) of a flat part of a mold made of resin used for a nano imprinting method and to reduce defects of formation of a pattern of a magnetic recording medium so as to enhance the productivity.例文帳に追加

ナノインプリント法に用いられる樹脂製モールドの平坦部の表面粗さ（Ｒａ）を改善し、磁気記録媒体のパターンの形成不良を低減し、生産性を向上させることができるようにする。 - 特許庁

Herein, a center line average roughness (Ra) of the raceway surface of each of the first race ring, the second race ring and the intermediate race ring 13 is 0.05 μm or less, and a load-length rate (Tp) is 80% or more.例文帳に追加

ここで、第一の軌道輪、第二の軌道輪および中間輪１３の軌道面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は、０．０５μｍ以下であり、負荷長さ率（Ｔｐ）は、８０％以上である。 - 特許庁

To provide an aliphatic polyester film which exhibits a good handleability in its production step, is free form printing displacement, wrinkles, etc., in the processing step and can be strongly bonded to a sealant film by specifying its refractive index, surface roughness, the number of projections and thermal shrinkage.例文帳に追加

製造段階でのハンドリング性が良好で、印刷やラミネート等の加工処理時に印刷ずれやしわ等を発生せず、しかも、良好な接着性の脂肪族ポリエステル系フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a processing method of precision-cutting of a thin film material, in which a piezoelectric thin film material may be efficiently cut off in a predetermined form, with surface roughness of the order of nm and few damages.例文帳に追加

ナノオーダの仕上げ面粗さで且つ損傷が少なく圧電薄膜材料を所定形状に効率よく切り出すことができる薄膜材料の精密切り出し方法を提供することにある。 - 特許庁

A sheet member 3 impregnated or applied with skin roughness inhibitor is mounted on the section of the surface of a mouse main body 2 with which the fingers or a palm of the hand of an operator is brought into contact so as to be freely attachably and detachably.例文帳に追加

マウス本体２の表面のうち、操作者の指先や手のひらが触れる部分に肌荒防止剤が含浸又は塗布されるシート部材３が着脱自在に取り付けられている。 - 特許庁

The glossiness of the light projecting surface of the cover glass is specified to be not smaller than 5 and not larger than 40, and its ten-point mean roughness Rz is specified to be not smaller than 50 μm and not larger than 300 μm.例文帳に追加

本発明は、カバーガラスの光入射面の光沢度を５以上４０以下に規定し、且つ、光入射面の十点平均粗さＲｚを５０μｍ以上３００μｍ以下に規定する。 - 特許庁

This product has a base metal 1 composed of stainless steel and a covering layer 2 covered on the surface of the base metal 1 and composed of porcelain enamel having hydrophilic properties, and the ten-point average roughness (Rz) of the covering layer is <20 μm.例文帳に追加

ステンレスからなる母材１と、母材１の表面に被覆され、親水性を有する琺瑯ガラスからなる被覆層２とを有し、被覆層は、十点平均粗さ（Ｒ_Z）が２０μｍ未満である。 - 特許庁

To provide a method of on-line grinding of a rolling roll by which the surface roughness of a rolling roll to be ground is controlled so as to adapt to the cooling condition of a steel sheet after hot rolling.例文帳に追加

本発明は、熱間圧延後の鋼板の冷却条件に適応するよう、被研削圧延ロールの表面粗度をコントロールする圧延ロールのオンライン研削方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a developing method and a developing apparatus capable of properly controlling surface roughness of a developing roller which has a satisfactory conveying property of toner and causes no image fogging by means of the values of Ra and Rz.例文帳に追加

トナーの搬送性が良好で且つ画像カブリの発生しない現像ローラの表面の粗さをＲａとＲｚの値で適正に管理可能な現像方法及び現像装置を提供する。 - 特許庁

Consequently, since the crystalline substrate 11 is quickly machined favoritely (with a small surface roughness), the thickness of the substrate can be controlled at a high accuracy while securing a high productivity, and desired characteristics can be obtained.例文帳に追加

これにより、迅速に且つ良好に（小さな表面荒れで）結晶基板１１が削れるので、高い生産性を確保しつつ、厚みを高い精度で制御して所望の特性を得ることができる。 - 特許庁

A stainless steel is used for a base material of the positive electrode case 1, a clad of nickel or a nickel alloy is arranged on the inner face side, and the maximum height Rz of the surface roughness on the inner face side is set to ≤4 μm.例文帳に追加

正極ケース１の基材にステンレス鋼を用い、内面側にニッケルもしくはニッケル合金のクラッドを配置し、かつ前記内面側の表面粗さの最大高さＲｚを４μｍ以下にする。 - 特許庁

The surface roughness Ra of the Mo-based film 41 in the conductive reflection film 40 is ≤5 nm; and the reflectance of the Al-based film 42 is ≥85% at a wavelength of 350-550 nm.例文帳に追加

そして、導電性反射膜４０のＭｏ系膜４１の表面荒さＲａが５ｎｍ以下であり、Ａｌ系膜４２の波長３５０ｎｍ〜５５０ｎｍにおける反射率が８５％以上である。 - 特許庁

If the layer 12 is formed as a laminated structure of GaN and AlGaN, a roughness is formed on the surface, GaN is exposed, a metal film is formed, and ohmic contact can be established with GaN.例文帳に追加

Ｎ型クラッド層１２をＧａＮとＡｌＧａＮの積層構造とした場合、表面に凹凸を形成してＧａＮを露出させ、金属膜を形成してＧａＮとのオーミック接触をとることができる。 - 特許庁

To suppress deteriorations in quality of a substrate and performance of a semiconductor device, which is caused by contaminants or particles being mixed into a substrate with a silicon film formed thereon, and to form a silicon film with a small surface roughness.例文帳に追加

汚染物やパーティクルがシリコン膜等を有する基板に混入することにより基板の品質や半導体装置の性能が劣化することを抑制し、表面粗さの小さいシリコン膜を形成する。 - 特許庁

Furthermore, the surface roughness Ra of the antiglare layer is 0.05 to 0.35 μm and a rate S_T of convex parts occupied in an unit area of 250 μm square is 35 to 45%.例文帳に追加

そのうえで、前記防眩層の表面粗さＲａが０．０５〜０．３５μｍであり、かつ、２５０μｍ四方の単位面積あたりに占める凸部の割合Ｓ_Tが３５〜４５％であることを特徴とする。 - 特許庁

The face-washing cloth having an arithmetic average roughness Ra on the cloth surface of not greater than 30 μm is obtained by being subjected to buff processing on a fabric containing filament yarns A having a single fiber diameter of 10-1,000 nm.例文帳に追加

単繊維径が１０〜１０００ｎｍのフィラメント糸Ａを含む布帛にバフ加工を施すことにより、クロス表面における算術平均粗さＲａが３０μｍ以下である洗顔クロスを得る。 - 特許庁

The metal nanoparticle composition is able to form printed conductive features having a coffee ring effect ratio of about 1.2 to about 0.8, a surface roughness of about 15 or less, and a line width of about 200 μm or less.例文帳に追加

金属ナノ粒子組成物は、コーヒーリング効果の比率が約１．２〜約０．８、表面粗さが約１５以下、線の幅が約２００マイクロメートル以下の印刷した導電性の部品を作ることができる。 - 特許庁

The catalyst transfer film has a catalyst layer formed on one face of a base material film, with a surface roughness of the catalyst layer of 0.3 to 3.5, and a glossiness at 85 degrees of 0.1 to 26.例文帳に追加

本発明の触媒転写フィルムは、基材フィルムの一方面に触媒層が形成されたもので、前記触媒層の表面粗さが０．３〜３．５、かつ８５度における光沢度が０．１〜２６である。 - 特許庁