「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(69ページ目) - Weblio英語例文検索

The semiconductor device comprises: a metal pad 2 formed on a semiconductor chip 1; a post 3 electrically connected on the metal pad 2 with a plane roughness of its upper surface of not more than 30 nm; a resin layer 4 for sealing the post 3 and the main surface of the semiconductor chip 1; and a solder terminal 5 formed on the upper surface of the post 3.例文帳に追加

半導体チップ１上に形成されたメタルパッド２と、メタルパッド２上に電気的に接続され、上面の面粗度が３０ｎｍ以下であるポスト３と、ポスト３および半導体チップ１の主面を封止する樹脂層４と、ポスト３の上面に形成された半田端子５とを備えた。 - 特許庁

In the functional device having a surface with a possibility of dew formation and/or frost formation, the smooth type planing coat is formed on the surface, and a surface roughness of the smooth type planing coat is an arithmetical means deviation of profile Ra=0.1μm or less defined by JIS BO601.例文帳に追加

結露及び／又は着霜する可能性のある表面を持つ機能性装置において、前記表面には平滑型滑水性被膜が形成され、更に、この平滑型滑水性被膜の表面粗度がＪＩＳ Ｂ０６０１に規定された中心線平均粗さＲａ＝０．１μｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a material for plating which can be suitably used in printed wiring board manufacture and the like, the material for plating and a solution having excellent adhesion to an electroless plating film formed on the material surface even when the surface roughness of the material surface is small, and a printed wiring board manufactured by using such material for plating and solution.例文帳に追加

プリント配線板の製造等に好適に用いることができるめっき用材料であり、該材料表面の表面粗度が小さい場合にも、該表面に形成した無電解めっき皮膜との接着性に優れためっき用材料と溶液、それを用いてなるプリント配線板を提供する。 - 特許庁

The objective masking assembly useful for masking a region from the thermal spraying of metal or ceramic particles has a heat resistant substrate with an exposed surface having <50.8 μm smoothness blasted with abrasive grains and a thin thermosetting epoxy coating film bonded to the exposed surface and having ≤1.5 μm surface roughness as the average read value (Ra) of the profile meter.例文帳に追加

50.8μm未満の平滑度を持つ露出された砥粒ブラスト面を持つ耐熱基体、及び上記露出面に結合され、プロフィルメーターの平均読取値（Ra）で1.5μm以下の表面粗さを持つ、薄い熱硬化性エポキシ被膜、を有する金属又はセラミック粒子の溶射の溶射から領域をマスキングするのに有用なマスキング組立体。 - 特許庁

The embossed surface 42 of the thermoplastic resin molding 40 is constituted of rough unevenness 44 on the side of a substrate and fine unevenness 46 in an acute angle shape on the side of the upper layer, and the low glossiness or the light diffusiveness is obtained by setting the three dimensional surface roughness parameter of the embossed surface 42 in a prescribed range.例文帳に追加

熱可塑性樹脂成形品４０のシボ表面４２は、下地側の粗い凹凸４４と上層側の鋭角形状の細かい凹凸４６からなり、該シボ表面４２の３次元表面粗さパラメータを所定範囲内に設定することで、低光沢性あるいは光拡散性が得られる。 - 特許庁

The titanium material is characterized in that the arithmetic average roughness of the surface is 1.5 to 5.0 μm and the ratio Ra/Sm of Ra and the average spacing Sm of the ruggedness is 0.018 to 0.005 and further the titanium material has an oxide film and nitride film on its surface, thereby the surface area of the titanium material is increased and the lubricity is improved.例文帳に追加

表面の算術平均粗さＲａが１．５〜５．０μｍでＲａと凹凸平均間隔Ｓｍの比Ｒａ／Ｓｍが０．０１８〜０．０５であることを特徴として、さらにはその表面に酸化膜や窒化膜を有することによって、チタン材の表面積を高め潤滑性を良くすることができる。 - 特許庁

In the polysiloxane thin film transfer sheet having a construction which laminates a polysiloxane thin film layer on a plastic sheet having a releasing surface or on a glass sheet having a releasing surface, the ten-point average roughness Rz on the releasing surface of the plastic sheet or the glass sheet is set to 0.5 μm or less.例文帳に追加

離型性表面を備えたプラスチックシート或いは離型性表面を備えたガラスシート上に、ポリシロキサン薄膜層を積層してなる構成を備えたポリシロキサン薄膜転写用シートにおいて、プラスチックシート又はガラスシートの離型性表面の１０点平均粗さＲｚを０．５μｍ以下とする。 - 特許庁

A silicon carbide semiconductor element has a 4H-SiC substrate 1 and the SiC epitaxial layer 3 formed on a surface of a 4H-SiC substrate 1, which has an OFF angle of 3° to 5°, at least a partial surface of the SiC epitaxial layer 3 having a surface roughness of ≤1 nm.例文帳に追加

炭化珪素半導体素子は、４Ｈ−ＳｉＣ基板１と、４Ｈ−ＳｉＣ基板１の表面に形成されたＳｉＣエピタキシャル層３とを備え、４Ｈ−ＳｉＣ基板１は３°より大きく５°以下のオフ角を有しており、ＳｉＣエピタキシャル層３の少なくとも一部の表面は、１ｎｍ以下の表面粗さを有している。 - 特許庁

The chip resistor comprises a chip substrate having a rectangular shape, when viewed planarly; a resistor layer provided on the surface of the chips substrate; and a protective layer that covers the resistor layer and the surface of the chip substrate, wherein roughness regions which are formed with recessed portions are provided on the surface of the substrate coated with the protective layer.例文帳に追加

平面視矩形状としたチップ基板と、このチップ基板の表面に設けた抵抗体層と、この抵抗体層とともにチップ基板の表面を被覆する保護層とを有するチップ抵抗器において、保護層で被覆されるチップ基板の表面に、凹部が形成された凹凸領域を設ける。 - 特許庁

This wet type friction mating material to slide on a wet type friction material with fiber as a base material in working liquid has a metallic main body and particulates attached and fixed on a sliding surface of this main body, and surface roughness of the sliding surface is 0.05-2.0 ×mRa with these particulates.例文帳に追加

繊維を基材とする湿式摩擦材と作動液中で摺動する湿式摩擦相手材であって、金属製の本体と該本体の摺動表面に付着固定された微粒子を有し、該微粒子により該摺動表面の表面粗さが０．０５〜２．０μｍＲａとなっていることを特徴とするものである。 - 特許庁

An ultraviolet-curable resin composition is applied or laminated on a polymer sheet raw material, irradiated with ultraviolet rays, subsequently brought into close contact with a smooth surface having a maximum surface roughness (Rmax) of Rmax≤0.1 μm and irradiated with ultraviolet rays thereby to transfer the smooth surface thereto, and molded to give the polymer sheet.例文帳に追加

高分子シート原反上に紫外線硬化性樹脂組成物を塗布またはラミネートし、該紫外線硬化性樹脂組成物に紫外線を照射した後に、表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）がＲｍａｘ≦０．１μｍの平滑面に密着させて紫外線を照射し、平滑面を転写、成形する高分子シートの製造方法。 - 特許庁

In the photosensitive drum obtained by forming a photosensitive layer by coating on the peripheral surface of a cylindrical substrate comprising an electrically conductive resin composition, the surface roughness of the peripheral surface of the cylindrical substrate is represented by ≤0.2 μm center line average height (Ra) and ≤0.8 μm maximum height (Rmax).例文帳に追加

導電性樹脂組成物からなる円筒状基体の外周面に感光層を塗工形成してなる感光ドラムにおいて、上記円筒状基体の外周面の表面粗さが、中心線平均粗さ（Ｒａ）０．２μｍ以下で、最高高さ（Ｒｍａｘ）０．８μｍ以下であることを特徴とする感光ドラムを提供する。 - 特許庁

To provide a material for electroless plating that is a material for plating used for the manufacturing, or the like of a printed-wiring board ideally and has excellent adhesiveness with a nonelectrolytic plating film formed on a surface even if surface roughness on the surface of the material is small, and to provide a solution and the printed-wiring board using the solution.例文帳に追加

プリント配線板の製造等に好適に用いることができるめっき用材料であり、該材料表面の表面粗度が小さい場合にも、該表面に形成した無電解めっき皮膜との接着性に優れた無電解めっき用材料と溶液、それを用いてなるプリント配線板を提供する。 - 特許庁

The polyester film for supporting interlayer insulating material includes a coated layer formed on one surface of the polyester film whose centerline average roughness (SRa) of the other film surface is 0.5-15 nm, and an oligomer amount on a surface of the coated layer after heat treatment at 180°C for 30 minutes is 3.0 mg/m^2 or less.例文帳に追加

一方のフィルム表面の中心線平均粗さ（ＳＲａ）が０．５〜１５ｎｍであるポリエステルフィルムのもう一方の面に塗布層を有し、１８０℃で３０分間熱処理した後の当該塗布層表面のオリゴマー量が３．０ｍｇ／ｍ^２以下であることを特徴とする層間絶縁材料支持ポリエステルフィルム。 - 特許庁

In the electrophotographic roller provided with a conductive elastic layer and a surface layer and in which the 10 point average roughness (Rz) of the surface is ≥0.1 μm and ≤20 μm, temperature in low temperature side indicating the half value of the peak value tan δ in temperature dispersing measure of dynamic viscoelasticity of the surface layer is provided to be ≥50°C.例文帳に追加

導電性弾性層および表面層を有し、表面の１０点平均粗さ（Ｒｚ）が、０．１μｍ以上２０μｍ以下である電子写真ローラーにおいて、該表面層の動的粘弾性の温度分散測定におけるｔａｎδピーク値の半値を示す低温側温度が５０℃以上である。 - 特許庁

The biting of silicon is suppressed, the generated stress is easily liberated, the residual amount of internal strain in silicon is reduced, and the photoelectric conversion efficiency of the polycrystalline silicon is improved by making the inner surface of the vessel into such a flat surface that the undulation is ≤3 mm and the surface roughness Ra is ≤10 μm, preferably ≤6 μm.例文帳に追加

また、容器内面のうねりを３ｍｍ以下、表面粗さＲａを１０μｍ以下、更に好ましくは６μｍ以下の平滑な表面とすることによってシリコンの食い込みを低減して発生応力を逃げ易くし、シリコン内部歪の残留を軽減し、多結晶シリコンの光電変換効率を向上させる。 - 特許庁

Thereby, the ratio of the surface roughness to a clearance d between fin end parts and the front surface 12a of the rotor is increased, the impact of disturbance on a flow around the fins 13 is remarkably enhanced by the recessed and projecting parts of the front surface 12a, and a pressure loss is increased to reduce the amount of leaked fluid.例文帳に追加

これにより、フィン先端部と回転体の表面１２ａの表面粗さとの間隙ｄに対する割合が増大し、表面１２ａの凹凸によってフィン１３周辺の流れに与える乱れの影響を著しく強化し、圧力損失を増大させ流体のリーク量を低減する。 - 特許庁

In the method of producing a hot-dip galvanized steel sheet, a prescribed surface roughness is imparted to a plated steel sheet after galvanizing by spraying high pressure water on the surface of the plated steel sheet before the solidification of hot-dip zinc, and, after that, skinpass rolling is performed thereto.例文帳に追加

溶融亜鉛めっき後のめっき鋼板に対して、溶融亜鉛が凝固前に高圧水を該めっき鋼板表面に吹き付けて所定の表面粗さを付与し、しかる後に調質圧延することを特徴とする溶融亜鉛めっき鋼板の製造方法。 - 特許庁

To decrease or eliminate striae in a glass substrate for a mask blank or adverse influences by reflection on the back surface, to measure a roughness pattern of the objective surface of a glass substrate with high accuracy, and to control flatness with extremely high accuracy based on the measurement result to achieve high flatness.例文帳に追加

マスクブランクス用ガラス基板の脈理や裏面の反射による悪影響を低減又は除去して、ガラス基板の被測定面の凹凸形状を精度よく測定し、この測定結果にもとづいて、極めて高精度に平坦度を制御し、高平坦度を実現する。 - 特許庁

The fluorescent material consists of a ceramic sintered compact composed of a single inorganic material, has a linear transmittance at a peak wavelength of the fluorescent light of ≥73%, and a surface roughness (Ra) at a light emitting surface of 0.6 to 2.7 μm.例文帳に追加

本発明に係る蛍光体は、単一の無機材料のみで構成されたセラミックス焼結体からなり、蛍光のピーク波長に対する直線透過率が７３％以上であり、光出射面における表面粗さ（Ｒａ）が０．６μｍ以上２．７μｍ以下である。 - 特許庁

The acrylic resin film having 50-500 μm thickness comprises 0.5-30 parts wt. of a glass short fiber based on 100 parts wt. of an acrylic resin and has surface roughness on an embossed surface in the range of 15-25 μm and has ≥60% light transmittance.例文帳に追加

アクリル樹脂１００重量部に対して、ガラス短繊維０．５〜３０重量部を含み、エンボス面の表面粗さが１５〜２５μｍの範囲にあり、光線透過率が６０％以上である、厚さ５０〜５００μｍのアクリル樹脂フィルムおよびその製造方法。 - 特許庁

A tire mold 2 has radially inner surfaces for forming a tread and a pair of sidewalls, and at least either sidewall forming surface has a portion of an average surface roughness of less than 0.381 microns (15 microinches), preferably less than 0.254 microns (10 microinches).例文帳に追加

タイヤ金型２は、トレッドと一対のサイドウォールとを形成する半径方向内側の面を有し、このサイドウォール形成面の少なくとも１つは、平均表面粗さが０．３８１ミクロン（１５マイクロインチ）未満、好ましくは０．２５４ミクロン（１０マイクロインチ）未満の部分を有する。 - 特許庁

The deposition of the cover layer is conducted in a state in which a bias voltage, selected so as to make arithmetic average roughness (Ra) of the molding surface more increased than that before deposition due to collision of a portion of ions of a process gas with the molding surface during deposition, is applied to the base material.例文帳に追加

被覆層の成膜は、成膜中にプロセスガスのイオンの一部が成形面に衝突することによって成形面の算術平均粗さ（Ｒａ）が成膜前よりも増大するように選択されたバイアス電圧を基材に印加した状態で行う。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a glass substrate for an information recording medium which has desired flatness and surface roughness and which has few micro defects on a main surface, and to provide the information recording medium using the glass substrate for information recording medium manufactured by the manufacturing method.例文帳に追加

所望の平坦度、表面粗さを備え、主表面の微小欠陥が少ない情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び該製造方法により製造した情報記録媒体用ガラス基板を用いた情報記録媒体を提供する。 - 特許庁

The roughness Ra of the outermost surface 14c of a cell frame part 14b constituting the sponge elastic layer 14 is set within 2.0 to 5.0 μm, roll hardness is set to 220gf or less, and a rate of a non-opening part on the surface of the sponge elastic layer 14 is set to 20% or less.例文帳に追加

スポンジ弾性層１４を構成するセル骨格部１４ｂの最外表面１４ｃの粗度Ｒａは、２．０〜５．０μｍの範囲内、ロール硬度は、２２０ｇｆ以下、スポンジ弾性層１４表面の非開口部の割合は、２０％以下とされている。 - 特許庁

As a treatment for reducing the reflectance, coating or thermal spraying in a blackish color, plating in blackish color, a treatment for roughening the surface roughness of the metallic sheet, blasting, etching, blackening, a treatment for changing the material of the surface of the metallic sheet, or the like are adoptable.例文帳に追加

反射率低減処理としては、黒色系の塗装または溶射、黒色系のめっき、金属板の表面粗度を粗くする処理、ブラスト処理、エッチング処理、黒色化処理、金属板の表層面の材料変更処理などを採用することができる。 - 特許庁

Thus, roughness (concavo-convex) on the surface of the substrate 10 and an acute-angle level difference (edge) occurring in the base layer of the light-emitting part 30 due to particles that may remain on the surface of the substrate 10 are suppressed and, further, generation of gas from the resin layer 20 itself is suppressed.例文帳に追加

これにより、基板１０表面の粗さ（凹凸）や、基板１０表面に残留し得るパーティクルに起因して発光部３０の下地層に鋭角の段差（エッジ）が生じるのが抑制され、さらに、樹脂層２０自体からのガスの発生も抑制される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an intermediate transfer belt having a surface layer which has stable surface roughness (Rz), stable film thickness and is excellent in durability such as abrasion resistance and scuffing resistance due to removal of toner caused by blade after secondary transfer, and to provide the intermediate transfer belt.例文帳に追加

安定した表面粗さ（Ｒｚ）と、膜厚が安定し、二次転写後のブレードによるトナーの除去による耐摩耗性、擦り傷耐性等の耐久性に優れた表面層を有する中間転写ベルトの製造方法及び中間転写ベルトの提供。 - 特許庁

The laminated board for the electronic circuit is characterized in including: a substrate containing pyridobisimidazole fiber of ≤30 nm in mean-square roughness of a fiber surface and a resin cured body; and a metal foil provided on at least one surface of the substrate.例文帳に追加

本発明の電子回路用積層板は、繊維表面の二乗平均粗さが３０ｎｍ以下であるピリドビスイミダゾール繊維と樹脂硬化物とを含有する基板と、前記基板の少なくとも一方の面に設けられた金属箔とを有することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a nanostructure having micropores on the surface is carried out by subjecting an aluminum substrate having ≥99.9% purity to at least mechanical polishing to obtain ≤0.1 μm arithmetic average roughness Ra and ≥60% surface gloss, and then anodizing.例文帳に追加

９９．９％以上の純度のアルミニウム基板を、少なくとも機械的研磨し、算術平均粗さＲａを０．１μｍ以下、かつ表面光沢度６０％以上とし、さらに陽極酸化する、マイクロポアを表面に有するナノ構造体の製造方法。 - 特許庁

The pH of aqueous emulsion containing fluorocarbon silane hydrolysate produced under the presence of a surfactant, and silicate is adjusted, and crystallized glass of surface roughness Ry 0.5-25 μm is applied and dried to form a heat resistant water repellent coating layer on a surface.例文帳に追加

界面活性剤の存在下で生成したフルオロカーボンシラン加水分解物と、シリケートとを含有する水性エマルジョンのｐHを調整した後、表面粗さRyが0.5〜25μmである結晶化ガラスに塗布乾燥して、表面に耐熱性撥水コーティング層を形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a decoration member which imparts such a high surface hardness that obviates the occurrence of a flaw during use to decoration components consisting of a soft material of titanium or titanium alloy and is free from such a surface roughness which does not impair decorativeness.例文帳に追加

チタンまたはチタン合金の軟質材料からなる装飾部品において、使用中に傷が発生しないような高い表面硬度を与え、さらに装飾性を損なわないような表面荒れのない装飾部材の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The fine unevenness has within 0.6-3.0 μm range surface roughness Ra of a converted waveform which is obtained by introducing a power spectrum for its wavelength obtained by performing a Fourier conversion of a cross sectional curve of the surface and performing a reverse Fourier conversion on 30-250 μm wavelength region among them.例文帳に追加

この微小凹凸は、表面の断面曲線をフーリエ変換して波長に対するパワースペクトルを導出し、このうち、３０〜２５０μｍの波長領域を逆フーリエ変換した時、その変換波形の表面粗さＲａが、０．６〜３．０μｍの範囲内にある。 - 特許庁

The thickness (for example, 2 μm) of the DLC film formed on the surface of the basic material 20 of the needle bar 11 may be larger than a surface roughness (that is a difference between concave and convex parts of the basic material 20, and is 1 μm, for example) of the basic material 20.例文帳に追加

ここで、針棒１１の基材２０の表面に形成されたＤＬＣ被膜２１の膜厚（例えば、２μｍ）が、その基材２０の表面粗（つまり、基材２０の凹凸段差であり、例えば、１μｍ）よりも大きくなるように構成してもよい。 - 特許庁

The pneumatic tire has a tread surface roughness (Ra 75) of 10-100 μm as measured in accordance with JIS B0601 after driving 3,000 km on a paved road and a total sipe length of 1.0-4.0 cm per cm^2 of the contact area on the tread surface.例文帳に追加

舗装路３０００ｋｍ走行後のＪＩＳ Ｂ０６０１によって測定されたトレッド表面粗さ（Ｒａ７５）が１０〜１００μｍであり、かつ該トレッド表面の接地面積１ｃｍ^2当たりの全サイプ長さが１．０〜４．０ｃｍである空気入りタイヤである。 - 特許庁

Since the surface of the sheet 14 is smooth, air is not entrained between the belt 57 and the sheet 14, a so-called blister is not generated even in a high- speed operation, its surface roughness is very small, a haze can be reduced, and the sheet having the high transparency and high rigidity can be manufactured.例文帳に追加

原反シート１４の表面が平滑であるため、加熱用無端ベルト５７と原反シート１４間に空気を巻き込まず、高速でもいわゆるブリスタを生じず極めて表面粗さが小さくヘイズを低減でき、高透明および高剛性を製造できる。 - 特許庁

With respect to the ceramic heater which is constituted of the heating element on the surface or in the interior of the ceramic board, relative roughness of the heating surface, on which a heated thing is heated, of the above ceramic board based on JISB 0601, is Rmax=0.05 to 200 μm.例文帳に追加

セラミック基板の表面または内部に発熱体を設けてなるセラミックヒータにおいて、上記セラミック基板は、被加熱物を加熱する加熱面のＪＩＳＢ ０６０１に基づく面粗度が、Ｒｍａｘ＝０．０５〜２００μｍであることを特徴とするセラミックヒータ。 - 特許庁

A substrate 1 in which a surface including electric wirings 2 is made flat by making surface roughness ≤3 μm and embedding the electric wirings 2 in grooves provided in the substrate as a substrate on which at least the optical active device 3 and the optical waveguides 4 and 5 are mounted.例文帳に追加

少なくとも光学能動素子３及び光導波路４，５を実装する基板として、表面粗さを３μｍ以下とし、基板に設けた溝に電気配線２を埋め込むことにより、電気配線２を含む表面を平坦にした基板１を用いる。 - 特許庁

A wafer supporting surface 32 formed to a wafer pocket 31 of a susceptor 10 has a surface roughness of 0.1-3.0 μm and a flatness of 10 to 120 μm, and descends in an angle range of 2.86-0.40° to the holizontal plane towards a center of the wafer pocket.例文帳に追加

サセプタ１０のウェーハポケット３１に形成されたウェーハ支持面３２は、表面粗さ０．１μｍ〜３．０μｍ、平面度１０〜１２０μｍの範囲であり、かつウェーハポケットの中心に向けて、水平面に対して２．８６°〜０．４０°の角度範囲で下がるように傾斜している。 - 特許庁

A ceramic member with a display 4 is obtained by forming recesses 2 having 0.5-30 μm depth and ≥1.6 μm surface roughness Ra of the inner faces in the surface of a ceramic body 1 and filling the recesses 2 with glass or ceramics 3 taking on a color different from the color of the ceramic body 1.例文帳に追加

セラミックス体１の表面に深さ０．５〜３０μｍ、内面の表面粗さがＲａ１．６μｍ以上の凹部２を備え、該凹部２に上記セラミックス体１と異なる色を呈するガラスまたはセラミックス３が充填されてなる表示部４を有する。 - 特許庁

To provide an active ray curable matte composition having a low viscosity of the matte compound, excellent in coatability, without surface roughness such as the surface obtained by using a matte agent such as silica, and capable of forming a matte layer excellent in smoothness.例文帳に追加

艶消し組成物の粘度が低く、塗工性に優れ、得られた艶消し層表面の外観に、シリカ等の艶消し剤を用いた表面のようなザラつきがない、平滑性に優れた艶消し層を形成可能な活性光線硬化性艶消し組成物を提供すること。 - 特許庁

When the sash window frame 20 is mounted on a wall receiving part 40, the sealing member 30 is pressed against the opening end surface 42a of the external wall panel 42, therefore a section between the sash window frame 20 and the external wall panel 42 is sealed completely even if an external wall panel surface has roughness.例文帳に追加

サッシ窓枠２０が壁受入部４０に取付けられると、シール部材３０が外壁パネル４２の開口部端面４２ａに圧接するので、外壁パネル表面に凹凸があっても、サッシ窓枠２０と外壁パネル４２との間が確実にシールされる。 - 特許庁

A surface of a copper alloy plate with a density of deposits with a diameter of 1 to 50 nm of 100 pieces/μm^2 or more is put under etching treatment to be of the above surface roughness, and pores with a diameter of 1 to 50 nm are formed, with a thickness of an oxide film to be 4 to 300 nm.例文帳に追加

直径１〜５０ｎｍの析出物の密度が１００個以上／μｍ^２の銅合金板の表面をエッチング処理し、前記表面粗さとし、かつ１〜５０ｎｍ径の細孔を形成するとともに、酸化皮膜の厚みを４〜３００ｎｍとする。 - 特許庁

A JISB0601-compliant 10-point mean surface roughness Rz of one part of the contact surfaces of the inner wall protective members 2 of a plasma generator chamber 1 with a plasma is 1 to 50 μm and the mean value of the surface roughnesses Rzs measured at the fewest five places on the members 2 is 1 to 50 μm.例文帳に追加

プラズマ発生装置チャンバ１の内壁保護部材２は、プラズマとの接触面の一部がＪＩＳＢ０６０１準拠の１０点平均面粗さＲｚが１〜５０μｍであり、また最少５カ所で測定した前記Ｒｚの平均値が１〜５０μｍである。 - 特許庁

In the light diffusing plate 21, at least either face in a light incidence surface 21A and a light emission surface 21B lies in a specular state in which the center line average roughness (Ra(maxl)) measured in a direction at which the obtained value reaches the maximum is 0.0001 to 0.1 μm.例文帳に追加

光拡散板２１において、光入射面２１Ａおよび光出射面２１Ｂの少なくともいずれかの面が、得られた値が最大となる方向に測定した中心線平均粗さ（Ｒａ（max1））が０．０００１μｍ〜０．１μｍの鏡面状態である。 - 特許庁