「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(70ページ目) - Weblio英語例文検索

In the molding of a cyclic olefine-based resin or the composition thereof, at least a part of the surface of the molding is roughened so that the ten point average roughness Rz is ≥5 μm, and a metallic film is thereafter formed on the surface of the molding by a wet plating method.例文帳に追加

環状オレフィン系樹脂もしくはその組成物の成形品に対し、成形品表面の少なくとも一部を、十点平均粗さＲｚが５μｍ以上となるように粗化した後、成形品表面に金属膜を湿式メッキ法により形成する。 - 特許庁

An EUV mask blank, including a substrate 1, a reflector layer 2 formed on the substrate 1 and an absorber layer 3 formed on the reflector layer 2, is formed with two irregularities 4 of surface roughness of predetermined large and small sizes on a surface of the absorber layer 3.例文帳に追加

基板１と基板１上に形成された反射体層２と、反射体層２上に形成された吸収体層３を持つＥＵＶマスクブランクにおいて、吸収体層３の表面に所定の大小二つの表面粗さの凹凸４を形成する。 - 特許庁

In the fixing belt having a heat-resistant endless belt layer and a release layer formed on the surface, the release layer consists of a fluorocarbon resin layer having ≥13 Hv Vickers' hardness, ≤0.4 μm surface roughness (Ra) and ≥25 μm thickness.例文帳に追加

耐熱性エンドレスベルト層と表面に設けられた離型層とを有する定着ベルトにおいて、前記離型層が、ビッカース硬度１３Ｈｖ以上、表面粗さ（Ｒａ）０．４μｍ以下であり、厚さ２５μｍ以上のフッ素樹脂層であることを特徴とする。 - 特許庁

In a printed board wherein a resistance layer 28 is formed on the surface of an insulating layer 26, and is etched into a predetermined shape to form a resistance element 36, the surface roughness Ra of the insulating layer is set to range from 0 to 1 μm.例文帳に追加

絶縁層２６の表面に抵抗層２８を形成し、前記抵抗層を所定の形状にエッチングすることにより抵抗素子３６を形成するようにしたプリント基板において、前記絶縁層の表面粗さＲａを、０μｍ〜１μｍとなるように設定する。 - 特許庁

When the ZnO thin film 2 and the ZnO laminate 10 is laminated, the film and body are grown at a growing temperature of 750°C or higher, or are formed to have a prescribed step structure on the film surface so that the roughness of the film surface falls within a prescribed range.例文帳に追加

ＺｎＯ系薄膜２やＺｎＯ系積層体１０を形成する場合には、成長温度７５０℃以上で成長させるか、又は、膜表面の粗さが所定の範囲になるように、膜表面のステップ構造が所定の構造となるように形成する。 - 特許庁

A groove 5 is made at a lower part of a resin frame 2 in the upper surface of a ceramic substrate 1 over a substantially entire circumference thereof, such that the inner side face of the resin frame 2 is located above the opening thereof, where arithmetic mean roughness Ra of the inner surface of the groove 5 is 0.05-0.4 μm.例文帳に追加

セラミック基板１の上面の樹脂枠体２の下方の部位に樹脂枠体２の内側面がその開口上に位置する溝５が略全周にわたって形成されており、かつ溝５の内面の算術平均粗さＲａが０．０５〜０．４μｍである。 - 特許庁

The organic electroluminescent element is provided with a cathode, an organic light emitting layer and an anode laminated on the one surface side of a substrate, and the substrate is composed of an optical hardening resin and the surface roughness (Rz) of one plate face of the substrate is 1 to 50 nm.例文帳に追加

基板の一方の板面上に、陽極、有機発光層及び陰極が積層された有機電界発光素子であって、該基板は光硬化性樹脂よりなり、かつ、該基板の該一方の板面の表面粗さ（Ｒｚ）が１〜５０ｎｍである有機電界発光素子。 - 特許庁

In the surface light source 20, the surface 23a of the light diffusion plate 23 on the lamp box 22 side has an arithmetic average roughness RA of ≤1.0 μm and an irregular average interval RSm of ≤200 μm in a contact region with at least each of the spacer pins 25.例文帳に追加

面光源装置２０では、光拡散板２３のランプボックス２２側の表面２３ａにおいて、少なくとも各スペーサピン２５との接触領域の算術平均粗さＲａが１．０μｍ以下且つ凹凸の平均間隔ＲＳｍが２００μｍ以下である。 - 特許庁

The elastic body layer of the fixing roller is formed of solid rubber having rubber hardness (JIS A) of >1 to 20°, where 10-point average surface roughness (Rz) of a surface of the elastic material layer defined by JIS B 0601 is >1 to 20 μm.例文帳に追加

定着ローラの弾性体層はゴム硬度（ＪＩＳ Ａ）が２０°未満、１°超のソリッドゴムから形成されており、さらに該弾性体層の表面におけるＪＩＳ Ｂ ０６０１で定義されている十点平均表面粗さ（Ｒｚ）が、２０μｍ以下、１μｍ以上とすること。 - 特許庁

This patch preparation is produced by laminating an adhesive layer including medicines and the surface release film on a substrate in order wherein the average roughness (Rz) at 10 points on the surface on the side of the release film contacting with the adhesive is in the range of 0.15-0.35 μm.例文帳に追加

支持体上に薬物を含有する粘着剤層および離型フィルムが順次積層されてなる貼付製剤において、離型フィルムの粘着剤と接する側の表面の１０点平均粗さＲｚが０．１５〜０．３５μｍである貼付製剤とする。 - 特許庁

To implement an optical fiber which allows prescribed flatness and surface roughness to be obtained on an upstream light-reflecting surface of at least a notched part and is capable of achieving stabilization of a refractive index and improvement of mechanical strength of the notched part and to provide an optical power monitor which is inexpensive and can be miniaturized.例文帳に追加

少なくとも切欠き部の上流側光反射面に所定の平坦度や面粗さが得られ、また屈折率の安定と切欠き部の機械的強度の向上が得られる光ファイバーを実現し、安価で小型化が可能な光パワーモニターを提供する。 - 特許庁

In a ring member 11 for holding a conductor member 8 to a state mechanically bonded to an electrode terminal part 7 of a ceramic element 2 under pressure, the ring member is formed so that the arithmetic average roughness Ra of a holding pressure surface 11a becoming the pressure bonding surface of a joining unit 10 becomes small.例文帳に追加

導線部材８をセラミック素子２の電極端子部７に機械的に圧着させた状態に維持するリング部材１１において、結合ユニット１０との圧着面となる狭圧面１１ａの算術平均粗さＲａが小さくなるように形成される。 - 特許庁

In the thermal transfer material comprising a photothermal conversion layer and an image forming layer on a support, Smooster value of a surface of the forming layer is 2 mmHg or below, and a centerline mean surface roughness Ra is 0.03 to 0.2 μm.例文帳に追加

支持体上に光熱変換層と画像形成層とを有する熱転写材料において、前記画像形成層表面のスムースター値が２ｍｍＨｇ以下であり、かつ中心線平均表面粗さＲａが０．０３〜０．２μｍである熱転写材料。 - 特許庁

The differential value of the standard deviation in the image preliminarily acquired by photographing the minimum inferior place of the side surface of the plate-shaped target judged by visual observation is used as the reference value to avoid the noise due to the difference of surface roughness or reflectivity at every product.例文帳に追加

基準値として、予め、目視によって判断される板状体側面の最小不良箇所を撮像して得られた画像における標準偏差の差分値を用いることで、製品ごとの表面粗さや反射率の差によるノイズを回避する。 - 特許庁

Since a slight current also flows in the land part 11a of the workpiece 11 opposed to the recessed part 10b and a fine projection or the like is selectively removed, an effect of improving a surface roughness of the surface of the workpiece 11 can be also exhibited.例文帳に追加

また、凹部１０ｂに対向する被加工物１１の丘部１１ａにも微弱な電流が流れ、表面の微小な突起等が選択的に除去されることから、被加工物１１表面の面粗度を改善する効果も併せて奏することができる。 - 特許庁

To grind a superfinished surface having oil retaining parts by using a superfinishing grinding wheel to apply superfinish grinding to a finished face applied with finish grinding of a degree leaving bottoms of a profile curve showing surface roughness of the finished face applied with finish grinding by a finishing grinding wheel.例文帳に追加

仕上砥石車により仕上研削された仕上面の表面粗さを示す断面曲線の底部を残す程度に仕上研削された仕上面を超仕上砥石車により超仕上研削して、油溜りがある超仕上面を研削加工する。 - 特許庁

To make accurately judgeable the soundness of an inspection object regardless of the presence of an uneven lighting when the surface of the object which is to be inspected is lit for recognizing the presence of a shade so that the roughness on the surface of the object can be identified.例文帳に追加

検査対象物の表面を照明し、影の発生の有無を認識することで検査対象物表面の凹凸を認識して良否判定を行うに際し、「照明むら」の発生の有無に拘らず正確な良否判定が行えるようにする。 - 特許庁

In the light diffusion plate, at least one side of a light diffusion resin plate 6 containing a propylene resin is formed into a rough surface 6a having a ten point average roughness Rz of not less than 25.0 μm and a coating layer 3 containing an antistatic agent is formed on the rough surface.例文帳に追加

プロピレン樹脂を含有する光拡散性樹脂板６の少なくとも片面が、十点平均粗さＲｚが２５．０μｍ以上である粗面６ａに形成され、該粗面に、帯電防止剤を含有するコーティング層３が積層された構成とする。 - 特許庁

The surface cloth as a diffusion reflection layer is woven in the thickness of 150-200μm, for instance, by the density of about 100 threads/inch by using a thread where titanium oxide, a white pigment or a fluorescent dye are mixed, and surface roughness (SMD) by a KES method is set, for instance, 0.4-0.5 micron.例文帳に追加

拡散反射層としての表地は、酸化チタン、白色顔料または蛍光染料を練り込んだ糸を用い、例えば、約１００本／インチの密度で１５０〜２００μｍの厚みに製織したものであり、KES法による表面粗さ(SMD)が例えば０．４〜０．５micronである。 - 特許庁

The contact surface of the sheet member 10 to the semiconductor substrate 1 has such surface roughness as blocking introduction of steam molecules and intrusion of particles of specified particle size and contamination, in the range of temperature and pressure for processing the semiconductor substrate 1.例文帳に追加

シート状部材１０の半導体基板１との接触面は、半導体基板１を処理する温度及び圧力の範囲において、水蒸気分子を導入できかつ所定の粒径以上のパーティクル及びコンタミネーションの侵入を阻止する面粗さを有する。 - 特許庁

The inner surface of this process kit is coated with a first material layer having a smaller RMS surface roughness and is further subjected to a texturing by arc spraying a second material layer or additional material layer.例文帳に追加

プロセスキットの内部表面は、より小さいＲＭＳ表面粗さを有する第１の材料層によりその表面をコーティングされ、より大きいＲＭＳ値を有する第２の材料層若しくは追加の材料層によりアークスプレーすることによってテクスチャード加工される。 - 特許庁

The coverlay and a carrier are laminated, the coverlay includes an adhesive layer and a cover layer, and the surface of the adhesive layer in contact with the carrier has a surface roughness of 0.40 μm<Ra<1.20 μm, 5.00 μm<Rp, and 8.00 μm<Rz.例文帳に追加

また、カバーレイ及び担持体が積層されてなり、該カバーレイは接着層及びカバー層を含み、該接着層の、前記担持体と接する面が、０．４０μｍ＜Ｒa＜１．２０μｍ、５．００μｍ＜Ｒｐ、かつ、８．００μｍ＜Ｒｚの表面粗さを有するカバーレイ積層体である。 - 特許庁

The carbon black preferably has a DBP absorbed amount of 60-120 cm^3/100 g, a nitrogen absorption specific surface area of 50-400 m^2/g, an average particle diameter of 0.012-0.040 μm, and a surface roughness of the dry coating film of 0.2-2.0 μm.例文帳に追加

カーボンブラックが、ＤＢＰ吸収量が６０〜１２０ｃｍ^３／１００ｇ、窒素吸着比表面積が５０〜４００ｍ^２／ｇ、平均粒径０．０１２〜０．０４０μｍであるのが好ましく、乾燥塗膜の表面粗度が、０．２〜２．０μｍであることも好ましい。 - 特許庁

The optical compensation film includes an optical anisotropy layer having a liquid crystal composition fixed in an aligned state, wherein the optical anisotropy layer has a surface energy of not more than 27 mN/m and average surface roughness (Ra) of not more than 1.0 nm.例文帳に追加

液晶組成物を配向状態に固定してなる光学異方性層を含む光学補償フィルムであって、前記光学異方性層の表面エネルギーが２７ｍＮ／ｍ以下であり、表面平均粗さ（Ｒａ）が１．０ｎｍ以下である光学補償フィルムである。 - 特許庁

The surface has a topography specified by a core roughness depth S_k of less than 1 μm which can be manufactured by etching the surface.例文帳に追加

該歯科インプラントは、ジルコニアをベースとするセラミック材料、あるいはイットリア安定化ジルコニアであるセラミック材料製の歯科インプラントであって、表面をエッチングすることにより製造し得る１μｍ未満のコア粗さ深さＳ_kで特定されるトポグラフィーを有する表面であることを特徴とする。 - 特許庁

This cage 4 for holding a rolling element 3 for the rolling bearing is made metal, shot peening is applied onto at least a surface 5 of a sliding part with the rolling element 3, and the maximum roughness of the surface is 2.5 μm or less.例文帳に追加

転がり軸受用の転動体３を保持するための保持器４において、材料を金属とし、少なくとも前記転動体３との摺動部表面５にショットピーニング処理を施し、その表面の最大粗さが２．５μｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

In the ITO sputtering target consisting essentially of indium, tin and oxygen, the surface roughness (Ra) at the surface to be sputtered of the target is regulated to ≤0.1 μm and also the brittle fracture region per unit area is regulated to ≤10%.例文帳に追加

実質的にインジウム、スズおよび酸素からなるＩＴＯスパッタリングターゲットにおいて、前記ターゲットの被スパッタリング面における表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下でかつ単位面積当たりの脆性破壊領域が１０％以下であるＩＴＯスパッタリングターゲット - 特許庁

To simply form a uniform rough surface having a low degree of roughness that is required for an insulation resin by using an imprint method in a formation method of the insulation resin rough surface of a multilayer printed wiring board formed by alternately laminating conductor layers and insulation resin layers.例文帳に追加

導体層及び絶縁樹脂層が交互に積層されてなる多層プリント配線板の絶縁樹脂粗化面形成方法において、絶縁樹脂に求められる低粗度且つ均一な粗化面をインプリント法により簡便に形成することを目的とする。 - 特許庁

Energy-beam is irradiated on the surface of the target and a part of the target on which the energy-beam is irradiated is fused, and X-ray is generated from the target in a state that the roughness of the target surface caused by the irradiation of the energy-beam is eliminated.例文帳に追加

ターゲットの表面にエネルギー線を照射し、前記ターゲットの、前記エネルギー線の照射された部分を溶解させ、前記ターゲット表面の、前記エネルギー線照射に起因した荒れを消去した状態で前記ターゲットよりＸ線を発生させる。 - 特許庁

The biaxially oriented polyarylene sulfide film is substantially composed of only polyarylene sulfide resin (A) and particles (B), wherein the surface average central line roughness (SRa) on at least one surface of the biaxially oriented polyarylene sulfide film is 100 nm or more.例文帳に追加

実質的にポリアリーレンスルフィド樹脂（Ａ）と粒子（Ｂ）のみからなる二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムであり、該二軸延伸フィルムの少なくとも片表面の表面平均中心線粗さ（ＳＲａ）が１００ｎｍ以上である離型用二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルム。 - 特許庁

Assuming that the radius of the wall particle is defined as r_w and the surface roughness is defined as ζ, a distance P between the centers of the mutually adjoining wall particles is determined, and the surface unevenness of the wall is represented by defining the wall particles by the determined distance P.例文帳に追加

壁用粒子の半径ｒ_wと表面粗さζとを設定することにより、相互に隣接する壁用粒子の中心の間の距離Ｐを決定し、決定した距離Ｐで壁用粒子を設定することにより、壁の表面の凹凸を表現する。 - 特許庁

In this golf club head 1, a rough surface part 9 coated with a coating layer 7 formed by gas phase coating and having a 10-point average roughness Rz of 0.6-35 μm is formed on at least a part of a face surface 2 for striking a ball.例文帳に追加

ボールを打撃するフェース面２の少なくとも一部に、気相コーティングによって形成されたコーティング層７により被覆されかつ十点平均粗さＲｚが０．６〜３５μｍである粗面部９を具えることを特徴とするゴルフクラブヘッド１である。 - 特許庁

To provide a method for processing metal using a numerically controlled machine tool into a processed face with required mechanical characteristics, surface roughness, residual stress and surface hardness by setting a tool for cutting the processed face of a workpiece and cutting conditions.例文帳に追加

数値制御工作機械を使用し金属を加工する際に、加工物の加工面を切削する工具や切削条件を設定することで、加工面の機械的特性、表面あらさ、残留応力、表面硬さを要求する加工面に加工する方法を提供する。 - 特許庁

This polyolefin-based film has a surface roughness Ra of at least one surface of 0.15 or more, an in-plane phase difference before elongation R0 of 300 nm or less, and a ratio of R0 to an in-plane phase difference after 25% elongation R25, R25/R0 of 1.50 or less.例文帳に追加

ポリオレフィン系フィルムを、少なくとも片面の表面粗度Ｒａが０．１５以上であり、伸張前の面内位相差Ｒ_０が３００ｎｍ以下、２５％伸張後の面内位相差Ｒ_２５とＲ_０との比Ｒ_２５／Ｒ_０が１．５０以下のフィルムとする。 - 特許庁

Semispherical bodies of 5-50 μm are spread all over the surface of a cathode in the zero-gap electrolytic cell, and the activating cathode having 1-10 μm arithmetic surface roughness Ra according to JIS B-0601 is appropriately used.例文帳に追加

ゼロ・ギャップ電解槽において、陰極の表面形状が５〜５０μｍの半球状物を敷き詰めた形状であり、好適にはＪＩＳ Ｂ−０６０１で規定する算術表面粗さＲａ値が１〜１０μｍの活性化陰極を用いることを特徴とする。 - 特許庁

As for this developing roller, ruggedness is formed on its surface layer to carry the developer and the surface roughness Rz is formed within the range of average particle diameter of the developer D-4 (μm)≤Rz≤ the average particle diameter of the developer D+4 (μm).例文帳に追加

、現像剤を担持する表面層に凹凸が形成され、この表面粗さＲｚが、現像剤の平均粒子径Ｄ−４（μｍ）≦Ｒｚ≦現像剤の平均粒子径Ｄ＋４（μｍ）の範囲に形成されていることを特徴とする現像ローラを解決手段とする。 - 特許庁

This polyester film is characterized that the central surface average roughness (SRa) of one side of the film is ≤0.020μm, preferably ≤0.015μm, and the surface oligomer content of at least side of the film is ≤2.1 mg/m^2, after the film is thermally treated at 180°C for 10 min.例文帳に追加

一方の面の中心面平均粗さ（ＳＲａ）が０．０２０μｍ以下、好ましくは０．０１５μｍ以下であり、１８０℃で１０分間加熱処理した後の少なくとも片面のフィルム表面オリゴマー量が２．１ｍｇ／^２以下であることを特徴とするポリエステルフィルム。 - 特許庁

The insulating base board of the organic EL element includes a base material made from a metal plate or metal foil, where an insulating layer made of an organic resin having a thickness of 1-40 μm and a surface roughness of Ra≤0.5 μm and Rmax≤1.5 μm is formed on the surface of the base material.例文帳に追加

この有機ＥＬ素子用絶縁基板は、金属板または金属箔を基材とし、有機系樹脂からなる膜厚１〜４０μｍ、表面粗さがＲａ≦０．５μｍ、Ｒｍａｘ≦１．５μｍの絶縁層を基材表面に形成したことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a flaw inspection device capable of suppressing the influence of scattered light from the roughness of a sample surface and a normal circuit pattern, and detecting a flaw or the like of the sample surface at high sensitivity by increasing the gain of the scattered light from the flaw or a foreign substance.例文帳に追加

試料表面の面粗さや正常な回路パターンからの散乱光の影響を抑制し、かつ、欠陥や異物からの散乱光の利得を高くして、高感度に試料表面の欠陥等を検出することが可能な欠陥検査装置を実現する。 - 特許庁

In a doughnut shaped glass substrate, arithmetic average roughness Ra of the chamfered area and the side surface area of the internal circumferential surface is ranged from 0.05 to 1 μm, the maximum height Ry of the areas is ranged from 0.5 to 15 μm, and developed length ratio Lr of the areas is 1.006 or more.例文帳に追加

ドーナツ形状のガラス基板において、内周面の面取部および側面部の算術平均粗さＲａが０．０５〜１μｍ、かつ、それらの最大高さＲｙが０．５〜１５μｍあり、さらに、それらの展開長さ比Ｌｒが１．００６以上である。 - 特許庁

After that, roller vanishing working is applied on the surface of the raceway 1c, its average roughness Ra of the center line is made to be ≤0.25 μm, and the residual compressive stress at the depth at least 0.2 mm from the surface of the raceway part 1c is made to be ≥1,000 MPa.例文帳に追加

その後、当該軌道部１ｃの表面にローラバニシング加工を施して、その中心線平均粗さＲａを０．２５μｍ以下、軌道部１ｃの表面から少なくとも０．２ｍｍの深さの残留圧縮応力を１０００ＭＰａ以上にする。 - 特許庁

An electron beam passing hole 244 in a shadow mask 241 has a small dimension T of a boundary portion 244B between a large hole 244L and a small hole 244S, and has small surface roughness of an internal surface, to thereby set a nonuniformity index showing uniformity on the fluorescent screen to 7% or lower.例文帳に追加

シャドウマスク２４１の電子ビ−ム通過孔２４４の大孔２４４Ｌと小孔２４４Ｓとの境界部２４４Ｂの寸法Ｔを小さくすると共に、内表面の表面粗さを小さくして蛍光面の均一性を表すむら指数を７％以下にした。 - 特許庁

To provide a textured silicon substrate for a magnetic recording disk having a magnetic film that can obtain magnetic anisotropy on the magnetic recording layer while securing the flying stability of the head and which can realize high density recording by controlling the surface roughness of the substrate surface by texturing.例文帳に追加

本発明は、テクスチャリングによって基板面の面粗度（ラフネス）をコントロールし、ヘッド浮上安定性を確保しつつ、磁気記録膜に磁気異方性が得られ、高記録密度が達成できる磁性膜を有する磁気ディスク用テクスチャー入りシリコン基板を提供する。 - 特許庁

The atomizing grooves 21 have a depth in a range of 0.05 to 1.0 mm, an arrangement pitch in a range of 0.05 to 1.0 mm in the most inner circumferential side, and the surface roughness Rz in a range of 100 μm or lower in the surface of the atomizing grooves 21.例文帳に追加

霧化溝２１は，その深さが０．０５〜１．０ｍｍの範囲内にあると共に，最も内周側における配設ピッチが０．０５〜１．０ｍｍの範囲内にあり，かつ，霧化溝２１の表面は，表面粗さＲｚが１００μｍ以下の範囲内にある。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a resin product easy to form a film member having predetermined surface roughness to the surface of a resin body having every shape like a reflecting cup body in a close contact state without applying special processing to a mold itself.例文帳に追加

金型自体に特別な加工を施すことなく、所定の面粗度を有したフィルム部材を反射カップ体のような様々な形状の樹脂体の表面に密着させて形成することが容易な樹脂製品の製造方法を提供することである。 - 特許庁