「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(73ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a combined evaluation system for a surface, having a comparatively simple device structure, inexpensive, and capable of simultaneously measure a corpuscle of a nanometer order, a scratch, and micro-roughness of sub-nanometer order on an ultra-precisely processed surface such as a Si wafer, by a light scattering method.例文帳に追加

光散乱法によってＳｉウエハ等の超精密加工面のナノメータオーダの微粒子、スクラッチ、サブナノメータオーダのマイクロラフネスを同時に短時間で測定でき、装置構造も比較的簡単で安価である光散乱法による表面の複合評価システムを提供する。 - 特許庁

A releasing treatment for decreasing surface roughness and enhancing smoothness is conducted to at least a surface finishing portion 13 of a contact portion in the melt-cutting blade 12 of the melt-cut sealing portion 11 heated at a predetermined temperature by a heater 14 with the predetermined film material 21 to be melt-cut.例文帳に追加

ヒータ１４で所定温度に加熱された溶断シール部１１の溶断シール刃１２における少なくとも溶断シール対象の所定のフィルム材２１と当接する部分の表面仕上部１３の表面粗さを小として平滑性を上げる離型処理を施す構成とする。 - 特許庁

The base material 11 used for the electrophotographic device 10 having the resolution ≥600 dpi comprises an aluminum alloy, and the length L, maximum surface roughness Rmax, and average run-out X of the substrate surface 11 satisfy following three equations; L>320 (mm), Rmax≤1.5 μm, and X≤20/Y (mm).例文帳に追加

本発明は、解像度Ｙが６００ｄｐｉ以上の電子写真装置１０に用いる基材１１で、基材１１がアルミニウム合金からなり、長さＬ、最大表面粗さＲｍａｘおよび平均振れＸが下記３式Ｌ＞３２０（ｍｍ）、Ｒｍａｘ≦１．５μｍ、Ｘ≦２０／Ｙ（ｍｍ）を満たす。 - 特許庁

In the method for manufacturing the lenticular lens sheet with black stripes, the black stripes are formed by using a squeezer constituted such that the surface roughness (Ry) of two surfaces constituting tangent lines coming into contact with the lenticular lens sheet may be ≤10 μm and the surface waviness may be ≤50 μm.例文帳に追加

ブラックストライプを有するレンチキュラーレンズシートの製造方法において、レンチキュラーレンズシートに接する接線を構成する二つの面の表面粗さ（Ｒｙ）が１０μｍ以下、表面うねりが５０μｍ以下であるスキージを用いてブラックストライプを形成するレンチキュラーレンズシートの製造方法。 - 特許庁

The polyester film for in-mold molding is characterized in that it has an elongation at break at 100°C of 200-600%, a rupture stress of 3-30 MPa, a stress in 100% elongation of 2-20 MPa, and a center line average surface roughness (Ra) of at least one surface of 20 nm or less.例文帳に追加

１００℃における破断伸度が２００〜６００％、破断応力が３〜３０ＭＰａ、１００％伸長時応力が２〜２０ＭＰａであり、少なくとも片方の面の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）が２０ｎｍ以下であることを特徴とするインモールド成形用ポリエステルフィルム。 - 特許庁

The laminated sheet is made by laminating one or more thermoplastic resin layers on at least one surface of a paper substrate having a surface roughness Rz of 5.0 μm or lower, and has image clarity of 50 % or higher measured according to JIS K-7150.例文帳に追加

少なくとも一方の面の表面粗さＲｚが５．０μｍ以下である紙基材の少なくとも前記表面粗さを有する面上に、熱可塑性樹脂からなる１以上の層が積層され、かつＪＩＳ Ｋ-７１５０に準じた測定法による写像性が５０％以上である積層シート。 - 特許庁

To provide backing paper for wallpaper, which slightly causes fluff in coating with a vinyl chloride paste, etc., or a drying process after the coating, controls interlaminar strength low so as to secure peeling suitability in peeling wallpaper from a wall surface and does not cause blister-like surface roughness.例文帳に追加

塩化ビニルペースト等の塗工時、或いはその後の乾燥工程において毛羽立ちの発生が少なく、壁面から壁紙を剥離する際のピール適性を確保するために層間強度を低めにコントロールすることが可能であり、ブリスター状の面荒れが発生しない壁紙裏打ち紙を提供する - 特許庁

The dispensing pipe, which performs at least either one of the suction and discharge of a liquid is equipped with a straight pipe part arranged so as to become narrow parallelly and stepwise in its inner diameter along the center axis line regulating the surface roughness ratio of its inner surface and the contracted diameter part for joining the straight pipe part.例文帳に追加

液体の吸引または吐出の少なくともいずれかを行う分注管において、内面の表面粗さ比を規定した中心軸線が平行、かつ、段階的に内径が狭くなるように配設された直管部と、該直管部を接合する縮径部とを備える。 - 特許庁

To provide a thermally conductive sheet in which the thermal resistance is reduced on the interface because surface roughness of a cut surface is small, and which is used suitably while being held between various heat sources and a heat dissipation member, and to provide a method of producing a thermally conductive sheet.例文帳に追加

切断面の表面粗さが小さいので界面での熱抵抗が低くなり、厚み方向の熱伝導性が高いので、各種熱源と放熱部材との間に挟持させて好適に用いられる熱導電性シート及び熱伝導性シートの製造方法の提供。 - 特許庁

A probe having 5-40 nm of tip curvature radius is brought in contact with a surface of the organic ion crystal, and the two-dimensional scanning is performed while applying the pressure at 5-300 nN to the probe, and grinding is performed till the center line surface roughness (Ra) ≤5 nm and the maximum height (Rmax) at 50 nm are obtained.例文帳に追加

有機イオン結晶表面に、先端曲率半径５〜４０ｎｍの探針を接触させ、この探針に５〜３００ｎＮの圧力を印加しながら二次元的に走査し、中心線表面粗さ（Ｒａ）５ｎｍ以下及び最大高さ（Ｒｍａｘ）５０ｎｍ以下になるまで研削する。 - 特許庁

The resin sheet has a resin cured layer containing a cloth like material made of a glass fiber and a overcoat layer laminated on the surface of the resin cured layer so that surface roughness Rt becomes 200 nm or below and is constituted so that a haze value becomes 10% or below.例文帳に追加

ガラス繊維製布状体を含む樹脂硬化層と、表面粗さＲｔが２００ｎｍ以下となるように該樹脂硬化層の表面に積層されたオーバーコート層とを備え、さらにヘイズ値が１０％以下となるように構成されたことを特徴とする樹脂シートによる。 - 特許庁

This a prosthetic bearing component composes of a compound synthetic plastic material made of a injection molded thermoplastic polymer material reinforced by the pitch base carbon fivers and having a supporting surface with surface roughness having a value less than R_a 2 micron.例文帳に追加

ピッチベース炭素繊維により強化された射出成形熱可塑性重合体母材を含んで成り、Ｒ_a２ミクロンより少ない値を有する表面粗さで機械加工された支承表面を有する複合合成プラスチック材料から形成された人工装具支承構成要素。 - 特許庁

To effectively remove a residual pollutant from a wafer surface and make the surface roughness of a semiconductor wafer having copper favorable by bringing an aqueous cleaning composition into contact with a semiconductor wafer having copper after treatment by chemical mechanical planarization for an effective time.例文帳に追加

化学機械平坦化処理後の、銅を有する半導体ウェハーに該水性洗浄組成物を有効時間接触させることにより、ウェハー表面から残留汚染物を効果的に除去すると共に銅を有する半導体ウェハーの表面粗さを良好なものとする。 - 特許庁

For offset printing without repeating, the offset printing form plate which can be rewritten and erased, has a seamless surface and all surface of the offset printing form plate which can be rewritten and erased is made to have a specific roughness conformed to the offset printing.例文帳に追加

レピートなしのオフセット印刷のために、書換え可能及び消去可能なオフセット印刷版が、シームレスの表面を有しており、書換え可能及び消去可能な前記オフセット印刷版の全表面が、オフセット印刷に適合された所定の粗さを有しているようにした。 - 特許庁

(1) The leader tape has 10 to 60 nm center line average surface roughness (Ra) on at least one surface thereof, ≤20 ppm/°C temperature expansion coefficient in lateral and longitudinal directions and ≤20 ppm/%RH humidity expansion coefficient in lateral and longitudinal directions.例文帳に追加

１）少なくとも一方の面の中心線平均粗さ（Ra）が１０〜６０ｎｍであり、幅方向および長手方向の温度膨張係数が２０ｐｐｍ／℃以下であり、かつ、幅方向および長手方向の湿度膨張係数が２０ｐｐｍ／％RH以下であることを特徴とするリーダーテープ。 - 特許庁

In the golf club head 1, at least a part of a face surface 2 striking a ball has a coarse surface 7 comprising an Al-SiC based composite material produced by compounding silicon carbide to be dispersed into aluminum or an aluminum alloy and with a ten-point average roughness Rz of 0.6 to 35 μm.例文帳に追加

ボールを打撃するフェース面２の少なくとも一部に、アルミニウム又はアルミニウム合金中に炭化珪素を分散して複合したＡｌ−ＳｉＣ系複合材からなりかつ十点平均粗さＲｚが０．６〜３５μｍである粗面部７を具えることを特徴とするゴルフクラブヘッド１である。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an SiC single crystal substrate capable of obtaining a (000-1) carbon plane having more excellent surface roughness by reducing processing scratches in polishing the (000-1) carbon plane of the SiC single crystal substrate and reducing adhering substances on the surface after finish polishing.例文帳に追加

ＳｉＣ単結晶基板の（０００−１）カーボン面の研磨加工において加工傷を減少させ、かつ仕上げ研磨後の表面付着物を減少させて、より良好な表面粗さをもつ（０００−１）カーボン面を得られるＳｉＣ単結晶基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method includes a process where a molded form is obtained by press-molding metal particles of a predetermined composition in a magnetic field, and a process where the molded form is sintered in a state that it is held in a sintering container whose area above 50% of an outside surface has a surface roughness Ra below 1.0 μm.例文帳に追加

所定組成の金属粉末を磁場中にて加圧成形して成形体を得る工程と、その外表面の５０％以上の領域が１．０μｍ以下の表面粗度Ｒａを有する焼結容器内に成形体を収容した状態で焼結する工程と、を備える。 - 特許庁

To provide a thermoplastic resin composition which has surface appearance drastically improved in weld line, flow mark, pearl gloss, surface roughness or the like and is excellent in impact resistance and heat resistance, and excellent also in flame retardance as a preferable embodiment, to provide a method for producing the same, and to provide a molded article obtained from the composition.例文帳に追加

ウエルドライン、フローマーク、真珠光沢、表面荒れ等が大幅に改善された表面外観を有し、かつ耐衝撃性、耐熱性に優れ、好ましい態様としては難燃性にも優れる熱可塑性樹脂組成物およびその製造方法、それらからなる成形品を提供するものである。 - 特許庁

The production method comprises a step of working to form a surface roughness Ra of 5 μm or less on a spatter face 6 of a target 5 and a step of forming a film 4 on the surface of a preform 2 by a spattering method using the target 5.例文帳に追加

光学素子成形用金型１の製造方法であって、ターゲット５のスパッタ面６の表面粗さＲａを５μｍ以下に加工する工程と、前記ターゲット５を用いて、スパッタ法により母材２の表面に被膜４を形成する工程とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

In the golf club head 1, a rough-surfaced area 7, which is composed of a copper composite material M wherein an intermetallic compound is uniformly dispersed in a copper alloy matrix, and which has a ten-point average surface roughness Rz of 0.6-35 μm, is provided in at least a portion of a face surface 2 for hitting a ball.例文帳に追加

ボールを打撃するフェース面２の少なくとも一部に、銅合金マトリックス中に金属間化合物を均一に分散した銅系複合材Ｍからなりかつ十点平均粗さＲｚが０．６〜３５μｍである粗面部７を具えることを特徴とするゴルフクラブヘッド１である。 - 特許庁

The metal material member, that has improved anchor effects on the deposition silicon and corrosion resistance to the halogen etching gas, by machining the surface of a metal material to appropriate surface roughness, and the film-forming device is composed by selecting an optimum material according to the temperature environment of the film-forming device.例文帳に追加

金属材料の表面を適正な表面粗さに加工することにより、析出シリコンに対する良好なアンカー効果とハロゲンエッチングガスに対する耐食性を兼ね備えた金属材料部材とし、成膜装置の温度環境に応じて最適な材質を選択して成膜装置を構成する。 - 特許庁

In the squeezing roller used for cold-rolling mills for metallic foils, this roller is the squeezing roller on the surface of which a hard layer is formed and the average roughness Ra of the surface of the hard layer is taken as within the range of 0.1±0.03 μm and this hard layer is formed with a thermally sprayed layer containing tungsten carbide.例文帳に追加

金属箔の冷間圧延機に使用するスクイジングローラにおいて、表面に硬質層が形成され、前記硬質層の表面の平均粗さＲａを０．１±０．０３μｍの範囲にしたスクイジングローラであり、この硬質層は炭化タングステンを含む溶射層で形成する。 - 特許庁

In the through hole, ruggedness of a surface roughness of 30% or more of a wall surface of the through hole has 1/20 or more of high and low differences of an average diameter of conductor particles included in the filled and solidified conductor, and its pitch is more than the average diameter of the conductor particles.例文帳に追加

そのスルーホールは、スルーホール壁面の３０％以上においてその面粗さの凹凸が、充填固化した導体が含んでいる導体粒子の平均直径の１／２０以上の高低差を持つとともにそのピッチが導体粒子の平均直径以上である。 - 特許庁

To provide a development device for image formation which will not deteriorate the charging properties of toner by preventing field concentration due to surface roughness, is free from filming phenomenon on the surface of a toner bearing member, even on a long-term basis, and is superior in toner transport properties, as well as in image uniformity.例文帳に追加

表面凸凹に起因する電界集中の発生を防止することにより、トナーの帯電性を低下させず、長期的にもトナー坦持体表面のフィルミング現象がなく、画像均一性に優れると共にトナー搬送性に優れる画像形成用現像装置を提供する。 - 特許庁

The resin molded body having the metal toned surface with interference colors is obtained by forming a transparent metallic thin film with a thickness of 0.1 to 0.4 μm on the smooth surface whose center line average roughness (Ra) is ≤1 μm of a resin molded body base material.例文帳に追加

中心線平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ以下である平滑表面を有する樹脂成形体基材の前記平滑表面に厚み０．１〜０．４μｍの透明性金属薄膜を形成することにより得られる干渉色金属調表面を備えた樹脂成形体を用いる。 - 特許庁

This sanitary ware has a glaze layer composed of one layer formed on the sanitary ware base, as a sole glaze layer, where the glaze layer is mainly composed of amorphous phase-separated glass, and the surface roughness Ra of the glaze layer surface is 0.07 μm or less.例文帳に追加

衛生陶器素地上に形成された１層からなる釉薬層を、唯一の釉薬層として有する衛生陶器であって、前記釉薬層が、主として、非晶質の分相ガラスからなり、前記釉薬層表面の表面粗さＲａが、０．０７μｍ以下であることを特徴とする衛生陶器とする。 - 特許庁

In the surface acoustic wave device in an electronic part (e.g., a SAW device 10) housed in a package having a stem 1a in the state that a SAW element chip 110 is in a face-up state, the average roughness Ra_10 of the surface of a wire bonded electrode pad 4 is set to 0.1 to 0.4 μm.例文帳に追加

ＳＡＷ素子チップ１１０がフェイスアップ状態でステム１ａよりなるパッケージ内部に収納された電子部品（例えばＳＡＷデバイス１０）において、ワイヤボンディングされる電極パッド４表面の平均的な荒さＲａ_10を０．１μｍ以上で且つ０．４μｍ以下とする。 - 特許庁

The copper film formed by electrodeposition in the cupric electrolyte solution has a profile with such a low surface roughness (Rzjis) as less than 1.0 μm and a glossiness [Gs (60°)] of 400 or higher on the surface in a deposition side.例文帳に追加

この銅電解液を用いて電析銅皮膜を形成することにより、その析出面側の表面粗さ（Ｒｚｊｉｓ）が１．０μｍ未満の低プロファイルであり、且つ、当該析出面の光沢度［Ｇｓ（６０°）］が４００以上であることを特徴とする電析銅皮膜が得られる。 - 特許庁

In the magnetic recording medium 10, a non-magnetic material 16 is filled in a concave part 14 between recording elements 12A, allowing the surface to have an irregular shape being different from the irregular pattern of a recording layer 12, also, arithmetic average roughness of the irregular shape of the surface is restricted to 1 nm or less.例文帳に追加

磁気記録媒体１０は、記録要素１２Ａの間の凹部１４に非磁性材１６が充填されて表面が記録層１２の凹凸パターンと異なる凹凸形状とされ、且つ、該表面の凹凸形状の算術平均粗さが１ｎｍ以下に制限されている。 - 特許庁

A high quality wafer includes Al_xGa_yIn_zN (in the formula, 0<y≤1 and x+y+z=1) characterized by the root square average surface roughness of less than 1 nm in an area of 10×10 μm^2 on the Ga side of the wafer.例文帳に追加

ウェーハのＧａ側における１０×１０μｍ^2面積内で１ｎｍ未満の根二乗平均表面粗さを特徴とする、Ａｌ_xＧａ_yＩｎ_zＮ（式中、０＜ｙ≦１およびｘ＋ｙ＋ｚ＝１）を含む高品質ウェーハ。 - 特許庁

A printed circuit board contains a constituting element of a conductor circuit including at least a copper and non-electrolyzed gold plating which touches an insulating layer so that the surface roughness (Rz) of the insulating layer is 2.0 μm or less.例文帳に追加

導体回路の構成要素が絶縁層に接した銅と無電解金めっきを少なくとも含み、絶縁層の表面粗さ（Ｒｚ）が2.0μｍ以下であることを特徴とするプリント配線板を提供する。 - 特許庁

The polycrystalline granulated silicon is made of particles which have a density of greater than 99.9% of the theoretical solid density and therefore have a pore content of less than 0.1% and have a surface roughness R_a of less than 150 nm.例文帳に追加

密度が理論的真密度の９９.９％より大きく、こうして孔の割合は０.１％より小さく、表面粗度Ｒ_ａは１５０ｎｍより小さい粒子からなることを特徴とする、多結晶シリコン顆粒。 - 特許庁

To provide a patterned medium which has a satisfactory embedded shape and low surface roughness Ra and wherein irregularity of a magnetic body is embedded in a non-magnetic embedding layer in which production of process dust can be suppressed during film-deposition.例文帳に追加

埋め込み形状が良好で、表面粗さＲａが小さく、成膜時にプロセスダストの発生を抑えることができる非磁性埋め込み層で磁性体の凹凸が埋め込まれたパターンド媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a band saw which can smoothly perform discharge of chips or supply of polishing liquid, obtains excellent cutting sharpness, reduces machining damage to a workpiece, and obtains excellent surface roughness.例文帳に追加

切り粉の排出や研削液の供給を円滑に行うことが可能であり、良好な切れ味が得られると共に、被削材に対する加工ダメージが小さく、良好な面粗さが得られるバンドソーを提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing anneal wafers, in which a plurality of wafers manufactured in one batch all have surface roughness such that there is no influence on subsequent processes when cleaned with a cleaning liquid of one composition.例文帳に追加

１バッチで製造される複数のウェハを１つの組成の洗浄液で洗浄したときに、全てのウェハの表面粗さを後工程に影響を及ぼさないレベルにすることが可能なアニールウェハの製造方法の提供。 - 特許庁

To obtain a polyolefin-based resin composition retaining its excellent mechanical properties, having low extruding load in injection, hardly causing surface roughness and deterioration and excellent in hue of molds.例文帳に追加

ポリオレフィン系樹脂の優れた機械的性質を保ちつつ、成形時の押出負荷が低く、表面荒れ及び劣化が起こり難く、さらに成形品にした場合の色相にも優れるポリオレフィン系樹脂組成物の開発。 - 特許庁

The surface roughness in a covered region covered with a negative electrode active material layer 23 and in the exposed region other than the covered region out of the negative electrode current collector 22 is 2.0-10.0 μm in an Rz value.例文帳に追加

したがって、負極集電体２２のうち、負極活物質層２３によって覆われる被覆領域およびそれ以外の露出領域における表面粗さは、Ｒｚ値で２．０μｍ以上１０．０μｍ以下である。 - 特許庁

To provide a method for producing a mold for molding an optical element on which a hard carbonaceous film is formed as a releasing layer with good adhesion and furthermore having high smoothness by the improvement of its surface roughness.例文帳に追加

離型層として形成される硬質炭素膜を型材に密着力良く形成し、更に表面粗さを改善し平滑性の高い光学素子成形用型材の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for coating a sheet convey roller increasing the amount of a coating material adhering to a material to be coated, keeping the uniformity of coating, keeping an outer diameter constant and having proper surface roughness.例文帳に追加

被塗装材上に付着する塗装材の量が多く、塗装の均一性を維持し、外径を一定に保ち、さらに適度な表面粗さを有するシート搬送ローラの塗装装置および塗装方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composite tubular body which has an outermost fluororesin layer of specified surface roughness as regards the pressure belt of a fixing device, hardly causes slip and paper wrinkle, has excellent wear resistance, and is best suited to the fixing device.例文帳に追加

定着装置の加圧ベルトにおいて、最外フッ素樹脂層が所定の表面粗度を持ち、スリップや紙シワの発生が少なく、耐摩耗性の優れ定着装置に最適の複合管状物を提供する。 - 特許庁

When the surface roughness of the body 1 to be stuck is small, by heating the thermosensitive adhesive layer 2a with a small heat energy, the viscosity of the adhesive is made high to prevent the thermosensitive adhesive sheet 2 from slipping and releasing.例文帳に追加

被着体１の表面粗さが小さい時には、小さな熱エネルギーで感熱性粘着剤層２ａを加熱することにより、粘着剤の粘性を高くして、感熱性粘着シート２が滑って剥がれることを防ぐ。 - 特許庁

By changing the surface roughness and width of the separation plates 19 in accordance with the distance between the paper feeding roller 15 and the separation plates 19, stable paper feed not causing overlapped feed and no feed can be performed regardless of the sheet loading amount.例文帳に追加

分離板１９の表面粗さ、幅を給紙ローラ１５と分離板１９の距離に対応して変化させることでシートの積載量によらず重送や不送が起こらない安定した給紙ができる。 - 特許庁

This brazing filler metal consists of a composition containing 10 to 30 wt.% Sn and consisting of the balance inevitable impurities and its surface roughness Ra stipulated in JIS B-0601 is in a range from 0.01 to 5 μm.例文帳に追加

Ｓｎ：１０〜３０重量％を含有し、残りがＡｕおよび不可避不純物からなる組成を有し、ＪＩＳＢ０６０１で規定される表面粗さＲａが０．０１〜５μｍの範囲内にあることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an image-forming apparatus capable of suppressing an increase in surface roughness of an intermediate transfer belt, and suppressing occurrence of image defects sufficiently for a long period of time, even when using the intermediate transfer belt having a hard layer.例文帳に追加

硬質層を有する中間転写ベルトを用いても、中間転写ベルトの表面粗さの増大が抑制され、長期にわたって画像不良の発生を十分に抑制する画像形成装置を提供すること。 - 特許庁