「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(77ページ目) - Weblio英語例文検索

The material to be plated has a layer (A) to be electroless-plated thereon, which has the surface roughness less than 0.5 μm by arithmetical mean roughness Ra measured at a cutoff value of 0.002 mm; shows an adhesion of 1.0 N/25 mm or less, when measured by a 90 degrees peeling test; and contains a polyimide resin having a specific structure.例文帳に追加

無電解めっきを施す層Ａを有し、且つ該層Ａの表面粗さが、カットオフ値０．００２ｍｍで測定した算術平均粗さＲａで０．５μｍ未満であり、且つ該層Ａの９０度引き剥がし粘着力が１．０Ｎ／２５ｍｍ以下であり、且つ該層Ａが特定の構造を有するポリイミド樹脂を含有することを特徴とするめっき用材料よって上記課題を解決しうる。 - 特許庁

In the electrophotographic recording sheet and the image forming apparatus in which high glossiness is imparted to an output image by using an electrophotographic recording sheet comprising a base layer and a transparent resin layer, a surface roughness of the electrophotographic recording sheet has a ten-point average roughness Rz 3-16 times as large as an average particle diameter of a toner used in the image forming apparatus.例文帳に追加

ベース層と透明樹脂層を有する電子写真用記録シートを用いて、出力画像に高光沢性を持たせる電子写真用記録シート及び画像形成装置において、該電子写真用記録シートの表面粗さが該画像形成装置で用いるトナーの平均粒径に対して３個分以上、１６個分以下の十点平均粗さＲｚを有することを特徴とする。 - 特許庁

A recess-projection having an average interval Sm of the recess-projection of 50 to 700 μm and having ten-point average roughness Rz of 20 to 60 μm, is formed on the inner surface of the drainage ditch 2, and its projection part is formed as a large projection 4.例文帳に追加

排水溝２の内面に凹凸の平均間隔Ｓｍが５０乃至７００μｍとなると共に十点平均粗さＲｚが２０乃至６０μｍとなる凹凸を形成してその凸部分を大突起４とする。 - 特許庁

The shape is straightened by furthermore performing skin pass rolling at the draft of ≤0.5% by taking the work rolls at the final stand as the rolls having the surface roughness Ra of ≤1.0 μm after rolling a steel sheet into the final thickness of ≤0.1 mm.例文帳に追加

板厚０．１ｍｍ以下の最終板厚に圧延した後、さらに最終スタンドのワークロールを表面粗さＲａ：１．０μｍ以下のロールとし、圧下率０．５％以下のスキンパス圧延を行うことにより形状を矯正する。 - 特許庁

To provide a method capable of easily discriminating foreign matters or fine unevenness on the surface of a sample and a change in a structure or a composition, over a wide range and in a short time and is capable of evaluating roughness (microroughness) having a minute cycle.例文帳に追加

試料表面上の異物や微細な凹凸、構造や組成の変化を、広い範囲にわたって、短時間かつ容易に識別でき、微小周期を有する粗さ（マイクロラフネス）を、高精度に評価できる方法を提供。 - 特許庁

The conductive roll 10 is constituted by laminating an elastic layer 12, an intermediate layer 14 including roughness formation particles 18, and a surface layer 16 on the outer periphery of a shaft body in this order.例文帳に追加

軸体の外周に、弾性層１２と、粗さ形成用粒子１８を含む中間層１４と、表層１６とが順に積層され、φ≦２０、ｔ１≧３、ｔ１＋ｔ２＜１／２×φ、２≦Ａｐ／φ≦３．５を満たす導電性ロール１０とする。 - 特許庁

This graphite electrode for the electric discharge machining composed of isotropic graphite, is characterized in that bulk density is set to 1.75 g/cm^3 or more, the electrode consumption ratio is set to 40 % or less, and surface roughness Ry of a workpiece is set to 20 μm or less.例文帳に追加

嵩密度が１．７５ｇ／ｃｍ^3 以上、電極消耗比が４０％以下、被加工物の表面粗さ（Ｒｙ）が２０μｍ以下であることを特徴とする等方性黒鉛からなる放電加工用黒鉛電極。 - 特許庁

To provide a tripod constant velocity universal joint having a trunnion journal, which is inexpensively manufactured with small adverse effects on an environment and with high productivity by a simple device, and also is excellent in dimensional accuracy and surface roughness.例文帳に追加

環境への悪影響が少なく、高い生産性かつ低コストで簡易な装置により製造可能であると共に寸法精度及び表面粗さの良好なトラニオン・ジャーナルを有するトリポード型等速自在継手を提供すること。 - 特許庁

To provide a shot peening processing method capable of giving high residual compressive stress even to metallic material having high hardness, and easily decreasing the surface roughness of a processed artricle, and to provide the processed article by using the shot peening processing.例文帳に追加

高硬度の金属素材においても高い残留圧縮応力を付与すると共に、被処理品表面粗さを小さくすることを容易に得ることができるショットピ−ニング処理方法、及び、それを用いた被処理品を提供する。 - 特許庁

A cushioning layer of 107-108 dyne/cm2 tensile modulus of elasticity and an image receiving layer are formed in turn on one side of a void- containing plastic support, and the surface roughness Ra of the other side of the support is 0.04-0.06 μm.例文帳に追加

ボイド含有プラスチック支持体の片面側に、引張弾性率が１０^7〜１０^8ｄｙｎｅ／ｃｍ^2のクッション層と受像層とをこの順に有し、かつ支持体の他の面側の表面粗さがＲａで０．０４〜０．０６μｍである。 - 特許庁

Tungsten electrodes 26A and 26B are pinch-sealed to pinch seal parts 20b1 and 20b2 at the two sides of the light emission tube part 20a of the body 20 of an arc tube, and the outside surfaces 26Aa and 26Ba of these tungsten electrodes are given a mean surface roughness of 3 μm or below.例文帳に追加

アークチューブ本体２０の発光管部２０ａ両側のピンチシール部２０ｂ１、２０ｂ２にピンチシールされたタングステン電極２６Ａ、２６Ｂの外周表面２６Ａａ、２６Ｂａの平均粗さを３μｍ以下に設定する。 - 特許庁

In the device, a cleaning roll having bias voltage applied to separate electrified toner from a photoreceptor is provided on the upstream side of a cleaning blade, and the photoreceptor having a surface roughness Rz of 0.1 μm to 2.5 μm in an average of ten points is utilized.例文帳に追加

帯電トナーを感光体から引き離すバイアス電圧を印加したクリーニングローラをクリーニングブレードの上流側に設けるとともに、感光体として表面粗さＲｚが十点平均で０．１μｍ〜２．５μｍのものを用いる。 - 特許庁

As the results, the surface roughness is made less smooth restrictively to the Mid ratio section in which the belt running noise is highly likely to occur, thereby lowering the friction coefficient between the V belt 5 and the variable speed pulleys 2, 4 to reduce noise of the speed change gear.例文帳に追加

このことにより、ベルト走行ノイズが発生しやすいＭｉｄレシオのときに限定して表面粗さを粗くし、Ｖベルト５と変速プーリ２，４との間の摩擦係数を低下させて変速装置の低騒音化を図る。 - 特許庁

A high quality wafer comprises Al_xGa_yIn_zN (wherein 0<y≤1 and x+y+z=1) and is characterized by a root mean square surface roughness of less than 1 nm in a 10×10 μm^2 area at its Ga-side.例文帳に追加

ウェーハのＧａ側における１０×１０μｍ^２面積内で１ｎｍ未満の根二乗平均表面粗さを特徴とする、Ａｌ_ｘＧａ_ｙＩｎ_ｚＮ（式中、０＜ｙ≦１およびｘ＋ｙ＋ｚ＝１）を含む高品質ウェーハ。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition for a color filter bringing about little surface roughness of a pixel, generating no display defect such as image persistence and display unevenness and further excellent in developing property, adhesion property of a coloring layer to a substrate and so on.例文帳に追加

画素の表面粗度が小さく、焼き付けや表示ムラなどの表示不良を生じることのなく、しかも現像性、着色層と基板との密着性等にも優れたカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

A window 30 having a bottom 34 having a surface roughness for scattering at least 10% of incident light is fixed to an opening 18 arranged in a polishing pad 10, and thus a scattering-preventing-layer 50 is formed in contact with the bottom 34.例文帳に追加

研磨パッド１０に設けた開口１８に、入射光の１０％以上を散乱させる表面粗さを有する下面３４を持つ窓３０を固定し、この下面３４と接して散乱防止層５０を形成する。 - 特許庁

To provide a metal evaporated film for capacitor which can be pressed with high workability and can eliminate the resonance noise of a capacitor, by appropriately combining the average molecular weight of the oil forming the margin of the film with the average surface roughness of the film and a capacitor using the film.例文帳に追加

コンデンサ用金属蒸着フィルムのマージンを形成するオイルのＭｗとフィルムのＲａを適切に組み合わせることにより、プレス性が良く、コンデンサの鳴きを改善出来る金属蒸着フィルムおよびコンデンサを提供する。 - 特許庁

On the surface of the magnetic layer number of recessed parts having depth of ≥1/3 of a minimum recording bit length is ≤100 pieces/10,000 μm^2 and a central plane average roughness SRa is ≤6.0 nm.例文帳に追加

前記磁性層表面に存在する最小記録bit長の１／３以上の深さを有する凹みの数は１００個／１００００μｍ^2以下であり、かつ前記磁性層表面の中心面平均粗さＳＲａが６．０ｎｍ以下である。 - 特許庁

In a method for dryetching a diamond specimen P1 held on a specimen holder P5, the surface roughness of a sidewall of the diamond specimen P1 is controlled by forming a third layer P3 between the diamond specimen P1 and the specimen holder P5.例文帳に追加

試料ホルダーＰ５に保持されたダイヤモンド試料Ｐ１をドライエッチングする方法において、ダイヤモンド試料Ｐ１と試料ホルダーＰ５の間に第3の層Ｐ３を形成して、ダイヤモンド試料Ｐ１の側壁の表面粗さを制御する。 - 特許庁

The coated metal sheet good in reflectivity and mold processability is characterized in that at least two coating films, which contain a fluoroplastic and titanium oxide, are provided on a metal sheet and the surface roughness of the interface of both films is 0.3-0.7 μm.例文帳に追加

金属板上にフッ素樹脂と酸化チタンを含む少なくとも２層の塗装皮膜を有し、皮膜の界面の表面粗さが０．３〜０．７μｍであることを特徴とする反射性と成形加工性に優れる塗装金属板。 - 特許庁

The grain-oriented electrical steel sheet may further comprise a laser irradiated portion where a surface roughness Rz is small and a cross section viewed from a transverse direction has a concave portion having a width of 200 μm or less and a depth of 10 μm or less for further improvement.例文帳に追加

また、レーザ照射部の表面粗度Ｒｚが小さいこと、また、レーザ照射部を圧延直角方向よりみた断面形状が幅２００μｍ以下、深さ１０μｍ以下の凹型形状であることを特徴とする。 - 特許庁

The surface is roughened by making its arithmetic average roughness Ra 1-5 μm or by forming 3-8 channels having a width of 1.5-7.0 μm and a depth greater than the width per 0.1 mm to make a smoothness rate 70-90%.例文帳に追加

算術平均粗さＲａを１〜５μｍとする、または、１．５〜７．０μｍの幅とその幅以上の深さを有する溝を０．１ｍｍあたり３〜８本として７０〜９０％の平滑率で施すことにより表面粗さを付与する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an organic electroluminescent element for preventing surface roughness or peel-off of a lower electrode in its formation, and thereby aiming at improvement of light emission characteristics and a yield rate.例文帳に追加

下部電極形成においての下部電極や表面荒れや剥がれが防止可能であり、これにより発光特性の向上および歩留まりの向上を図ることが可能な有機電界発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a second step, the thin film 10A comprising the amorphous oxide semiconductor is put into an electric furnace and is sintered at such a temperature range of 660 to 840°C that the thin film is polycrystallized while maintaining a surface roughness Ra of ≤1.5 nm.例文帳に追加

第２工程として、非晶質酸化物半導体からなる薄膜１０Ａを、電気炉へ投入し、その表面粗さＲａ値を１．５ｎｍ以下として維持しつつ多結晶化する温度領域６６０℃〜８４０℃で焼成する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device capable of effectively removing the roughness of the surface on the fringe of a substrate and films which stick to the fringe and contaminate the substrate in the process of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造工程などにおいて、基板の周縁部等に発生する表面荒れや基板の周縁部等に付着し汚染源となる膜を効果的に除去することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To achieve low roughness of a main surface and a required end shape in a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, and a method for manufacturing the magnetic disk.例文帳に追加

磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法において、主表面の低粗さを実現しつつ必要な端部形状を同時に満たすことが可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The transfer sheet for an electrophotographic printer consists of a base material and a transfer layer which can be released from the base body, on which a toner image can be fixed and which has 0.5 to 3.5 μm average surface roughness in average.例文帳に追加

基材と、この基材に対して剥離可能であり、かつトナー画像が定着可能であって、表面の平均粗さの平均値が０．５〜３．５μｍである転写層とで電子写真方式プリンター用転写シートを構成する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for producing a high-quality nitride crystal by which occurrence of steps of crystals is suppressed and there is no generation of inclusion which is a phenomenon of roughness of surface morphology or of intrusion of impurities between steps.例文帳に追加

結晶のステップの発生を抑制し、表面モホロジーの荒れやステップの間に不純物が入り込む現象であるインクルージョンの発生のない高品質の窒化物結晶の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

The heat conductivity of the second silicone rubber cured matter layer is 0.20 W/mK or above, the type A hardness thereof in a JIS K 6253 durometer hardness test is 20 or above and the center line average roughness Ra of the surface thereof is 0.4-10.0 μm.例文帳に追加

前記第二のシリコーンゴム硬化物層の熱伝導率が０．２０Ｗ/ｍＫ以上、ＪＩＳ Ｋ ６２５３ デュロメーター硬さ試験 タイプＡ硬度が２０以上、表面の中心線平均粗さＲａが０．４〜１０．０μｍである。 - 特許庁

To provide a photosensitive colored composition, which can be formed in low light exposure and prevents surface roughness in a liquid crystal display device including a color filter provided on a side of an array substrate; and to provide the liquid crystal display device using the same.例文帳に追加

アレイ基板側にカラーフィルタを具備する液晶表示装置において、低露光量で形成可能であり、且つ、表面荒れの発生しない感光性着色組成物、およびそれを用いた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, wherein grinding work can be applied so that fluctuation of plate thicknesses between batches is reduced by using a fixed abrasive sheet corrected to a desired surface roughness.例文帳に追加

所望の表面粗さに修正処理された固定砥粒シートを用いて、バッチ間で板厚のばらつきが小さくなるように研削加工を行うことができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The glass roll prepared by winding the glass film having a film thickness of 200 μm or less into a roll form is characterized by having a dielectric constant of the glass film of 7 or less and an average surface roughness Ra of 10 Å or less.例文帳に追加

本発明のガラスロールは、フィルム厚２００μｍ以下のガラスフィルムをロール状に巻き取ったガラスロールであって、ガラスフィルムの誘電率が７以下であり、且つ平均表面粗さＲａが１０Å以下であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer which is improved in charge transporting properties and suppressed in surface roughness compared with the case where a charge transporting material does not contain an isomer having substituted hydroxyl groups in a predetermined range.例文帳に追加

電荷輸送性材料に、水酸基が置換された異性体が下記範囲含まれない場合に比べ、電荷輸送性を向上させると共に表面凹凸を抑制された感光層を持つ電子写真感光体を提供する。 - 特許庁

The arithmetic mean of roughness Ra when a surface of the accumulated material 17 with which the insulating layer 15 is contacted on the substrate 18 side is observed within a range of 1 μm^2 by using an AFM probe with a 10 nm tip diameter is less than 3 nm.例文帳に追加

絶縁層１５が基板１８の側において接する被堆積物１７の表面を、先端径が１０ｎｍのＡＦＭ探針を用いて１μｍ^２の範囲で観察した時の算術平均粗さＲａが３ｎｍ未満である。 - 特許庁

To provide a method for stably producing, by a spray coating method, a porous siliceous film having a good porous structure, free of problems on the appearance, such as film defects and film surface roughness, and showing excellent functionalities, such as a low refractive index and excellent durability.例文帳に追加

スプレーコート法により、良好な多孔質構造を有し、膜欠陥や膜表面荒れといった外観上の問題がなく、低屈折率性等の機能性、耐久性に優れたシリカ系多孔質膜を安定に製造する。 - 特許庁

The semiconductor substrate is pressed against a polishing pad for CMP having the center line average roughness Ra of a surface of 1-3 μm by the pressure of 8-10 kPa so as to pressurize them, and a thin film formed on the semiconductor substrate is polished chemically and mechanically.例文帳に追加

表面の中心線平均粗さＲａが１〜３μｍであるＣＭＰ用研磨パッドに、８〜１０ｋＰａの圧力で半導体基板を押し当て加圧し、半導体基板上に形成された薄膜を化学機械的に研磨する。 - 特許庁

To provide a resin composition which is low in roughness of an insulating layer surface, and can form thereon a plated conductor layer having sufficient peel strength in a wet roughing step, and which is excellent in dielectric characteristics and a coefficient of thermal expansion.例文帳に追加

湿式粗化工程において絶縁層表面の粗度が小さく、その上に十分なピール強度を有するめっき導体層を形成することができ、誘電特性、熱膨張率にも優れた樹脂組成物を提供すること - 特許庁

The organic photoreceptor is provided with at least a photosensitive layer on a conductive supporting body, wherein its surface roughness Ra is 0.02 to <0.1 μm, and Rz is 0.1 to <1 μm.例文帳に追加

導電性支持体上に少なくとも感光層を設けてなる有機感光体において、表面粗さＲａが０．０２μｍ以上、０．１μｍ未満、Ｒｚが０．１μｍ以上、１μｍ未満であることを特徴とする有機感光体。 - 特許庁

To provide a laser cutting method, a laser cutting nozzle, and a laser cutting device which, when a workpiece is cut by laser, make surface roughness of the workpiece after being cut small by suppressing the occurrence of a cutting flaw in a cutting plane.例文帳に追加

被加工材をレーザ切断する場合に、切断面への切断傷の発生を抑制することで、切断後の表面粗度を小さくすることが可能なレーザ切断方法、レーザ切断用ノズル及びレーザ切断装置を提供すること。 - 特許庁

The polyester film for the release film of the polarizing plate has a surface roughness (Ra) of the film of 18-33 nm, an image clarity value of ≥89%, and a haze of the film of ≤8% after heat treatment at 180°C for 5 min.例文帳に追加

フィルムの表面粗さ（Ｒａ）が１８〜３３ｎｍであり、写像性値が８９％以上であり、１８０℃で５分間熱処理後のフィルムのヘーズが８％以下であることを特徴とする偏光板離型フィルム用ポリエステルフィルム。 - 特許庁

To provide a method for forming a thermal oxidation film which can improve an uniformity of a thermal oxidation film by decreasing a roughness on a surface of the thermal oxidation film, and also to provide a method for manufacturing a semiconductor device using the film.例文帳に追加

熱酸化膜表面の粗さを減少させることにより、熱酸化膜の膜厚均一性を向上させることができる熱酸化膜の形成方法及びそれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of depositing film for precisely forming a tanta lum oxidation film having a small thickness that has very high in-plane uniform ity of the thickness, very small surface roughness, and moreover satisfactory electrical properties.例文帳に追加

低温でも、膜厚の面内均一性が非常に高くて表面粗さは非常に小さく、しかも電気的特性が良好な薄い膜厚のタンタル酸化膜を精度良く形成することができる成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching gas which can achieve high selectivity for photoresist, suppression of increase in surface roughness, and high etching rate of a silicon oxide film, and to provide an etching method using the etching gas by utilizing a material having a low environmental load.例文帳に追加

フォトレジストに対する高い選択性、表面粗度上昇の抑制と、シリコン酸化膜の高いエッチングレートを達成させることのできるエッチングガスおよびそれを用いたエッチング方法を、環境負荷の低い材料により提供する。 - 特許庁

By deciding the surface roughness distribution (maximum value and mean value) of the porous body to be within a specified range with reference to toner particle size distribution (minimum value and mean value), the adhesion of the toner to the porous body is reduced and the clogging is hardly caused.例文帳に追加

多孔質体の表面粗さ分布（最大値、平均値）をトナー粒径分布（最小値、平均値）に対して所定の範囲をとるように決めることにより、多孔質体へのトナー付着を低減でき、目詰まりをおこりにくくする。 - 特許庁

As a result, while polishing is continued, the polishing pad 102 is always dressed by a dresser 103, so that the roughness of the surface of the polishing pad 102 can be always made constant and the expansion of dishing can be prevented.例文帳に追加

その結果、研磨が行われている間、研磨パッド１０２は常にドレッサ１０３によりドレッシングされるので、常に研磨パッド１０２の表面の荒れを一定に保つことができ、ディッシングの拡大を防止することができる。 - 特許庁