「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(81ページ目) - Weblio英語例文検索

The pollen attachment preventing fiber structure has a mean deviation (MMD) of the friction coefficient on the cloth surface of ≤0.04 measured by KES (Kawabata Evaluation System) method in both warp and weft directions and a mean deviation (SMD) of the surface roughness of ≤4.0 μm in both warp and weft directions.例文帳に追加

本発明明の花粉付着防止繊維構造物は、ＫＥＳ法による布帛表面の摩擦係数の平均偏差（ＭＭＤ）のタテ方向、ヨコ方向の各々の値が０．０４以下および表面粗さの平均偏差（ＳＭＤ）のタテ方向、ヨコ方向の各々の値が４．０μｍ以下であめ花粉付着防止繊維構造物。 - 特許庁

Further, the rolling element has a rolling face, of which the surface is worked by cutting work and burnishing work, of which the roughness is 0.1 μmRa or less, of which the maximum residual compressive stress is -1000 MPa or less, and in which the residual compressive stress layer is formed from the surface to the internal depth of 0.3 mm.例文帳に追加

また、切削加工とバニシング加工とにより転動面の表面が加工され、面粗さが０．１μｍＲａ以下であり、最大圧縮残留応力が−１０００ＭＰａ以下であり、表面から内部深さ０．３ｍｍまで圧縮残留応力層が形成されてなる転動面を備えている。 - 特許庁

To provide a raw material gas jetting nozzle capable of attaining low surface roughness of a film deposited on the surface of a substrate when the nozzle is used for depositing the film on the substrate by the CVD method, and also suitable for the application to aerosol floating gas to be used for film deposition of a large substrate, and a chemical vapor deposition apparatus having the same.例文帳に追加

ＣＶＤ法によって基板に膜を形成するのに用いられた際、基板表面に生成される膜の表面粗度が低く、大型基板の成膜にも用いることができるエアロゾル浮遊ガスにも適用が可能な原料ガス噴出用ノズル、及び、これを備えた化学的気相成膜装置を得る。 - 特許庁

In this cutting tool, a surface of a base material 2 is formed with a hard coating film 15 containing at least a conductive film 16 as the sensor circuit 13 by polishing to manufacture a throw-away tip 1 with a sensor circuit having 0.1 μm or less of arithmetic mean roughness (Ra) in a surface of working parts 11 between polished sensor circuits 13.例文帳に追加

母材２表面に、研磨加工によりセンサ回路１３とした導電膜１６を少なくとも含む硬質被覆膜１５を形成し、前記研磨加工されたセンサ回路１３間：回路間加工部１１表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下のセンサ回路付スローアウェイチップ１を作製する。 - 特許庁

This back arrangement sheet has a halation preventive layer which consists of a binder and a roughening forming agent on at least either surface of a base material, and the center line average roughness(Ra) of a layer surface by JIS B0601 is 4.00-10.00 μm, and the glossiness of it by 60-85 degrees by JIS Z 8741 is ≤1.0%.例文帳に追加

基材の少なくとも一方の面に、バインダー及び粗面化形成剤とからなるハレーション防止層を有し、この層表面のＪＩＳ Ｂ０６０１による中心線平均粗さ（Ｒａ）が４．００〜１０．００μｍで、かつＪＩＳ Ｚ ８７４１による６０度〜８５度での光沢度が１．０％以下であるバック配置用シートとする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a charged particle beam mask capable of manufacturing a charged particle beam mask in a good yield, by conducting an inspection of a foreign matter on the surface at the Si substrate side before an average surface roughness at the Si substrate side of a charged particle beam mask manufacturing substrate is defined and a prescribed position on the Si substrate is subjected to etching.例文帳に追加

荷電粒子線マスク製造用基板のＳｉ基板側の平均表面粗さを規定し、Ｓｉ基板の所定の箇所をエッチングする前に、Ｓｉ基板側表面の異物検査を行うことにより、荷電粒子線マスクを収率良く製造する荷電粒子線マスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the gas barrier laminate having a gas barrier layer containing a silicic acid condensation product provided on one surface of a biaxially oriented polypropylene film, the surface roughness of the film on the gas barrier layer side is Rmax≤300 nm and Rz≤200 nm and that on the opposite side to the gas barrier layer, Rmax of 300-2,000 nm and Rz of 200-1,500 nm.例文帳に追加

珪酸縮合物を含むガスバリア層を二軸延伸ポリプロピレンフィルムの片面に設けたガスバリア積層体において、該フィルムの表面粗さが、ガスバリア層側がＲｍａｘ３００ｎｍ以下、かつＲｚ２００ｎｍ以下であり、ガスバリア層と反対側がＲｍａｘ３００〜２０００ｎｍ、かつＲｚ２００〜１５００ｎｍであるガスバリア積層体。 - 特許庁

To provide a rubber composition used for producing a vulcanization molded article with white or chromatic color by using a steam vulcanization method, and bringing about a molded article which has good rubber elasticity, on the surface of which occurrence of defective phenomena such as surface roughness, color unevenness and the like is suppressed, and which has excellent appearance, and to provide a hose formed by using the same.例文帳に追加

蒸気加硫法により、白色又は有彩色の加硫成形品を製造するために用いられるゴム組成物であって、良好なゴム弾性を有し、その表面に、表面荒れ、色むら等の不良現象が抑制され外観性に優れる成形品を与えるゴム組成物及びそれを用いてなるホースを提供する。 - 特許庁

The micro lens array sheet is constituted so that approximately semi-spherical unit lenses 2 are two-dimensionally arrayed at a 200μm pitch or less, and it is characterised in that a fine rugged part of which the surface roughness Ra is ≥0.001μm is formed on the lens surface of each unit lens 2 and the fine rugged part is fine and approximately semi-spherical ruggedness arranged at random.例文帳に追加

略半球状単位レンズ２がピッチ２００μｍ以下で２次元配列されてなり、各単位レンズ２のレンズ表面に表面粗さＲａが０．００１μｍ以上の微細な凹凸部を有し、さらに前記微細な凹凸部が、微細な略半球状凹凸であって、ランダムに配されていることを特徴とする。 - 特許庁

The curable composition for repairing a living tissue is the curable composition which contains calcium salt and where a cured body to be obtained by curing the curable composition for twelve hours at 37°C has a projecting/recessing surface structure in which the Ra value is equal to or more than 3.6 μm and the Sm value is equal to or more than 30.0 μm in surface roughness.例文帳に追加

カルシウム塩を含有する硬化性組成物であり、前記硬化性組成物を３７℃で１２時間硬化して得られる硬化体が、表面粗さがＲａ値３．６μｍ以上かつＳｍ値３０．０μｍ以上となる表面凹凸構造を有する、生体組織修復用の硬化性組成物。 - 特許庁

By an ultraviolet ray setting coating material coating stage in which the surface of a resin mold as a master mold is coated with an ultraviolet ray setting coating material and a setting stage in which the resin mold coated with the ultraviolet ray setting coating material is irradiated with ultraviolet rays to set the ultraviolet ray setting coating material, the surface roughness of the resin mold is improved.例文帳に追加

マスター型としての樹脂型の表面に紫外線硬化塗料を塗布する紫外線硬化塗料塗布工程と、該紫外線硬化塗料が塗布された樹脂型に紫外線を照射して紫外線硬化塗料を硬化させる硬化工程とによって、樹脂型の面粗度を向上させる。 - 特許庁

In the formula, D_1(μm) is a thickness of the plasma anti-corrosion layer on the surface of the ceramic base plate, D_2(mm) is a thickness of the ceramic base plate, and Ry(μm) is a maximum height based on JIS B 0601 showing surface roughness of the ceramic base plate.例文帳に追加

０．０１５（ｍｍ）≦ Ｄ_１×Ｄ_２／Ｒ_ｙ ≦２００００（ｍｍ）・・・（１）（式（１）中、Ｄ_１（μｍ）は、セラミック基板の表面における前記プラズマ耐食層の厚さであり、Ｄ_２（ｍｍ）は、セラミック基板の厚さであり、Ｒｙ（μｍ）は、セラミック基板の表面粗さを示すＪＩＳ Ｂ ０６０１に基づく最大高さである。） - 特許庁

To provide a combination of a sliding member and lubricating oil where, even in the case the surface of a film composed of an amorphous carbon material is rough in the initial stage, the reduction of wear and the reduction of friction are possible by reducing the surface roughness and approaching the lubrication from the boundary one to the fluid one in the initial stage of sliding.例文帳に追加

初期状態において、非晶質炭素材料からなる被膜の表面が粗い場合であっても、摺動初期の段階において、表面粗さを低減させて境界潤滑から流体潤滑に近づけることにより、低摩耗及び低フリクション化が可能な摺動部材と潤滑油の組合せを提供する。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent for a freezing process, which can suppress variations in the line width of a first resist pattern and LWR (line width roughness) which may be caused by freezing treatment applied to the first resist pattern and the formation of a second resist pattern in a double patterning method, and to provide a resist pattern formation method using the surface treatment agent.例文帳に追加

ダブルパターニング法において、第一のレジストパターンに対して行うフリージング処理及び第二のレジストパターンの形成による、第一のレジストパターンの線幅並びにＬＷＲの変動を抑制することができるフリージングプロセス用の表面処理剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a rolling process capable of uniformizing the thickness of a ring-shaped member over the entire circumference, uniformizing the surface roughness of the outer circumferential surface over the entire circumference, uniformizing the circumferential length for each manufactured product, and easily rolling the ring-shaped members of different sizes.例文帳に追加

本発明は、リング状部材について、全周にわたって板厚を均一にすることができ、全周にわたって外周面の表面粗さを均一にすることができ、製造品ごとの周長を均一にすることができ、サイズ違いのリング状部材の圧延も容易にすることができる圧延工程を提供することを目的とする。 - 特許庁

With the ceramic heater with a heating element formed on the surface of or inside the ceramic board, an even heating plate with a surface roughness Ra based on JIS B 0601 on a main face of a heating face side of 0.1 to 300 μm is buried between the heating face of the ceramic board and the heating element.例文帳に追加

セラミック基板の表面または内部に発熱体が形成されたセラミックヒータであって、前記セラミック基板の加熱面と前記発熱体との間には、加熱面側の主面のＪＩＳ Ｂ ０６０１に基づく面粗度Ｒａが、０．１〜３００μｍである均熱板が埋設されていることを特徴とするセラミックヒータ。 - 特許庁

When an organic resin film with a coating area ratio of 75-95% is formed on the surface of a molten Zn-5% Al alloy or molten Zn-55% Al alloy plated steel panel, an organic resin treatment solution is applied by a three-roll type roll coating apparatus limitted in roll material quality and roll surface roughness.例文帳に追加

溶融Ｚｎ−５％Ａｌ系合金めっき鋼板又は溶融Ｚｎ−５５％Ａｌ系合金めっき鋼板の表面に被覆面積率７５〜９５％の有機樹脂皮膜を形成する際、ロール材質と表面粗さを限定した３ロール方式のロール塗布装置を用いて有機樹脂処理液を塗布する。 - 特許庁

This radiological image conversion panel comprising a phosphor sheet formed by providing a stimulable phosphor layer on a support and a protection layer provided so as to cover the phosphor surface on the phosphor sheet has a characteristic wherein the arithmetic mean inclination Δa of surface roughness of the protection layer is 0.01-0.2.例文帳に追加

支持体上に、輝尽性蛍光体層が設けられている蛍光体シートと該蛍光体シートの蛍光体面を被覆するように設けられた保護層からなる放射線画像変換パネルにおいて、該保護層の表面粗さの算術平均傾斜Δａが０．０１〜０．２であることを特徴とする放射線画像変換パネル。 - 特許庁

The surface of the YAG polycrystalline substrate has a mathematical surface roughness Ra of less than 1 nm, has no flaw whose width is 5 μm or more, has no dent whose diameter is 5 μm or more, has a height difference between the unit crystal particles constituting a polycrystal of 5 nm or less, is flat and smooth and has a flatness of less than 100 nm.例文帳に追加

このときの、ＹＡＧ多結晶体基板の面は、算術表面粗さＲａが１nm未満でかつ幅５μｍ以上のキズや直径5μｍ以上の窪みがなく、多結晶体を構成している単位結晶粒子間の高低差を５nm以下と平滑であり、平坦度も１００ｎｍ未満となっている。 - 特許庁

The photosensitive element which transfers fine irregularity having a surface roughness of 0.01-2 μm comprises a support film (A), a photosensitive resin composition layer (B) and a protective film (C), wherein the Ra of a surface of the protective film (C) brought into contact with the photosensitive resin composition layer is 0.05-0.5 μm.例文帳に追加

表面粗さが０．０１〜２μｍの微細な凹凸を転写する感光性エレメントであり、その構成が支持フィルム（Ａ）、感光性樹脂組成物層（Ｂ）及び保護フィルム（Ｃ）を含み、かつ前記保護フィルム（Ｃ）の感光性樹脂組成物層と接触する面のＲａが０．０５〜０．５μｍである感光性エレメント及びその製造方法。 - 特許庁

In an electrophotographic apparatus which is cleaner-less and adopts the contact one-component development method, and uses toner having a weight average particle diameter of 7μm or less, the surface layer of the electrophotographic photoreceptor has ten-point average surface roughness Rz that is 0.1≤Rz≤1μm and the maximum height that is 0.2≤Ry≤2μm.例文帳に追加

クリーナーレス、接触一成分現像方式、さらに重量平均粒径が７μｍ以下のトナーを用いた電子写真装置において、感光体表面層の１０点平均表面粗さＲｚが０．１≦Ｒｚ≦１μｍ、最大高さが０．２≦Ｒｙ≦２μｍであることを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁

The biaxially oriented polyester film comprises an aromatic polyester of an aromatic dicarboxylic acid component and a glycol component, wherein 5-80 mol% of the aromatic dicarboxylic acid component is a 6,6'-(alkylenedioxy)-di-2-naphthoic acid component, and at least one surface of the biaxially oriented polyester film has a surface roughness of ≤10 nm.例文帳に追加

芳香族ジカルボン酸成分とグリコール成分との芳香族ポリエステルからなる二軸配向ポリエステルフィルムであって、芳香族ジカルボン酸成分の５〜８０モル％が、６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分であって、少なくとも一方の表面は、表面粗さが１０ｎｍ以下である二軸配向ポリエステルフィルム。 - 特許庁

To provide an epoxy resin composition suitable for the use as an insulation layer of a multi-layer printed circuit board, and achieving the insulation layer (interlayer insulation layer) of which roughened surface exhibits high close adhesion against a plated conductor even though the roughness of the roughened surface after the roughening is relatively small.例文帳に追加

多層プリント配線板の絶縁層としての使用に好適なエポキシ樹脂組成物であって、粗化処理後の粗化面の粗度が比較的小さいにもかかわらず、該粗化面がメッキ導体に対して高い密着力を示す絶縁層（層間絶縁層）を達成し得るエポキシ樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To protect the surface of a multilayer metal foil laminate board inner layer circuit from the generation of a roughness, even when a metal mirror surface plate whose thickness is 0.8 mm or less is used for intervention between each combination of boards, when performing thermal bonding of a plural of combinations of boards between press heating one step platens.例文帳に追加

プレス熱盤一段間で複数組の内層回路入り多層金属箔張り積層板を加熱加圧成形するに際し、各組の間に介在させる金属鏡面板として厚み０．８mm以下のものを使用した場合にも、内層回路入り多層金属箔張り積層板表面に凹凸が付与されないようにする。 - 特許庁

In the fixing device with a fixing roller, a pressing roller which comes into pressure contact with the fixing roller and a cleaning means to clean up foreign matter sticking to the surface of the fixing roller, a cleaning roller obtained by coating a metallic shaft with a heat resistant artificial leather having ≤10 mm surface roughness Ra is used as the cleaning means.例文帳に追加

定着ローラと、これに圧接する加圧ローラと、前記定着ローラの表面に付着する異物を清掃する清掃手段とを有する定着装置において、清掃手段としては金属性軸体に表面粗さRaが10mm以下である耐熱性の人工皮革を被覆したクリーニングローラを用いる。 - 特許庁

To provide a method for producing a multilayer printed wiring board, exhibiting good adhesive strength to plated copper by realizing high elongation property, while keeping surface roughness of an insulating layer after coarsening the surface to ≤3 μm so as to enable micro-wiring in circuit formation by a semi-additive method.例文帳に追加

セミアディティブ法による回路形成において、微細配線化が可能となるように粗化後の絶縁層表面粗さが３μｍ以下でありながら、高い伸び性を実現することによりめっき銅との良好な接着強度を示す多層プリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The metal shaft with an average surface roughness Rz of 0.5 to 8 μm is used by a means for polishing the surface, by using abrasive grain in the resin roller with the elastic layer formed on an outer periphery part of the metal shaft.例文帳に追加

金属シャフトの外周部に弾性層を形成した樹脂ローラにおいて、砥粒を用いて表面を研磨するなどの手段により、該金属シャフトの平均表面粗さＲｚを０．５〜８μｍとした金属シャフトを用いることにより、該金属シャフトと弾性層との接着強度を向上させることができる。 - 特許庁

The heat-conductive polymer dielectric insulating layer 23 is laminated between the first metal layer 21 and second metal layer 22 so as to contact with the first metal layer 21 and second metal layer 22 directly, and there is at least one fine rough surface having a surface roughness (Rz) larger than 7.0 between them.例文帳に追加

熱伝導性ポリマー誘電体絶縁層２３が、第１金属層２１・第２金属層２２と直接接触する方式で、第１金属層２１と第２金属層２２の間に積層され、それらの間には、７．０よりも大きい表面粗さ（Ｒｚ）を有する少なくとも１つの微小凹凸表面を含む。 - 特許庁

In the radiation image conversion panel which has a support, a phosphor layer containing storage phosphor particles and a protective layer in this order, the median particle diameter D_m of the storage phosphor particles is 1.0 to 3.5 μm and the surface roughness Ra on the surface of the protective layer of the panel is 0.03 to 0.3 μm.例文帳に追加

支持体、蓄積性蛍光体粒子を含有する蛍光体層および保護層をこの順に有する放射線像変換パネルにおいて、該蓄積性蛍光体粒子のメジアン粒径Ｄ_mが１．０〜３．５μｍで、そして該パネルの保護層表面の表面粗さＲａが、０．０３〜０．３μｍである放射線像変換パネル。 - 特許庁

The surface of a photosensitive drum 1 is irradiated with a laser beam Lb at a minute glazing angle θ and the scattered beam Lb2 thereof is detected by the light detecting members SA, SB and SC arranged on a scattered light region S3 due to a flaw and the light detecting member SAU arranged on a scattered light region S2 due to a stain (surface roughness).例文帳に追加

感光ドラム１の表面に微小なグレージング角θでレーザ光Ｌｂを照射し、その散乱光Ｌｂ２を、傷による散乱光領域Ｓ３に配備された受光部材ＳＡ，ＳＢ,ＳＣと、汚れ（表面粗さ）による散乱光領域Ｓ２に配備された受光部材ＳＡＵとで受光する。 - 特許庁

The method for manufacturing the photocatalyst sheet is characterized by causing fluoride of a metal element of the group IIa, IIb or IVa to react with a substrate having an aluminum surface roughened so that the surface roughness of the center line becomes 0.1 μm or more to form metal oxide particles on the substrate.例文帳に追加

中心線表面粗さが０．１μｍ以上になるように粗面化されたアルミニウム表面を有する基材に周期律表のＩＩa、ＩＩｂ、ＩＶa族の金属元素のフッ化物を作用させることにより金属酸化物粒子を前記基材上に形成させることを特徴とする光触媒シートの製造方法。 - 特許庁

An electrostatic chuck member has an electrode layer and an electric insulating layer, wherein a spray coating layer of an oxide of a group 3A element in the periodic table is formed as an outermost layer of the member and a surface of the spray coating layer is rendered into a densified re-melting layer having an average surface roughness (Ra) of 0.8-3.0 μm.例文帳に追加

電極層と電気絶縁層とからなる静電チャック部材において、この部材最外層に、周期律表の３Ａ族元素の酸化物の溶射被覆層を設けてなり、かつこの溶射被覆層の表面を、平均粗さ（Ｒａ）が０．８〜３．０μｍの緻密化再溶融層とした静電チャック部材。 - 特許庁

This temper rolling mill is a two-stand temper mill, and a first stand incorporates a work roll to have a chrome plated layer formed on a roll barrel surface layer and having almost partially spherical protrusions to have surface roughness Ra of 0.3-2.0 μm and Hv of ≥1000, and a second stand incorporates a bright roll subjected to cylindrical polishing.例文帳に追加

２スタンドの調質圧延機であって、第１スタンドに表面粗さＲａが 0.3〜 2.0μm でかつＨｖ；1000以上の略部分球形状の突起を有するクロムめっき層をロールバレル表層に形成したワークロールが組み込まれ、第２スタンドに円筒研磨されたブライトロールが組み込まれている調質圧延機。 - 特許庁

To solve a problem wherein a circumferential velocity difference between an inner circumference part and the outer circumference part of a carrier causes an accuracy difference in the surface roughness, parallelism and flatness in a single work in a conventionally used polishing pad whose diameter of openings on the surface is same and whose carrier of a planetary gear type polishing device executes circular movement of autorotation and revolution.例文帳に追加

従来より使用している研磨パッドは、表面開口径が同一のもので、遊星歯車式研磨装置でのキャリヤは、自転及び公転の円運動をおこなうため、キャリヤの内周部と外周部との周速差により１枚のワーク内での面粗度や平行・平面度の精度差が出てしまう - 特許庁

The transparent resin base material film 11 has a glass transition temperature Tg of 150-300°C and a hight transmissivity of 80% or above and a second transparent inorganic compound layer 13B has a surface roughness Ra (average roughness) of 5 nm or below and the Rmax (maximum roughness) of 120 nm or below.例文帳に追加

透明樹脂基材フィルム１１の一方の面へ１又は複数の層を有し、該層の少なくとも１つの層を形成する際に、水若しくは親水性溶媒を塗布若しくは浸漬し乾燥した後に、１５０℃以上に加熱する湿潤加熱工程を有し、前記透明樹脂基材フィルム１１のガラス転移温度Ｔｇが１５０℃以上３００℃以下、かつ光線透過率が８０％以上であり、前記第２透明無機化合物層１３Ｂの表面粗さＲａ（平均粗さ）が５ｎｍ以下、Ｒｍａｘ（最大粗さ）が１２０ｎｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing a glass substrate for magnetic disk having the touch-down-height of ≤6 nm, including polishing the surface by a plurality of polishing processes, is designed to use a diamond pellet to polish the surface of te glass substrate, to obtain the glass substrate whose average maximum microwaviness is ≤3.5 nm and the maximum surface roughness is ≤6 nm.例文帳に追加

複数のポリッシング工程により表面を研磨する処理を含むタッチダウンハイトが６ｎｍ以下とされる磁気ディスク用の結晶化ガラス基板の製造方法であって、ダイヤモンドペレットを使用して、ガラス基板の表面をポリッシングすることにより、微小うねりの最大高さの平均値が３．５ｎｍ以下であって、表面粗さの最大高さが６ｎｍ以下であるガラス表面を得ることを特徴とする。 - 特許庁

The first dielectric layer 4 is made thicker than the thinnest dielectric layer in the other dielectric layers to make large the distance between a metal part protruding from a metal surface of the base electrode 2 and the inner electrode mounted on the lowermost dielectric layer originating from surface roughness of the metal surface of the base electrode 2, thereby reducing the leakage current.例文帳に追加

第１の誘電体層４の厚さを他の誘電体層のうち最も薄い誘電体層よりも厚くすることにより、下地電極２の金属表面の表面粗さに由来して金属表面から突出する金属部分と最下層の誘電体層上に積層された内部電極との距離を大きくすることができるため、リーク電流を低減させることができる。 - 特許庁

The method for manufacturing the polyvinylalcohol-based film is characterized by spreading an aqueous solution containing 10-70 wt.% polyvinylalcohol-based resin, on a rotating heated roll for mirror finish to dry on the roll for mirror finish, and then pressing a heated nip roll with a surface roughness SRa=1-100 μm to form the mat surface on the surface.例文帳に追加

ポリビニルアルコール系樹脂１０〜７０重量％からなる水溶液を、回転する加熱された鏡面仕上げのロールに展延し、鏡面仕上げのロール上で乾燥させた後、表面粗さＳＲａ＝１〜１００μｍの加熱されたニップロールを押圧させることにより表面にマット面を形成すること等を特徴とするポリビニルアルコール系フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a primer composition for electroless plating capable of forming a plating film superior in adhesion on a non-conductive base material with a smooth surface by an electroless plating without lowering its smoothness, without applying a roughening process to the surface of the base material or adding a process for giving roughness by further providing a receiving layer on the surface of the base material.例文帳に追加

基材表面への粗化工程を省略したり、又、基材表面へ更に受容層を設けて粗さを付与する工程を追加せずに、平滑な表面の非導電性基材に、その平滑性を低下させることなく、基材への密着性に優れためっき膜を無電解めっきによって形成することが可能な無電解めっき用プライマー組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk which is capable of further reducing the roughness of a substrate main surface and reducing surface defects due to the adhesion of foreign matters as compared with the conventional one and can be used as a substrate for the next generation for which a request for the substrate surface quality is much more severe than now.例文帳に追加

基板主表面の粗さをよりいっそう低減し、なお且つ異物付着等による表面欠陥を従来品より低減することができ、基板表面品質への要求が現行よりもさらに厳しいものとなっている次世代用の基板として使用することが可能な高品質のガラス基板を低コストで製造できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The Ni-plated steel plate for a battery can is characterized by having an Fe-Ni diffusion layer on a surface corresponding to an outside surface of the battery can, having a glossy addition agent or a semimat addition agent containing Ni-plated layer on its upper layer, and in that its surface roughness Ra is 0.1-1 μm and its Rmax is 1-10 μm.例文帳に追加

本発明の要旨とするところは、電池缶外面に相当する面にＦｅ−Ｎｉ拡散層を有し、更にその上層に光沢添加剤または半光沢添加剤含有Ｎｉメッキ層を有し、かつその表面粗度Ｒａが０．１μｍ以上１μｍ以下かつＲｍａｘが１μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とする電池缶用Ｎｉメッキ鋼板である。 - 特許庁

The manufacturing method for an organic EL display uses a crucible, which has a surface roughness (Sm) of 50 μm or more on its inner front surface, a shield lid with 0.2 or more holes per unit square mm, carbon content and oxygen content of 50 ppm or less respectively, and is made of molybdenum or molybdenum alloy with a blackening film formed on the external surface.例文帳に追加

るつぼ内側表面の表面粗さ（Ｓｍ）が５０μｍ以上であり、単位平方ｍｍあたり、０．２個以上の穴を設けた遮蔽蓋を有し、炭素含有量、酸素含有量がそれぞれ５０ｐｐｍ以下であり、るつぼ外表面に黒化膜が形成されたモリブデンまたはモリブデン合金からなるるつぼおよびそれを用いた有機ＥＬディスプレイの製造方法。 - 特許庁

The electrolytic copper foil has a rugged surface of 2 to 4 μm in surface roughness which is composed of copper as an essential component and is produced by electrolysis using an electrolyte with a compound having a mercapto group, at least one or more organic compounds other than this compound, and chloride ions added, and where part of the surface is composed of bunchy projections.例文帳に追加

本発明は、銅を主成分とし、メルカプト基を持つ化合物並びにそれ以外の少なくとも１種以上の有機化合物及び塩化物イオンを添加した電気分解液を用いた電気分解で作成された、銅箔表面の一部がコブ状突起からなる表面粗度が２〜４μｍの凹凸表面を有することを特徴とする電解銅箔である。 - 特許庁

An upper chamber window 63 through which flash light from the flash lamp FL is transmitted into the chamber 6 is produced by performing surface roughening such as sand blasting on the surface of a quartz plate to have a mean surface roughness of 0.1-10 μm and then by dipping the quartz plate in a hydrofluoric acid solution of 3-10 wt.% or less in hydrofluoric acid concentration for eight hours or more.例文帳に追加

フラッシュランプＦＬからのフラッシュ光をチャンバー６の内部に透過する上側チャンバー窓６３は、石英板の表面をサンドブラストなどの粗面化加工によって平均表面粗さを０．１μｍ以上１０μｍ以下とした後、その石英板をフッ酸濃度３ｗｔ％以上１０ｗｔ％以下のフッ酸溶液中に８時間以上浸漬して製造している。 - 特許庁

Fine liquid particles containing silica and a siliceous material for bonding are uniformly applied onto a substrate surface having minute ruggedness of 1 to 5 μm average surface roughness or a roughened surface of 10 to 800 μm and then heat treatment preferably at 300 to 700°C is executed to form siliceous binders and thereby the tile having hydrophilic antipollution layer to which silica fine particles are bound is manufactured.例文帳に追加

平均表面粗さ１〜５μｍの微細凹凸あるいは１０〜８００μｍの粗化面を持つ基体表面にシリカ及び結合用珪酸質物質を含有する微細液粒を均一に塗付し、ついで好ましくは３００〜７００℃で熱処理することにより珪酸質バインダーを形成せしめ、これによりシリカ微粒子を結合した親水性防汚層を持つタイルを製造する。 - 特許庁