「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(83ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a copper alloy foil with small surface roughness, high electroconductivity, and high strength, which has adequate adhesiveness to an adhesive containing an epoxy resin without being roughened, and can be laminated to a copper-clad laminate, in a three-layer flexible substrate.例文帳に追加

三層フレキシブル基板において、粗化処理を施さずともエポキシ樹脂を含む接着剤との接着性が良好で銅張積層板に積層が可能な表面粗さの小さくかつ高い導電性と強度を銅合金箔を提供すること。 - 特許庁

To provide a ZnSe compound semiconductor single crystal substrate with characteristics stabilized by suppressing the surface roughness of a ZnSe-based thin film; a compound semiconductor device; a light-emitting element; and a method of producing the compound semiconductor device.例文帳に追加

ＺｎＳｅ系薄膜の素地荒れを抑制することにより安定した特性を得ることができるＺｎＳｅ系化合物半導体単結晶基板、化合物半導体装置、発光素子および化合物半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, as shown from machining results of the test, a sufficiently large removed amount of the workpiece as desired in the rough finishing can be secured, and sufficiently fine surface roughness as desired in the final finishing can also be obtained.例文帳に追加

従って、前述した試験の加工結果から判るように、粗仕上加工で望まれる程度に十分に大きい加工物削除量を確保でき、また、最終仕上加工で望まれる程度に十分に細かい加工物の面粗さを得ることができる。 - 特許庁

To provide a method for heat treatment of a silicon wafer, capable of improving the reduction force of Grown-in faults while suppressing the occurrence of a slip at RTP, and also improving the surface roughness of a silicon wafer obtained after the RTP.例文帳に追加

ＲＴＰ時におけるスリップの発生を抑制しつつ、Ｇｒｏｗｎ−ｉｎ欠陥の低減力を向上させることができ、加えて、ＲＴＰ後、得られるシリコンウェーハの表面荒れも改善することができるシリコンウェーハの熱処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a seedling transplanter having a land-leveling rotor, and capable of securing the efficiency of seedling-transplanting operation including transplantation at the edge of a field by effectively leveling the roughness of the field surface accompanied by the turning of a machine body at the edge of the field.例文帳に追加

整地ロータを備える苗移植機において、圃場端における機体旋回に伴う圃場面の荒れを効果的に整地することにより、圃場端植付けを含む苗植付作業の能率を確保することができる苗移植機を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an inkjet recording material with pearl luster, which eliminates the surface roughness of the material due to a pearl luster pigment without marring ink absorption and color developing properties.例文帳に追加

真珠光沢を有するインクジェット記録材料の製造方法であって、インク吸収性、発色性を損なうことなく、真珠光沢顔料に起因する表面のざらつきが解消されたインクジェット記録材料の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fixing device in which a nip formed by pressing a roughening member to a fixing belt is stabilized and the surface roughness of the fixing belt is stably kept, and to provide an image forming apparatus equipped with the fixing device.例文帳に追加

定着ベルトに粗し部材を加圧させることにより形成されるニップを安定化することができ、定着ベルトの表面粗さを安定して維持することが可能な定着装置及びこの定着装置を備える画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cold rolled steel sheet for nitriding treatment which has sufficient hardness and surface roughness required for an automobile automatic transmission member or the like, a cold rolled steel sheet for nitriding treatment further having improved nitriding properties and recrystallization softening resistance property, and a method for producing the same.例文帳に追加

自動車のオートマチック・トランスミッション部材等に要求される十分な硬さ・表面粗度を有し、更に改良された窒化特性及び耐再結晶軟化特性を具備する窒化処理用冷延鋼板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

The polymer electrolyte membrane/catalyst assembly is structured containing an electrode catalyst layer 1 directly jointed to at least one side face of a polymer electrolyte membrane 2 of a structure expressed in formula (1), with a surface roughness at an interface of the membrane/catalyst of 1 μm or less.例文帳に追加

下記化学式（１）で表される構造の高分子電解質膜２の少なくとも片面に直接に接合した電極触媒層１とを含み、膜／触媒界面の表面粗度が１μｍ以下である、高分子電解質膜／触媒接合体。 - 特許庁

To provide a polishing pad conditioner with no apprehension contaminating a silicon wafer at a relatively low cost of manufacture capable of rework (conditioning) of a polishing pad surface in suitable roughness, having a very long life, and capable of stably maintaining uniform conditioning.例文帳に追加

ポリッシングパッド面を適度の粗さに再加工（コンディショニング）することができ、寿命が非常に長く、均一なコンディショニングを安定して維持することができ、製造コストが比較的低く、シリコンウェハを汚染するおそれがないポリッシングパッドコンディショナーを提供する。 - 特許庁

To provide a polishing composition and a polishing method which can improve the surface roughness of a glass substrate, washability and the dispersibility of a component to polish the glass substrate mechanically and which can increase a polishing efficiency.例文帳に追加

ガラス基板の表面粗さを小さくするとともに洗浄性を向上させ、さらにガラス基板を機械的に研磨する成分の分散性を向上させるとともに研磨能率を高めることができる研磨用組成物及び研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a SIMOX wafer by which roughness of the SOI surface or the like stays equal or is improved even when annealing treatment is performed at low temperature in a short time, by implanting predetermined doses of hydrogen ions either before or after oxygen ion implantation.例文帳に追加

酸素イオン注入の前後いずれかで、所定ドーズ量の水素イオンを注入することにより、低温短時間でアニール処理したとしても、SOI表面等のラフネスを同等以上に改善できるSIMOXウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

Even if the transparent conductive thin film is structured by a multi-layered structure formed by alternately laminating the indium tin oxide layer and the metal oxide layer, the transparent conductive thin film having a low resistance and low surface roughness and sufficient permeability can be obtained.例文帳に追加

インジウム錫酸化物の層と金属酸化物の層を交互に積層した多数積層構造によって透明導電薄膜を構成しても、低い抵抗、低い面粗度で十分な透過率を有する透明導電薄膜が得られる。 - 特許庁

And, even if the range of surface roughness meets the range of the claimed invention, it is desirable not to contain a rough and large protrusion because the remarkably high protrusion have a negative effect on the running when it is used as a magnetic tape. 例文帳に追加

また、表面粗さの範囲が本願発明の範囲を満たすものであっても、突起高さが著しく高いものがあると磁気テープとした時の走行性に悪影響を与えるので、粗大な突起を含まないようにすることが好ましい。 - 特許庁

On the surface of a metallic plate 11, first and second projection materials 16a, 16b of different sorts are sprayed by means of wet blasting, and a letter part 12 and a background part 13 constructed of first and second grained faces 11a, 11b with different roughness are formed.例文帳に追加

金属板１１の表面に対して、ウエットブラスト処理にて種類の異なる第１及び第２投射材１６ａ，１６ｂを吹き付け、粗さの異なる第１又は第２シボ面１１ａ，１１ｂよりなる文字部１２及び背景部１３を形成する。 - 特許庁

The reflector layer has at least one among an electrical conductivity exceeding about 5.0×10 (Ω.cm) an RMS surface roughness below about 1.0 nm in measurement by an atom force microscope and a refractive index below about 0.5 at a read-out wavelength.例文帳に追加

反射体層は、約５．０×１０^4（Ω・ｃｍ）^-^1を超える導電率、原子間力顕微鏡による測定で約１．０ｎｍ未満のＲＭＳ表面粗さ、および読出波長において約０．５未満の屈折率のうちの少なくとも１つを有する。 - 特許庁

To obtain a movable conductive polymer resin material that is driven in a normal ambient environment as a new function by controlling a surface roughness of an adsorptive resin material so as to be applicable to a conventional conductive polymer actuator, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

吸着性樹脂体の表面粗さを制御することにより、従来の導電性高分子アクチュエータに対して、新たな機能として、通常の雰囲気場で駆動する可動導電性高分子樹脂体その製造方法を得る。 - 特許庁

The polishing pad is formed into a doughnut-like shape and changes the opening diameters so as to reduce the dispersion of the surface roughness of the polishing surfaces of the outer circumference part and the inner circumference part and uniformize the accuracy of the parallelism and the flatness, thereby improving the manufacturing efficiency.例文帳に追加

研磨パッドをドーナツ状の形状とし開口径を変化させることにより、ワークの外周部と内周部での研磨面の面粗さのバラツキの減少、平行・平坦度等の精度の均一性が図られ生産効率の向上を達成する。 - 特許庁

To obtain an inexpensive and excellent photoreceptor and an excellent image in a short working time without regulating the surface roughness Rmax of a conductive supporting body to be small even in the case of forming the image by radiating coherent light or the like to an electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

電子写真感光体にコヒーレント光等を照射し画像を形成する際においても、導電性支持体の表面粗さＲｍａｘを小さく規定せずに、短い加工時間で、安価で良好な感光体及び良好な画像を得る。 - 特許庁

The sliding layer 18 with the surface roughness Rz of 3.0 μm to 6.0 μm is made by metal with good ductility, so that sliding chip can be reduced when the sliding layer 18 is slid on the fixing film and fixing failure can be prevented as a result.例文帳に追加

表面粗さＲｚが３．０μｍ〜６．０μｍの摺動層１８を延性の良い金属により形成したことで、定着フィルム上を摺動させた場合の摺動屑の発生を低減して定着不良を防止することが可能となる。 - 特許庁

The waterproof and oilproof paper comprises a paper base 1 adjusted in surface roughness or Cobb test water-absorbency so as to be uniformly coatable with an aqueous emulsion and a coating layer 2 formed on the paper base 1 by coating it with the polyester-based aqueous emulsion followed by drying.例文帳に追加

水性エマルジョンを均一に塗布できるように表面粗さ又はコッブ吸水度を調整した紙基材１と、この紙基材１上にポリエステル系水性エマルジョンを塗布乾燥してなる塗工層２とを備えた耐水耐油紙である。 - 特許庁

To provide an additive for rubber compounded with an inorganic filler capable of making maneuvering stability incompatible with fuel consumption saving properties by improving the storage modulus without causing surface roughness of the rubber compounded with the inorganic filler and without increasing the loss tangent.例文帳に追加

無機充填剤配合ゴムの表面荒れがなく、かつ損失正接を増大させずに貯蔵弾性率を向上させることによって、操縦安定性と省燃費性を両立させることができる、無機充填剤配合ゴム用添加剤の提供。 - 特許庁

A recording medium selecting section 201 captures information indicating the surface roughness of a recording medium, a toner saving mode selecting section 202 captures a set content for a toner saving mode, and an image quality priority mode selecting section 203 captures a set content for an image quality priority mode.例文帳に追加

記録媒体選択部201が記録媒体の表面粗さを示す情報を取得し、トナー節約モード選択部202がトナー節約モードの設定内容を取得し、画質優先モード選択部203が画質優先モードの設定内容を取得する。 - 特許庁

At least a part of the surface of a member facing a discharge space inside the film deposition apparatus is roughened so that 10-point mean roughness Rz is 5 μm to 200 μm, and the mean angle of inclination θa is 5° to 45°.例文帳に追加

堆積膜形成装置の内部の放電空間に面する部材の少なくとも一部の表面を、１０点平均粗さＲｚが５μｍ以上２００μｍ以下でかつ、平均傾斜角θａが５度以上４５度以下の範囲となるように粗す。 - 特許庁

By this, the lower part electrode 4 with the bilayered structure is made wherein a roughness of a surface of the metallic material layer 2c is moderated by the buffer thin film layer 3c, and an in-plane uniformity of a distance between the lower part electrode 4 and the light permeating upper part electrode 7 is secured.例文帳に追加

これによって、金属材料層２ｃの表面粗さを緩衝薄膜層３ｃによって緩和した二層構造の下部電極４とし、下部電極４と光透過性上部電極７との間隔の面内均一性を確保する。 - 特許庁

The surface roughness Ra of the coating 3 does not exceed 0.3 μm.例文帳に追加

本発明の装飾品１Ａは、少なくとも表面付近の一部が主としてＴｉおよび／またはステンレス鋼で構成された基材２と、基材２上に設けられ、主としてＰｔＣＮで構成された被膜３とを有し、被膜３の表面粗さＲａが０．３μｍ未満である。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a shaft capable of improving surface roughness by polishing the shaft after having plated the shaft main body, and preventing projecting parts from being formed owing to foreign matter mixed at the time of plating, and to provide such a shaft.例文帳に追加

シャフト本体をメッキ加工したあとで、研磨加工することによって、表面粗度を向上することができ、メッキ加工時に混入する異物による突出部分が生じることがないシャフトの製造方法及びシャフトを提供する。 - 特許庁

Especially, the fluctuation is effectively controlled by discretely Fourier-transforming a data group in which the surface roughness of the boundary on the base substance side of the photoreceptive layer is reflected, so that power spectrum is obtained, and using a value I (S) obtained by standardizing the total sum of respective wave number components.例文帳に追加

特に、この変動を制御するには、感光層の基体側界面の表面粗さを反映するデータ群を離散的なＦｏｕｒｉｅｒ変換し、パワースペクトルを得、その各波数成分の総和を規格化した値Ｉ（Ｓ）を用いると有効である。 - 特許庁

The surface roughness of an opposing face 1b to a shield 5 of an inner ring 1 is set to 0.10 μm or more and 1.0 μm or less, and an oil repelling film 6 with a contact angle to the lubricant J being 50° or more is formed on the opposing face 1b.例文帳に追加

内輪１のシールド５との対向面１ｂの表面粗さ（Ｒａ）を０．１０μｍ以上１．０μｍ以下とするとともに、この対向面１ｂに、潤滑剤Ｊに対する接触角が５０°以上となるような撥油膜６を形成する。 - 特許庁

The plasma display has the partitions on the substrates, where the maximum height Ry of partition top is 10 μm or less, and the arithmetic average of surface roughness Ra of the partition top is 1 μm or less.例文帳に追加

基板上に隔壁が形成されたプラズマディスプレイにおいて、隔壁頂部の最大高さＲｙが１０μｍ以下、かつ隔壁頂部の算術平均粗さＲａが１μｍ以下であることを特徴とするプラズマディスプレイにより達成される。 - 特許庁

This sintered body MgO sputtering target is the one in which the average crystal grain size is ≤10 μm, sintered body density is ≥3.0 g/cm3, deflective strength is ≥100 kgf/mm3 and the center line average roughness Ra in the target surface is ≤1 μm.例文帳に追加

平均結晶粒径１０μｍ以下、焼結体密度３．０ｇ／ｃｍ^3以上、抗折力１００ｋｇｆ／ｍｍ^2以上、ターゲット表面の中心線平均粗さＲａ：１μｍ以下であることを特徴とする焼結体ＭｇＯスパッタリングターゲット。 - 特許庁

The sealed type retroreflective sheet having 0.1 to 1.0 μm surface roughness Ra and excellent characteristics in the antistatic property and printing property is obtained by applying a resin for the binder resin layer having 80 to 400 cP viscosity during coating on the process base material subjected to blast treatment.例文帳に追加

塗工時における粘度が80〜400cPである結合剤層樹脂をブラスト処理された工程基材に塗工することによって、帯電防止性、印刷性に優れた特性を持つ表面粗さRaを0.1〜1.0μmの封入型再帰反射シートを得る。 - 特許庁

To provide a photocurable composition capable of producing a color filter excellent in contrast; a color filter obtained using the same; and a method for evaluating the photocurable composition by which contrast, surface roughness, etc., can be evaluated when a color filter is produced.例文帳に追加

コントラストに優れるカラーフィルターを作製可能な光硬化性組成物、及びこれを用いて得られたカラーフィルター、及び、カラーフィルターを作製した際のコントラストやざらつき等の評価が可能な光硬化性組成物の評価方法を提供すること。 - 特許庁

To solve a problem that surface roughness of a polished face of a workpiece can be reduced by reducing a diameter of an abrasive grain to be used, while efficiency for polishing the workpiece is deteriorated, in polish processing an electronic device such as a magnetic head.例文帳に追加

磁気ヘッド等の電子デバイスの研磨加工においては、使用する砥粒の径を小さくすることによって被加工物の研磨された面の表面粗さを小さくすることができるが、被加工物を研磨する能率は低下することになる。 - 特許庁

In the housing of the extruding device to which the molten lead or lead alloy is fed and the lead stock is extruded by the rotation of the screw disposed inside, the mean roughness (Ra) of the inner surface of the housing is set to be ≤20 μm, preferably, ≤5 μm.例文帳に追加

溶融鉛又は鉛合金が供給され、内部に配置されたスクリューの回転により、鉛素材を押し出す押出装置のハウジングにおいて、このハウジングの内面の平均粗さ（Ｒａ）を２０μｍ以下、好ましくは５μｍ以下とする。 - 特許庁

To obtain an apparatus of collecting an end plate capable of automatically, reliably and neatly accommodating the end plate into a storage container irrespective of slipperiness and roughness of a surface of the end plate and also reducing a height of equipment to save a space of an installation place.例文帳に追加

端板の表面の滑りやすさや粗度に関わらず該端板を自動で確実且つきれいに収容容器内に収容させる一方で、設備の高さを抑えて設置場所の省スペース化を図ることができる端板回収装置を得る。 - 特許庁

To provide an electric discharge machine which can improve the roughness of a machined surface and shorten the machining time by eliminating the abnormal discharge immediately after it is generated, and can variably control the discharge time and the pulse width of the discharge current.例文帳に追加

異常放電を発生直後に解消できるようにして加工面粗さの向上と加工時間の短縮化を図ることができるとともに、放電時間や放電電流のパルス幅などの可変制御が可能な放電加工機を提供する。 - 特許庁

The extrusion die 10 has tapered escape holes 12 on the delivery side of bearing sections 11 which configure the projections, and also has smooth zones 15 with a surface roughness of 10 μm or less in the following areas to the bearing sections 11 on the escape surfaces 13 of the escape holes 12.例文帳に追加

押出用ダイス10は、凸部を成形するベアリング部11の出口側にテーパー状の逃がし孔12が形成され、該逃がし孔12の逃がし面13のベアリング部11に続く部分に、表面粗さが１０μｍ以下となされた平滑領域15を有する。 - 特許庁

Preferably, the irregularities 13 on the surface of the irregularity layer 14 is 0.05 to 5 μm as the arithmetic mean roughness (Ra) stipulated in JIS B 0601-1994 and is 5 to 500 μm as the mean spacing (Sm) of the irregularities 13.例文帳に追加

前記凹凸層１４表面の凹凸部１３は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９９４に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）として０．０５〜５μｍであり、かつ凹凸部１３の平均間隔（Ｓｍ）として５〜５００μｍであることが好ましい。 - 特許庁

In the metallic foil excellent in the peeling strength with the laminated material, the surface roughness of the material which is imparted by rolling in the final rolling is 0.2 to 0.6 μm in Ra, 0.5 to 1.2 μm in Rz and 1.0 to 2.0 μm in Ry.例文帳に追加

最終圧延において圧延によって作り込まれた材料の表面粗さがＲａ：０．２〜０．６μｍ Ｒｚ：０．５〜１．２μｍ Ｒｙ：１．０〜２．０μｍであり、ラミネート材との優れたピーリング強度を持つことを特徴とする金属箔。 - 特許庁

Ten-point average roughness of the light emitting surface 43 is 0.7 μm or more at a light incident side-beltlike range 433 including the first boundary range 431 and a range adjacent to the first boundary range 431 and extending along the light incident end face 41.例文帳に追加

光出射面４３の十点平均粗さは、第１の境界領域４３１とこれに隣接する領域とを含み且つ光入射端面４１に沿って延びる光入射側帯状域４３３において０．７μｍ以上である。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus, and a control method for an image forming apparatus, by which residual material can be removed reliably from an intermediate transfer body, as well as being able to eliminate uneven wear occurring in the intermediate transfer body and to maintain stable surface roughness.例文帳に追加

中間転写体から残留物を確実に除去することができ、かつ、中間転写体に生じた偏磨耗を解消し、表面粗さを安定に保つことができる画像形成装置及び画像形成装置の制御方法、を提供する。 - 特許庁

A developing device 3 is provided with a developing sleeve 3a (developer carrier) arranged to be opposed to a photoreceptor drum 1, and the surface roughness of an end area in the developing area of the sleeve 3a is set to be smaller than that in a center part area.例文帳に追加

現像装置３は、感光ドラム１に対向配置される現像スリーブ３ａ（現像剤担持体）を有し、該現像スリーブ３ａの現像領域における端部領域の表面粗さを中央部領域の表面粗さよりも小さく設定する。 - 特許庁

The highly setting resistant and highly fatigue resistant coil spring using a spring steel wire has a nitrided layer depth of 20μm-50μm, an internal hardness (Vickers hardness) of HV540 or higher as well as a surface roughness Rmax of 15μm or less and a degree of steepness of 0.02 or lower.例文帳に追加

ばね鋼線材を用いた高耐へたり高耐疲労コイルばねとして、窒化層深さを２０μｍ〜５０μｍ、内部硬さ（ビッカース硬度）をＨＶ５４０以上とすると共に、表面粗さＲmaxを１５μｍ以下、急峻度を０．０２以下となるようにした。 - 特許庁

As the surface of an elastic layer formed on the pressing is smoothly finished so that the center mean roughness Ra may become ≤2.0 μm, the abrasion of the pressing roller due to the friction with the rotating pressure roller hardly occurs, then, the satisfactory press contact state is maintained.例文帳に追加

また、押圧ローラが有する弾性層の表面は、中心平均粗さＲａが２．０μｍ以下となる程度に平滑に仕上げられているので回転による加圧ローラとの摩擦によって摩耗が生じにくく、良好な圧接状態が維持される。 - 特許庁