| 意味 | 例文 |
surface- roughnessの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4887件
To provide a measuring device and a measuring method using it which can accurately measure the diameter of the inside part of a small hole even with a very small blind hole not penetrating an object being measured, groove width, roundness, surface roughness, etc.例文帳に追加
被測定物を貫通していない極めて微小な止まり穴であっても、高精度にその微小穴の内側部分の直径、溝の幅、真円度や表面粗さ等を測定することが可能な測定装置およびこれを用いた測定方法を提供する。 - 特許庁
To provide a thin-film sensor which prevents only a part of crystal grains from becoming enormous and the surface roughness of a temperature-sensitive resistor from increasing, and moreover, can obtain high sensitivity by increasing the average diameter of the crystal grains.例文帳に追加
成膜後の熱処理条件に依存することなく、一部の結晶粒のみの巨大化、および感温抵抗体の表面粗さの増大を抑制しつつも、結晶粒の平均粒径を増加させることで、高感度化を達成し得る薄膜センサを提供すること。 - 特許庁
Alternatively, the method for producing the sheet glass in this invention comprises a stage where a base material glass sheet is worked in such a manner that the average surface roughness at the side face in the sheet glass reaches a prescribed value or below in accordance with the section modulus of the sheet glass to be produced.例文帳に追加
また、本発明に係る薄板ガラスの製造方法は、製造する薄板ガラスの断面係数に応じて該薄板ガラスの側面の平均表面粗さが所定値以下となるように母材ガラス板を加工する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁
The photoelectric conversion element includes a photoelectric conversion layer 102 arranged between a pair of electrodes 101 and 104, and an electric charge blocking layer 105 formed between the electrodes 101 and 104, and the photoelectric conversion layer 102, wherein an average surface roughness of the electric charge blocking layer 105 is 2.0 nm or less.例文帳に追加
一対の電極101,104間に配置された光電変換層102と、電極101,104と光電変換層102との間に形成された電荷ブロッキング層105とを備え、電荷ブロッキング層105の表面の平均粗さが2.0nm以下とする。 - 特許庁
(1) The material is a glass cloth having the arrangement pitch of fiber bundles in the arranging direction of the lens elements being within the diameter of the lens element ±5%, (2) a twill or satin woven glass cloth having reduced periodic property of surface roughness and having high smoothness, or (3) a glass paper having no directional property in the arrangement of the glass fiber.例文帳に追加
(1) レンズ素子配列方向のファイバ束配列ピッチがレンズ素子径±5%以内にあるガラスクロス、(2) 表面凹凸の周期性が緩和されて平滑度の高い綾織り又は朱子織りのガラスクロス、(3) ガラスファイバ配列に方向性のないガラスペーパ。 - 特許庁
In the drink dispenser 1, the drink-cooling pipe 3 and discharging cock 5 of a drink lead-out channel, which draft beer contacts when passed through them, is made of austenite-based anti-bacterial stainless steel, and the surface roughness (Ra) of each internal face is 0.3 μm or less.例文帳に追加
本発明の飲料ディスペンサでは、生ビールが通過し接触する飲料導出経路の内、飲料冷却管3及び注出コック5をオーステナイト系の抗菌ステンレス鋼で製作し、その内面の表面粗さ(Ra)を0.3μm以下としている。 - 特許庁
In the oil seal 1 having two stage lip structure as the main lip 4, a roughly machined section 11 is provided in the sliding face 10 of the second stage lip 8, and the surface roughness of the sliding face 10 of the second stage lip 8 is made larger than that of the first stage lip 7.例文帳に追加
主リップ4として2段リップ構造を有するオイルシール1において、2段目リップ8の摺動面10に粗さ加工11を設けることにし、また、1段目リップ7よりも2段目リップ8の摺動面10の表面粗さの方を大きくすることにした。 - 特許庁
To maintain sufficient crystallinity with little surface roughness and to sufficiently maintain an Ir characteristic while high output is realized by thinning an AlGaN barrier layer in an MQW light emitting layer of a group III nitride compound semiconductor light emitting element.例文帳に追加
III族窒化物系化合物半導体発光素子のMQW発光層においてAlGaNバリア層を薄くするとその発光出力が増大する傾向にあるが、薄くし過ぎると結晶性が低下して表面荒れやIr特性の低下が生じる。 - 特許庁
The thin film made of a polytetrafluoroethylene has a thickness of ≤20 μm, a surface roughness (Ra) of ≤0.1 μm, a tensile strength of ≥80 N/mm^2 and a light transmittance of ≥80% to the light of 500 nm wavelength.例文帳に追加
ポリテトラフルオロエチレンからなる薄膜であって、その厚さが20μm以下、表面粗さ(Ra)が0.1μm以下、引張強度が80N/mm^2以上、波長500nmの光に対する光線透過率が80%以上であることを特徴とするポリテトラフルオロエチレン薄膜。 - 特許庁
To provide a copper alloy foil for laminate with small surface roughness, which can be directly bonded with a polyimide film without being roughened, because of adequate wettability with a varnish including polyamic acid, in a two-layer printing circuit board which makes the resin substrate from the varnish as a raw material.例文帳に追加
ポリアミック酸を含むワニスを原料として樹脂基板とする2層プリント配線板において、ワニスとのぬれ性が良好で粗化処理を施さずにポリイミドとの直接接合が可能な表面粗さの小さい積層板用の銅合金箔を提供すること。 - 特許庁
To provide the substrate for a solar cell, which has a surface of moderate roughness for attaining light confinement effect and useful for manufacturing a solar cell exhibiting excellent photoelectric conversion efficiency, when it is used as the substrate of a flexible solar cell, especially a thin film solar cell.例文帳に追加
光閉じ込め効果を得るための適度な粗さの表面を備え、フレキシブルタイプの太陽電池、特に薄膜太陽電池の基材として用いた際、優れた光電変換効率を有する太陽電池を製造するのに有用な太陽電池の基材を提供する。 - 特許庁
In the method for inspecting the compound semiconductor substrate, the surface roughness Rms of the compound semiconductor substrate is measured by using an atomic force microscope at pitches of 0.4 nm or less in a visual field in a square of 0.2 μm or less.例文帳に追加
化合物半導体基板の検査方法は、化合物半導体基板の表面の検査方法であって、0.2μm以下四方の視野で、0.4nm以下のピッチで、原子間力顕微鏡を用いて化合物半導体基板の表面粗さRmsを測定する。 - 特許庁
The temper rolling mill has dull work rollers 1, 2 having the surface roughness of ≥1 μm Ra, the roller diameter of ≥1,000 mm and ≤1,400 mm, and rolls a metal strip S having the 0.2% proof stress of ≤350 MPa at the percentage of elongation of ≥0.2% and ≤3.0%.例文帳に追加
表面粗度が1μmRa以上、ロール径が1000mm以上、1400mm以下のダルワークロール1、2を備え、0.2%耐力が350MPa以下の金属ストリップSを伸び率0.2%以上、3.0%以下で圧延する調質圧延機である。 - 特許庁
Toner has a controlled micro/semi macro roughness ratio, which is represented by the fact that the ratio of {the average of arithmetic mean height (Ra) in an area of 0.5 μm square}/{the average of arithmetic mean height (Ra) in an area of 1 μm square} for the surface of the toner is 0.5 or more.例文帳に追加
トナー表面の{0.5μm四方の領域の算術平均高さ(Ra)の平均}/{1μm四方の領域の算術平均高さ(Ra)の平均}の比率が0.5以上であることで代表されるように、制御されたミクロ/準マクロ粗さ比を有するトナー。 - 特許庁
The negative electrode 23 comprises a negative electrode collector and a negative electrode active material containing bismuth and silicon, in which a thickness [μm] of the electrode active material after lithium absorption, obtained by a predetermined formula is smaller than a surface roughness Rzjis [μm] of the negative electrode collector.例文帳に追加
負極23は、負極集電体と、ビスマスおよびシリコンを含む負極活物質と、を備え、所定の数式により求めたリチウム吸蔵後の負極活物質の厚さ(μm)が、負極集電体の表面粗さRzjis(μm)よりも小さいものである。 - 特許庁
To provide a cleaning apparatus which can maintain high cleaning performance even if surface roughness of an image carrier is increased due to wear and a wet image forming apparatus which is equipped with the cleaning apparatus, thereby can form an image of stable quality.例文帳に追加
摩耗等により像担持体の表面粗さが大きくなっても、高いクリーニング性能を維持できるクリーニング装置、及び該クリーニング装置を備えることにより安定した品質の画像を形成できる湿式画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
In the ozone sensor, the surface of a substrate 10 is smoothed to an average roughness of 0.05 μm or less by gas cluster ion irradiation or the like, and an indium oxide film whose thickness is 0.3 or 0.5 μm is used on it as an ozone resistance variation layer 20.例文帳に追加
本発明に係るオゾンセンサは、基板10の表面がガスクラスタイオン照射などで平均粗さ0.05マイクロメートル以下に平滑化されており、その上ににオゾン感応抵抗変化層20として厚さ0.3ないし0.5マイクロメートルの酸化インジウム膜を用いている。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing of a flexible substrate for a display panel, and to provide the flexible substrate for the display panel which is transparent and thin and has low coefficients of thermal expansion and excellent flexibility, heat resistance, and surface roughness.例文帳に追加
本発明は、ディスプレイパネル用フレキシブル基板及びその製造方法に関し、本発明の目的は、透明でかつ薄膜でありながら、熱膨張係数が低く、柔軟性、耐熱性、及び表面粗さに優れたディスプレイパネル用フレキシブル基板を提供することである。 - 特許庁
The release film has a releasing layer prepared by using a resin composition composed of as main components a polybutylene terephthalate resin and a polymethylpentene resin as resin components and roughning to set the value S_Ra of three dimensional central surface average roughness to 0.3-10 μm.例文帳に追加
樹脂成分としてポリブチレンテレフタレート系樹脂と、ポリメチルペンテン樹脂とを主成分とする樹脂組成物を用い、三次元中心面平均粗さ値S_Raが0.3〜10μmとなるよう粗化加工されている離型層を有する離型フィルムである。 - 特許庁
To obtain a glass material for press-forming in which the deformation is minimized to prevent the fusion of a glass material holding part with glass in heating the glass material to make the surface roughness small and the optical defects such as bubbles or devitrification in the glass material do not occur.例文帳に追加
ガラス硝材を加熱して表面粗さを小さくする際の硝材自身の形状変形を極小にして、硝材保持部とガラスとの融着を防止し、かつ硝材に泡あるいは失透などの光学的欠陥を発生させないプレス成形用ガラス硝材を得る。 - 特許庁
The other flank of a resinous worm wheel 33 is provided with a magnet fixing face 40 having a surface roughness higher than that of other sections of the other flank of the worm wheel 33, and a metallic sensor magnet 39 is fixed to this magnet fixing face 40 by an adhesive.例文帳に追加
樹脂製のウォームホイール33の他側面に、ウォームホイール33の他側面の他の部分の表面粗さよりも粗い表面粗さのマグネット固定面40を設け、このマグネット固定面40に金属製のセンサマグネット39を接着剤により固定した。 - 特許庁
The sheet is made of a thermoplastic polymer having ≥150°C glass transition temperature and has a sheet thickness of 150-1,000 μm, an in-plane thickness tolerance (R max) of ≤20 μm, the sheet surface roughness of ≤0.1 μm and a sheet plane retardation of ≤20 nm.例文帳に追加
このシートは、ガラス転移点150℃以上の熱可塑性高分子からなり、シート厚み150〜1000μm、シートの面内厚み公差(Rmax)20μm以下、シート表面の粗さ0.1μm以下であり、かつシートの平面リタデーション20nm以下である。 - 特許庁
To provide a machining method by which both of ≤100 nm flatness and ≤0.15 nm RMS (Root-Mean-Square) of surface roughness are satisfied in a Ti-doped low thermally expansive quartz glass substrate for a reflection type photomask which is used in the exposure by a short wave in UV region or below.例文帳に追加
UV領域以下の短波長の露光に用いられる反射型フォトマスク用Tiドープ低熱膨張石英ガラス基板につき、平坦度≦100nm、表面の自乗平均平方根粗さ≦0.15nmRMSを同時に満足する加工法を提供する。 - 特許庁
The electrolytic protection method for stainless steel members comprises setting the surface roughness (Rz) of the stainless steel at 0.5 to 40 μm in the electrolytic protection method for the ocean rigs or ships using the stainless steel member as at least a part of the structural material.例文帳に追加
構造材の少なくとも一部としてステンレス鋼部材を用いた海洋鋼構造物又は船舶の電気防食方法において、該ステンレス鋼の表面粗度(Rz)を0.5〜40μmとしたことを特徴とするステンレス鋼部材の電気防食方法。 - 特許庁
A tool 1 provided with a broaching edge 9 for first roughing, a broaching edge 11 for second roughing and a broaching edge 13 for finishing, is inserted into a cylinder bore of a cylinder block 1 and the broaching is performed to form the roughness part in the inner surface 3 of the cylinder bore.例文帳に追加
第1荒加工用ブローチ刃9,第2荒加工用ブローチ刃11および仕上げ加工用ブローチ刃13をそれぞれ備えたブローチ工具5を、シリンダブロック1のシリンダボア内に挿入してブローチ加工を行って、シリンダボア内面3に凹凸部を形成する。 - 特許庁
The composite substrate has ≥180°C glass transition temperature (Tg) or thermal decomposition temperature of the releasable resin sheets, comprises a plastic having <90 ppm coefficient of linear thermal expansion from 150°C to 180°C and has ≤0.5 μm surface roughness (Ry) at the transfer face side.例文帳に追加
剥離性樹脂シートのガラス転移温度(Tg)あるいは熱分解温度が180℃以上であり、150℃から180℃の熱線膨張係数が90ppm未満のプラスチックを含み、かつ転写面側の表面粗さ(Ry)が0.5μm以下であることが望ましい。 - 特許庁
To provide a fluororesin composition for coating, which forms a coating film having excellent releasability and abrasion resistance together with excellent properties of the surface roughness, and further giving less deterioration to a coating object at its film-forming.例文帳に追加
優れた離型性と耐摩耗性を兼備するとともに、表面粗さの面でも優れた特質を備えた塗膜を形成することができ、さらに、塗膜形成のとき、塗装対象物に対する劣化作用が少ない塗装用ふっ素樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a positive resist composition which shows sufficient transmitting property when an exposure light source at ≤160 nm, specifically, F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used and which is improved in surface roughness, development defect, scum and resolving power, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加
160nm以下、具体的にはF_2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源使用時に十分な透過性を示し、表面ラフネス、現像欠陥、スカム、解像力が改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
Growing of the protective film 2 is relatively accelerated at a recessed part 1A than a protruding part 1B of the rare earth magnet element 1, and the growth process of the protective film 2 is so controlled that the film becomes almost flat as a whole, so that surface roughness of the protective film 2 becomes 0.4 μm or less.例文帳に追加
希土類磁石素体1の凸部1Bよりも凹部1Aにおいて相対的に保護膜2の成長が促進され、全体としてほぼ平坦となるように保護膜2の成長過程が制御されるため、保護膜2の表面粗さが0.4μm以下となる。 - 特許庁
The rolling bearing is to be used under a lean lubrication condition where an oil film parameter Λ is ≤0.6, and a mean square ramp Rdq that is a parameter of surface roughness for the raceway surfaces 1a, 2a of the inner and outer wheels 1 and 2 or surfaces of the rolling bodies 3 is set to ≤5°.例文帳に追加
この転がり軸受は、油膜パラメータΛが0.6以下の希薄潤滑条件下で使用されるものであり、前記内外輪1,2の軌道面1a,2aまたは転動体3の表面の表面粗さのパラメータである2乗平均傾斜Rdqを5°以下にした。 - 特許庁
A first conductive layer 102 in an opening is formed so that a surface roughness at the vicinity of an end section 102b of the opening is larger than that at the vicinity of a central section 102c, or a grain diameter of the thin conductive layer at the vicinity of the end section is larger than that at the vicinity of the central section.例文帳に追加
開口部内における第1導電層102の状態は、開口部端部付近102bよりも中心部付近102cにおいて表面粗さがより大きい、もしくは導電性は薄膜の粒径がより大きくなるように形成されている。 - 特許庁
To establish the surface roughness (Rz) thereof at 0.25 μm or less, a flush etching liquid composed of a sulphuric acid with a concentration of 5-50 g/l, a hydrogen peroxide with a concentration of 10-60 g/l, and chloride ions with a concentration of 5-40 ppm, is used to flush-etch the copper plating layer.例文帳に追加
銅配線表面の表面粗さ(Rz)が0.25μm以下にするには、組成が、硫酸濃度5〜50g/l、過酸化水素濃度10〜60g/l、塩素濃度5〜40ppmであるフラッシュエッチング液を使用して、銅メッキ層をフラッシュエッチングする。 - 特許庁
To provide a sizing device in which an AE (acoustic emission) sensor is arranged as near a working point as possible, and surface roughness of a workpiece can be estimated and dressing timing for a grinding wheel can be detected by detecting a clear AE signal with a high S/N ratio during working, and the AE sensor can be easily mounted.例文帳に追加
AEセンサをなるべく加工点の近くに設置し、加工中にS/N比の良い明瞭なAE信号を検出することによりワークの面粗さの推定及び砥石のドレスタイミングの検出を可能とするとともに、AEセンサの取り付けを容易にする。 - 特許庁
The stainless steel wire for the spring which hardly causes seizing or the like and on which a lubricant is uniformly and surely stuck can be obtained by applying the phosphate coating film having fine unevenness and setting the coating film amount of the phosphate coating film and the surface roughness to the values, respectively.例文帳に追加
微細な凹凸を有するリン酸塩皮膜を施し、且つ、リン酸塩皮膜の皮膜量と表面粗さとを上述の値とすることにより、焼付き等が生じにくく、潤滑剤が均一に且つ確実に付着したばね用ステンレス鋼線を得ることができる。 - 特許庁
To prevent surface roughness in an insulating film when the insulating film is subjected to wet cleaning after a polymer film is removed by ashing which polymer film is deposited on a resist pattern, when the insulating film is subjected to plasma etching using an etching gas containing carbon and fluorine.例文帳に追加
絶縁膜に対して炭素及びフッ素を含むエッチングガスを用いるプラズマエッチングを行なったときにレジスト膜の上に堆積されるポリマー膜をアッシングにより除去し、その後、絶縁膜をウェット洗浄した際に該絶縁膜に表面荒れが形成されないようにする。 - 特許庁
The piston, the cylinder , the piston pin and the piston ring used under the wet condition using lubricating oil are provided with amorphous hard film of Si content 1 at% or more and 20 at% or less and of surface roughness Rzjis 0.5 μm or less.例文帳に追加
潤滑油を用いた湿式条件で使用されるピストンリング、ピストン、シリンダ、ピストンピンを、それぞれ、Si含有量が1at%以上20at%以下であり、表面粗さがRzjis0.5μm以下である非晶質硬質炭素膜を備えるよう構成する。 - 特許庁
To provide a flexible metal foil laminate suitable as a board material of all polyimide by eliminating a problem of a small adhesive strength when using a metal foil having small surface roughness of a conventionally known metal foil laminate for a board.例文帳に追加
従来公知の基板用の金属箔積層体が有する前記の表面粗さの小さい金属箔を使用すると接着強度が小さいという問題点を解消した、オ−ルポリイミドの基板材料として好適なフレキシブル金属箔積層体を提供する。 - 特許庁
To prevent surface roughness in an insulating film when the insulating film is subjected to wet cleaning after a polymer film is removed by ashing which polymer film is deposited on a resist pattern, when the insulating film is subjected to plasma etching using an etching gas containing carbon and fluorine.例文帳に追加
絶縁膜に対して炭素及びフッ素を含むエッチングガスを用いるプラズマエッチングを行なったときにレジストパターンの上に堆積されるポリマー膜をアッシングにより除去し、その後、絶縁膜をウェット洗浄した際に該絶縁膜に表面荒れが発生しないようにする。 - 特許庁
This photocatalyst consists of a clay molding which contains a semiconductor having forbidden band width of 0.5 to 5 eV and the surface of which to be irradiated with at least ultraviolet rays has 20-200 μm arithmetical mean roughness.例文帳に追加
0.5〜5eVの禁止帯幅を有する半導体を含有する粘土成形物からなる光触媒体であって、前記粘土成形物の、少なくとも紫外線に照射される表面の算術平均粗さが20〜200μmであることを特徴とする光触媒体。 - 特許庁
As a result, sufficiently low surface roughness, semiconductivity causing no ESD and nearly black color tone to serve as the countermeasure against halation in optical equipment are given to the ceramic having the continuous opening pores by controlling the composition for a starting material or atmosphere of sintering.例文帳に追加
出発原料の組成や焼結の雰囲気などを制御することにより、連続した開気孔を持つセラミックスに、十分に低い面粗度、ESDを引き起こさない半導電性、光学機器でのハレーション対策となる黒に近い色調を与えることができる。 - 特許庁
To provide a positive resist composition which can be suitably used for microphotofabrication using far-UV rays, and particularly ArF excimer laser light and which causes little roughening of the surface during etching and shows preferable edge roughness and little shrinkage during observation by an SEM.例文帳に追加
遠紫外光、特にArFエキシマレーザー光を使用したミクロフォトファブリケーションに於いて好適に使用することができ、エッチング時の表面荒れが少なく、エッジラフネスが良好で、SEM観察時シュリンクが小さいポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
The information recording carrier read by an optical means and consisting of at least a Substrate, a recording layer and a resin layer is characterized in that the plane of the recording layer coming in contact with the resin layer has ≤5 nm surface roughness Rσ.例文帳に追加
光学的手段によって読み取られる情報記録担体であって、支持体と、記録層と、樹脂層とから少なくともなり、前記樹脂層と接する前記記録層の平面の表面粗さRσが、5nm以下であることを特徴とする情報記録担体。 - 特許庁
To improve the durability of a constant velocity universal joint by successfully rounding the edge of a component of the constant velocity universal joint, removing the warping, improving the surface roughness, and effectively preventing the temperature of the constant velocity universal joint while working from rising.例文帳に追加
等速自在継手の構成要素のエッジを良好に丸めて、反りを除去し、更には表面粗さを改善することにより、等速自在継手の作動中の温度上昇を効果的に抑制して、等速自在継手の耐久性向上を図ること。 - 特許庁
The cleaning tape has a cleaning layer containing ferromagnetic powder and a binder and having 6-12 nm surface roughness Ra measured by the MIRAU method on an aromatic polyamide-made support having 1.5-5.5 μm thickness and is 4.0-7.0 μm in the total thickness.例文帳に追加
1.5〜5.5μm厚の芳香族ポリアミド製支持体上に強磁性粉末及び結合剤を含むクリーニング層を有し、該クリーニング層のMIRAU法による表面粗さRa が6〜12nmの範囲にある全体の厚みが4.0〜7.0μmのクリーニングテープ。 - 特許庁
In the sputtering target having an erosion region which is eroded and a non-erosion region which is not eroded on sputtering, the surface roughness (Ra) of the upper face in the non-erosion region is ≥2.0 μm.例文帳に追加
スパッタリングの際に浸食されるエロージョン領域と、浸食されない非エロージョン領域とを有するスパッタリングターゲットにおいて、非エロージョン領域の上面の表面粗さ(Ra)が2.0μm以上であるスパッタリングターゲットを提供することにより上記課題を解決する。 - 特許庁
In a reflection substrate provided with a color filter, a rugged shape of a reflection layer has 0.2 to 0.8 μm surface roughness Ra, the recessed parts of the rugged shape have 0.5 to 1.5 μm depth and the recessed parts of the rugged shape have 5 to 30 μm width.例文帳に追加
本発明のカラーフィルターを備えた反射基板は、反射層における凹凸形状の表面粗さRaは0.2〜0.8μmであり、凹凸形状の凹部の深さが0.5〜1.5μmであり、凹凸形状の凹部の幅が5〜30μmであることを特徴としている。 - 特許庁
A part opposite to a high-frequency heating means of a mold, i.e., a part required for high surface roughness precision and shape precision, is made to have cavity insert type structure, and after the part is moved from the mold to approach the heating means, the mold is heated.例文帳に追加
金型の高周波加熱手段に対向する部分、すなわち高い表面粗さ精度、形状精度を求められる部分を入れ子型構造とし、この入れ子型部分を金型から移動させて高周波加熱手段に接近させた後、前記金型を加熱する。 - 特許庁
To provide a resin composition that shows storage stability at room temperature in a half-hardened state like a thin film, reduced thermal deformation with low expansion coefficient, when it is hardened to form a coating film, and has high adhesion even when the surface roughness is very fine and low.例文帳に追加
フィルム状のような半硬化状態で、室温下において保管安定性を示し、かつ硬化させて塗膜とした際に、低膨張率で熱変形が少なく、微細な低粗度の粗化形状でも高接着性を有する樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
In a mold for injection molding, a magnetic disk substrate is injection-molded in a substrate cavity 22 by using stampers 25, 26 on which surfaces protective films are formed, and setting the surface roughness of the protective films in the range of 0.2 nm to 1.0 nm and very small waviness to 0.5 nm or lower.例文帳に追加
射出成形用の金型の内部に、表面に保護膜が成膜されたスタンパー25,26を用い、保護膜の表面粗さを0.2nmから1.0nmの範囲、微小うねりを0.5nm以下として、基板キャビテイ22内に磁気ディスク基板を射出成形する。 - 特許庁
To obtain a composite material which can give a molded article having good appearance and generating neither a flow mark and roughness on the surface nor dark brown coloration and discoloration caused by burning on the molded article obtained by injection molding and extrusion molding, and to provide the molded article.例文帳に追加
射出成形及び押し出し成形して作製した成形物に焦げの発生による茶褐色化や変色がなく、表面にフローマークや表面荒れが発生しない外観が良好な成形物を作製できる複合材料及び成形物を提供する。 - 特許庁
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