「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(89ページ目) - Weblio英語例文検索

The in-mold transfer film is composed of a polyester film with a center line average surface roughness Ra of 20-50 nm and the antistatic layer containing a cation polymer provided thereon and characterized in that the cation polymer contains a monomer component (a) represented by a specific formula as a polymer constituent component.例文帳に追加

中心線平均表面粗さＲａが２０〜５０ｎｍのポリエステルフィルムおよびそのうえに設けられカチオンポリマーを含有する帯電防止層からなり、カチオンポリマーが特定の式で表されるモノマー成分（ａ）をポリマーの構成成分として含有することを特徴とする、インモールド転写用フィルム。 - 特許庁

In the light incident face 1a or light emission face 1b on which a micro-lens array 10 is formed, a flat face 12 on which the micro-lens array 10 is not formed has surface rouness showing Ra ≥0.1 μm but ≤2 μm, wherein a center line arithmetic average roughness denotes Ra.例文帳に追加

光入射面１ａと光出射面１ｂとのうちのマイクロレンズアレイ１０が形成された方の面のマイクロレンズアレイ１０が形成されていない平面部１２は、中心線算術平均粗さＲａとして０．１μｍ以上、２μｍ以下で表される表面粗さを有する。 - 特許庁

The double-sided releasing film is a film having silicone resin coatings on both faces of the polyester film, wherein surface roughness (Ra) of the silicone resin coating film is 0.020-0.080 μm, the residual adhesion ratio is 80% or more, and thickness variation of the film is 1.0% or less.例文帳に追加

ポリエステルフィルムの両面にシリコーン樹脂塗膜を有するフィルムであって、当該シリコーン樹脂塗膜表面の粗さ（Ｒａ）が０．０２０〜０．０８０μｍであり、残留接着率が８０％以上であり、フィルムの厚さ斑が１．０％以下であることを特徴とする両面離型フィルム。 - 特許庁

In order to improve the quality of the laminated layer structure with respect to the surface roughness and dislocation density, the composition parameter at the interface between the layer in the stack 5 with the gradient composition and the subsequent layer in the stack is chosen to be smaller than the composition parameter (1-xg) of the layer with a gradient composition.例文帳に追加

表面粗さと転位密度に関して積層層構造１の品質を改善するため、スタック５内の勾配組成を有する層と後続層との界面で、組成パラメータが、勾配組成を有する層側の組成パラメータ（１−ｘ_ｇ）よりも小さくなるように選択される。 - 特許庁

In the IC card 1 obtained by molding the surrounding of a semiconductor chip 6 mounted on a circuit sheet 2 with sealing resin 7 and laminating a reinforcing plate 10 on it, surface roughness Rmax on the opposite side of the circuit sheet 2 of a semiconductor chip 6 is set to be within a range from 0.005 μm to 0.5 μm.例文帳に追加

回路シート２上に実装された半導体チップ６の周囲を封止樹脂７にてモールドし、その上に補強板１０を積層したＩＣカード１において、半導体チップ６の回路シート２とは反対側の表面粗さＲmax を、０．００５μｍから０．５μｍの範囲内に設定する。 - 特許庁

At this time, by adjusting the surface roughness Rz on the applying roller 44 to 10 μm or below, preferably to about 5 μm, the silicone oil 40 layer is made possible to be uniform and thin by the controlling roller 45 to the applying roller 45, therefore the excessive feeding onto the heat roller 41, and a faulty derived therefrom can be eliminated.例文帳に追加

この時、塗布ローラ４５の表面粗さＲｚを１０μｍ以下、好ましくは５μｍ程度にすることで、塗布ローラ４５への規制ブレード４６にてシリコーンオイル４０層を均一に、かつ薄くでき、ヒートローラ４１の供給過多、これにる定着の不具合を解消できる。 - 特許庁

The low propagation loss optical waveguide is characterized in that a substrate with a monocrystal layer of Si, SiGe, or Ge, is used to form the optical waveguide on the monocrystal layer, and minute surface roughness present on the side face of the optical waveguide is improved by heat-treating the optical waveguide in a atmosphere of argon at a temperature of 500 to 1350°C.例文帳に追加

Si、SiGe又はGeの単結晶層を有する基板を用いて、該単結晶層に光導波路を形成し、温度500〜1350℃のアルゴン雰囲気中で熱処理することにより、該光導波路の側面に存在する微小な面荒れを改善することを特徴としている。 - 特許庁

The method of producing a semiconductor substrate characterised in that an SiGe layer 2 is grown epitaxially on the silicon substrate 1 subjected to purging at a temperature of 1,000-1,200°C using HCl gas having a concentration of 20% or above to have a surface roughness R_ms of 0.18 nm or above, is used.例文帳に追加

濃度２０％以上のＨＣｌガスを用いて、１０００℃以上１２００℃以下でパージ処理し、表面粗さＲ_ｍｓを０．１８ｎｍ以上としたシリコン基板１上に、ＳｉＧｅ層２をエピタキシャル成長させることを特徴とする半導体基板の製造方法を用いる。 - 特許庁

It is preferable to control the surface roughness Ra of the work damaged layer to ≤0.15 μm and to regulate the total amount of one or more elements among Zr, Nb, Ti, V and Ta as granular-oxide-forming elements contained in the heat-resistant metal to ≤0.5 mass%.例文帳に追加

前記加工変質層の表面粗度Ｒａは０．１５μm 以下とすることが好ましく、また前記耐熱金属に含まれる粒状酸化物形成元素のＺｒ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｖ、Ｔａの１種または２種以上の合計量は０．５mass％以下とすることが好ましい。 - 特許庁

A substrate with a surface roughness Ra of 0.3 nm or less is used as a non-magnetic glass substrate for the magnetic recording medium 1, a magnetic recording layer 5 of granular structure formed on the substrate uses Ta_2O_5 having a Gibbs free energy value of -800 kj/mol or more is used as an oxide material for CoCrPt alloy.例文帳に追加

磁気記録媒体１の非磁性ガラス基板として表面粗さＲａが０．３ｎｍ以下のものを用い、その上に形成されるグラニュラー構造の磁気記録層５を、ＣｏＣｒＰｔ合金に、酸化物材料としてギブス自由エネルギーの値が−８００ｋＪ／ｍｏｌより大きなＴａ_2Ｏ_5を用いた。 - 特許庁

Embossing process is carried out by passing a water-soluble film between an embossed roll marked with uneven shape having satin patterns and a back up roll to form the satin patterns with the surface roughness (Ra) 0.1-8 μm and the uneven pattern with less than 100 meshes and 50-300 μm deep.例文帳に追加

梨地模様をもつ凹凸形状が刻印されたエンボスロールとバックアップロールの間に水溶性フィルムを通過させてエンボス加工を行い、該フィルム面に表面粗さ（Ｒａ）が０．１〜８μｍの梨地模様と１００メッシュ以下で深さが５０〜３００μｍの凹凸模様とを形成させる。 - 特許庁

Each of the models 100-300 is related with attribute information for expressing a requirement (for example, used working tool, surface roughness to be realized, and the like) on the production in a portion corresponding to each constitutive element of each three-dimensional solid model, to the element, using the three-dimensional solid model for expressing a shape as a core.例文帳に追加

それら各モデル１００〜３００は、形状を表す３次元ソリッドモデルを核とし、該ソリッドモデルの各構成要素に対してその要素に対応する部分の製造上の要件（例えば使用する加工工具や実現すべき面粗度など）を示す属性情報を関連づけたものである。 - 特許庁

In the titanium sheet, (a) its thickness is 3.0 mm or less; (b) undulated grooves have a depth of 0.01 to 1.0 mm and an interval of 0.02 to 2.0 mm; and (c) an average surface roughness of the undulated grooves in the forming direction of the undulated grooves is 1 μm or less.例文帳に追加

このチタンシートは、（ａ）厚みが３．０ｍｍ以下であり、（ｂ）凹凸溝の深さが０．０１ｍｍ以上１．０ｍｍ以下であり、かつ凹凸溝の間隔が０．０２ｍｍ以上２．０ｍｍ以下であり、さらに（ｃ）凹凸溝の形成方向に沿った方向の表面平均粗さが１μｍ以下である。 - 特許庁

The tip end of a bump 44B is pressurized at a pressing force of 5 g or more per bump by a transfer plate 10 which is provided with a transfer surface 10s having an irregular part 10a which is formed so that its arithmetic average roughness Ra may range between 0.5 or more and around 1.5 (μm).例文帳に追加

算術平均粗さＲａが０．５以上１．５（μｍ）程度の範囲となるように形成される凹凸１０ａを有する転写面１０ｓを備える転写板１０により、バンプ４４Ｂの先端部が、１バンプ当たり５ｇ以上の押圧力で加圧処理されるもの。 - 特許庁

To provide a signal processor capable of sufficiently removing signal noise caused by an influence of the roughness or the like of a road surface from an output signal of a sensor detecting an attitude state of a vehicle such as a vehicle height sensor and a roll angular velocity sensor in a steady state travel state of the vehicle.例文帳に追加

車両が安定走行状態にある時、車高センサやロール角速度センサ等の車両の姿勢状態を検出するセンサの出力信号から、路面の凹凸等の影響による信号雑音を十分に除去することが可能な信号処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an interlayer insulation material with a high resistance to heat and a low expansion coefficient, and excellent in peel-resistance at a low surface roughness after a roughening process adapted to a (semi)additive process, and well-balanced resin properties such as a coefficient of elasticity, a strength at break and an elongation at break.例文帳に追加

高耐熱で低膨張係数であり、(セミ)アディティブ工法に適合した粗化後の表面粗さが小さいところでの引きはがし強さに優れ、かつ弾性率、破断強度、破断伸びなどのバランスのとれた樹脂物性の層間絶縁材料を提供することである。 - 特許庁

The resin particle dispersion includes, as essential components, a resin particle (A) composed of a resin (a), a resin precursor (B) and a dispersion medium (U), the resin particle (A) having a volume average particle size of 1-300 μm and a center line average roughness on the particle surface of 5-300 nm.例文帳に追加

樹脂（ａ）からなる樹脂粒子（Ａ）、熱可塑性樹脂（Ｂ）、及び分散媒体（Ｕ）を必須成分としてなり、樹脂粒子（Ａ）の体積平均粒径が１〜３００μｍ、かつ樹脂粒子（Ａ）の粒子表面の中心線平均粗さが５〜３００ｎｍであることを特徴とする樹脂粒子分散液。 - 特許庁

The cutting blade, practically, does not comprise a radius part of the cutting blade, and the film is eliminated by cutting to a part close to the cutting blade on the flank, and the film on the rake face has surface roughness less than 0.3 μm over 0.25 mm of measurement length.例文帳に追加

前記切刃が実質的に切刃半径部を含まず、前記被膜が逃げ面上の少なくとも前記切刃の近傍までの研削加工により除去され、且つ前記すくい面上の前記被膜が０．２５ｍｍの測定長さに渡って０．３μｍ未満の表面粗さを有する。 - 特許庁

A memory 11 decides the upper and lower strip coolant flow rates on the basis of the table stored in accordance with the rolling speed determined from the rotating speed measured with a roll tachometer 12 of the last stand and the target surface roughness of the cold-rolled steel sheet, and sends the signal to a valve opening controller 13.例文帳に追加

記憶装置１１は、最終スタンドのロール回転速度計１２で計測される回転速度より求められる圧延速度と冷延鋼板の目標表面粗さより、記憶したテーブルに基づいて上下ストリップ・クーラント流量を決定し、弁開度調整装置１３に送信する。 - 特許庁

To provide an optical recording medium in which the surface roughness of an ink receiving layer is surely reduced and therefore high-quality printing is made possible.例文帳に追加

光透過性基板１１と、透明の支持基板１２と、前記光透過性基板と前記支持基板との間に設けられ明度が８以上、彩度が４以下である接着層２３と、前記支持基板からみて前記光透過性基板とは反対側に設けられた透明のインク受理層２４とを備えている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a polyethylene porous product is used in fixing or moving an article by suction and having an arithmetic average roughness (Ra) of the surface of ≤1 μm at least at its one side, an air flow resistance of 300-1,500 mmAq, and a flexural modulus of 500-7,000 kg/cm2.例文帳に追加

吸引により固定乃至は移動する際に使用する多孔質体の少なくとも片面の表面粗さが算術平均粗さ（Ｒa）で１μｍ以下、通気抵抗を３００〜１５００mmAq、曲げ弾性率が５００〜７０００kg/cm^2のポリエチレン製多孔質体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film forming method in which a coat having a thickness is formed by utilizing a discharge and then the characteristics of the coat, such as coat strength, thermal conductivity, density or surface roughness, are improved by suppressing the enlargement of an alloy layer formed by discharge processing and reducing grain boundaries or voids in the coat.例文帳に追加

放電を利用して厚みを持った被膜を形成させた後、放電加工合金層の拡大を抑制して、被膜内の粒界や空隙を減少させ、被膜の強度・熱伝導率・密度・表面粗さなどの被膜の特性を向上させる成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrostatic latent image developing toner excellent in chargeability, hot storage resistance and moisture uptake resistance, having a sharper particle size distribution, and capable of forming high-definition images without bringing surface roughness of images or causing incomplete wiping or adhesion on a photoreceptor over a prolonged period of time.例文帳に追加

帯電性、耐熱保管性および耐吸湿性に優れ、粒度分布がよりシャープで、長期にわたって画像上のガサツキおよび感光体上の拭き残しや凝着を発生させることなく、高精細画像を形成可能な静電潜像現像用トナーを提供すること。 - 特許庁

When the surface form of the substrate 21 is measured in the measurement range of four quarters whose one side is 5μm by using an atomic force microscope, the number of ridges of textures which are observed at a position higher than the average line of measured roughness curve by 1.5nm is 200 or less.例文帳に追加

同情報記録媒体用ガラス基板２１の表面形状を、原子間力顕微鏡を使用し、１辺が５μｍ四方の測定範囲内で測定したとき、測定された粗さ曲線の平均線よりも１．５ｎｍ高い位置で観測されるテクスチャーの尾根の数は２００個以下である。 - 特許庁

An auxilliary roller 63 includes a metal base 631, a protective layer 632 laminated on the metal base 631, and a release layer 633 laminated on the protective layer 632 and is characterized in that the average surface roughness (Ra) of the protective layer 632 facing the release layer 633 is 0.05 to 3 μm.例文帳に追加

金属基体６３１と、金属基体６３１上に積層される保護層６３２と、保護層６３２上に積層される離型層６３３とを備え、離型層６３３に面する保護層６３２の平均表面粗さ（Ｒａ）は、０.０５μｍ〜３μｍであることを特徴とする補助ロール６３。 - 特許庁

This steel sheet has a plating film which contains 0.20 to 0.50% Al, 8 to 15% Fe and 0.01 to 0.20 Mg and has microrecesses below 50% of an average thickness in plating thickness at 1 to 10% at a cross-sectional length rate and in which the surface roughness Ra thereof is ≤1.2 μm.例文帳に追加

Ａｌ：０．２０〜０．５０％、Ｆｅ：８〜１５％、Ｍｇ：０．０１〜０．２０％含有し、めっき厚さが平均厚さの５０％に満たないミクロ陥没を断面長さ率で１〜１０％有し、その表面粗さＲａが１．２μｍ以下であるめっき皮膜を備えた合金化溶融亜鉛めっき鋼板。 - 特許庁

In this inkjet recording system, the surface roughness Ra of the piezoelectric element is in the range of 0.05 to 2 μm and the ink includes a surfactant.例文帳に追加

インクジェット記録システムは、圧電素子の表面粗さＲａが０．０５〜２μｍであり、かつ前記インクは界面活性剤を含有し、前記界面活性剤の濃度がビヒクル中での臨界ミセル濃度の０．０１〜１．０倍の範囲内にあり、さらに下記式（１）を満たすことを特徴とするインクジェット記録システム。 - 特許庁

To provide an artificial marble which has dimensional stability by lowering mold shrinkage and uniform thickness free from surface roughness, and is lightened without thinning thickness of its product.例文帳に追加

成形収縮を低減して寸法の安定した人造大理石を成形することができ、また面荒れのない均一厚みの人造大理石を成形することができ、さらに製品厚みを薄くする必要なく軽量化した人造大理石を成形することができる人造大理石を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an oxide superconducting thin film, forming a calcination film with roughness generated on the surface suppressed at the time of calcination of a coating film of MOD solution, and capable of forming an oxide superconducting thin film with excellent superconductivity through firing after the calcination.例文帳に追加

ＭＯＤ溶液の塗膜を仮焼する際に、表面に発生する荒れが抑制された仮焼膜を形成して、その後の本焼により優れた超電導特性を有する酸化物超電導薄膜を作製することができる酸化物超電導薄膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

By changing a constitution pattern of a toner image pattern to be formed on an intermediate transfer belt 33 according to a measured value by a sensor S that measures surface roughness of the intermediate transfer belt 33, abrasive particles or lubricant particles are selectively supplied to the cleaning blade 92 when an image is not formed.例文帳に追加

中間転写ベルト３３の表面粗さを測定するセンサＳの測定値によって、中間転写ベルト３３に形成するトナー画像パターンの構成模様を変化させて、非画像形成時にクリーニングブレード９２に研磨粒子又は潤滑粒子を選択的に供給する。 - 特許庁

To provide a pigment dispersion composition excellent in pigment dispersibility and its stability and forming a colored film excellent in contrast, and to provide a colored polymerizable composition using the pigment dispersion composition and forming a colored film excellent in contrast and reduced in surface roughness.例文帳に追加

高い顔料分散性とその安定性に優れ、コントラストに優れた着色膜を形成しうる顔料分散組成物、該顔料分散組成物を用い、コントラストに優れ、表面粗さの低減された着色膜を形成しうる着色重合性組成物を提供する。 - 特許庁

The embolic coil 10 comprises a tungsten alloy wire and is textured by abrasion or sand blast to give the surface substantially uniform roughness constituted of pockets dents with about 0.125-50 micron of diameter and about 0.25-20 micron of depth.例文帳に追加

実施の形態において、塞栓コイル１０はプラチナ・タングステン合金ワイヤから成り、肌理出しはアブレーションまたはサンドブラストによって行い、直径が約０．１２５ミクロン乃至約５０ミクロンで、深さが約０．２５ミクロン乃至約２０ミクロンの窪みから成る実質的に一様な粗さを与える。 - 特許庁

In addition, by controlling the diameter of the particles and pores forming the emission material layer to be even and controlling the density and porosity of the layer, the compactness and the surface roughness are improved in comparison with a cathode made by existing spray method.例文帳に追加

さらに、電子放出物質層を構成する粒子径及び気孔径を均一に制御し、且つ、電子放出物質層の密度及び孔隙率を制御することにより、従来のスプレー方式により製造された陰極に比べて緻密度及び表面平坦度が改善される。 - 特許庁

To provide a metal-metal oxide composite electrode having an excellent industrial productivity and a uniform and sufficient surface roughness, and to provide a dye-sensitized photoelectric conversion device having a large photoelectric current by adsorbing the sensitization dye on the metal-metal oxide composite oxide electrode.例文帳に追加

工業的生産性に優れ、均一でかつ十分な表面粗度をもつ金属−金属酸化物複合電極を提供し、その金属−金属酸化物複合電極に増感色素を吸着させることで光電流の大きい色素増感型光電変換素子を提供する。 - 特許庁

To provide a low friction type antifouling coating which fundamentally prevents the adhesion of various kinds of organisms and foreign matter, has extremely excellent adhesiveness, impact resistance, antifouling property, ship speed frictional resistance and surface roughness, and contributes to the reduction of a fuel cost by the remarkable reduction in the frictional resistance of a ship body.例文帳に追加

各種生物や異物の付着を根本的に防止すると共に、極めて優れた付着性、耐衝撃性、防汚性、船速摩擦抵抗性及び表面粗度を有し、船体の摩擦抵抗の顕著な減少による燃料費削減に寄与する低摩擦型防汚塗料を提供する。 - 特許庁

This printing plate material has at least one image forming function layer on one face of a polyester film support having at lease one layer containing a white pigment, in which the image forming function layer side has a surface roughness Ra of 200 nm to 800 nm.例文帳に追加

白色顔料を含有する層を少なくとも１層有するポリエステルフィルム支持体の一方の面に少なくとも１層の画像形成機能層を有し、画像形成機能層側の表面粗さＲａが２００ｎｍ以上８００ｎｍ以下であることを特徴とする印刷版材料。 - 特許庁

Further, since a roughness of the surface of the recording component after bonding is ≤120 nm, data can be smoothly recorded and erased on a reversible recording layer, and information of the character and the like which are displayed by a reversible heat-sensitive material can be directly confirmed by a user.例文帳に追加

さらに、接着後の記録部材の表面の表面粗さが、１２０ｎｍ以下であることにより、可逆性記録層に円滑にデータを記録及び消去することができ、可逆性感熱材料によって表示された文字などの情報をユーザが直接確認することができる。 - 特許庁

To obtain a cosmetic for local use capable of preventing rough lip skin such as skin peeling off or cut and lip drabness and affording the lip with clear feeling when applied to the lip, and preventing nail damages such as nail surface roughness and nail luster loss when applied to the nails.例文帳に追加

例えば、唇に使用した場合、唇の皮剥けや切れなどの唇の荒れやくすみを防ぎ、且つ、唇に透明感を与え、また、爪に使用した場合は、爪表面のざらつきやツヤの消失などの爪の損傷を防ぐ局所使用用化粧料を提供する。 - 特許庁

This protective sheet for processing a semiconductor wafer comprises a pressure-sensitive adhesive sheet made by laminating a radiation- curable pressure-sensitive adhesive layer on a base film, wherein the base film surface in contact with the pressure-sensitive adhesive layer has an average roughness Ra (μm) greater than 0.01.例文帳に追加

基材フィルム上に放射線硬化型粘着層が積層されている半導体ウエハ加工用粘着シートにおいて、前記基材フィルムの放射線硬化型粘着層と接着する面の平均粗さＲａ（μｍ）が、０．０１＜Ｒａであることを特徴とする半導体ウエハ加工用保護シート。 - 特許庁

To make it possible to suppress formation of a magnetic wall without using special equipment by controlling roughness of a surface on which a soft magnetic underlayer is to be formed in a proper range in a disk substrate for a perpendicular magnetic recording medium wherein the soft magnetic underlayer is formed on a non-magnetic substrate.例文帳に追加

非磁性基体上に軟磁性下地層を形成してなる垂直磁気記録媒体用ディスク基板において、軟磁性下地層を形成すべき表面の粗さを適正範囲内に制御することにより、特殊な設備を用いることなく磁壁の形成の抑制を可能とする。 - 特許庁

An ER effect can be effectively utilized by controlling the maximum height roughness (Rz), defined by JIS Z0601, of the surface of the electrode at a non-immobilized treatment side, to 1-0.001 mm, and the average length (RSm) of a rough curve element to 5-0.001 mm.例文帳に追加

また、非固定化処理がなされた側の電極の表面のＪＩＳ Ｚ０６０１に規定された最大高さ粗さ（Ｒｚ）が１〜０．００１ｍｍであって、粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）が５〜０．００１ｍｍであるとより効果的にＥＲ効果を利用することができる。 - 特許庁

The patterned optical waveguide is composed of a lower clad layer, a core portion, and an upper clad layer, and either one of them is formed of a silica-based compound, and the waveguide is characterized by the fact that the surface roughness (Ra) in the forwarding direction of light in the core portion is 0.4 μm or smaller.例文帳に追加

下部クラッド層、コア部分、上部クラッド層から構成され、それらのいずれか１層がシリカ系化合物から形成されるパターン化された光導波路であって、コア部分の光の進行方向の表面粗さ（Ra）が０．４μｍ以下であることを特徴とする光導波路。 - 特許庁

The apparatus is for producing a belt-like product by carrying out spray coating to the inner face and the outer face of a belt-like substrate and thereby forming a coating as the product and a tool for holding the belt-like substrate is made to have surface roughness Rz in a range of 5 to 30 μm in the circumference and/or a bus direction.例文帳に追加

ベルト状基体の内面又は外面へスプレー塗工し、塗膜を形成して該塗膜をベルト状製品として製造する装置において、前記ベルト状基体を保持する治具の周方向、及び／又は母線方向の表面粗さをＲｚで５〜３０μｍとする。 - 特許庁

Moreover, the semiconductor epitaxial wafer is a semiconductor epitaxial wafer for light-receiving element for receiving electromagnetic waves of a wavelength of 1.8 μm or longer and 3.0 μm or shorter, and the centerline mean roughness Ra measured in the range of a length of 50 to 200 μm on the uppermost surface of the epitaxial layer of the semiconductor epitaxial wafer is 6 nm or lower.例文帳に追加

また、半導体エピタキシャルウェハは、波長が１．８μｍ以上３．０μｍ以下の電磁波を受信する受光素子用の半導体エピタキシャルウェハであって、エピタキシャル層の最表面で、長さ５０〜２００μｍの範囲において測定した中心線平均粗さＲａが６ｎｍ以下である。 - 特許庁

Moreover, truing with a proper amount is applied to the abrasive grains arranged on the end face 5, the side face 3, and the chamfering part 8 to align tips of the abrasive grains so that a radius of the corner curved face part after machining can be reduced and surface roughness of a machined face is improved.例文帳に追加

また、端面５と側面３および面取り部８に配設した砥粒に対して適正な量のツルーイングを施して砥粒の先端を揃えることにより、加工後のコーナー曲面部の半径をより小さくすることができ、また加工面の面粗さも向上する。 - 特許庁