「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(86ページ目) - Weblio英語例文検索

At the cutting of the chip-ceiling face 29, a chip bottom face 30 or the other side face are already cut so that an area for holding the semiconductor light emitting element 24 by an adhesive sheet or the like can be reduced, and the roughness of the surface to be cut by a dicing blade can be increased.例文帳に追加

チップ天面２９を切断する際には、チップ底面３０や他の側面はすでに切断されているので、粘着シートなどで半導体発光素子２４を保持する面積が小さくなり、ダイシングブレードで切断する際の表面の粗度が大きくなる。 - 特許庁

To provide an electroless plating method capable of forming a plating film having excellent adhesion even on a glass substrate of a low surface roughness, and a magnetic recording medium obtained by using the electroless plating method, and a magnetic recording device using the magnetic recording medium.例文帳に追加

低い表面粗さのガラス基板であっても密着性に優れためっき膜を形成できる無電解めっき方法およびこの無電解めっき方法を用いて得られる磁気記録媒体、この磁気記録媒体を用いた磁気記録装置を提供する。 - 特許庁

To provide a wafer-flattening system and a wafer flattening method which improve the surface roughness of a wafer and raise the work efficiency, by so constituting them as to perform the removal of the natural oxide film of a wafer, the flattening, and the smoothing continuously and automatically.例文帳に追加

ウエハの自然酸化膜の除去と平坦化と平滑化とを連続的且つ自動的に行う構成として、ウエハの表面粗さの改善を図ると共に作業能率の向上を図ったウエハ平坦化システム及びウエハ平坦化方法を提供する。 - 特許庁

When the superior device can be manufactured by using the object, having surface roughness Ra of 15 nm or less as measured via a bonding part of the bonded substrate is utilized for manufacturing the ink jet head, the head with high-density and a large area having proper characteristics can be obtained.例文帳に追加

接合された基板の接合部を介して測定された表面粗度Raが15ｎｍ以下のものを用いることにより、より優れたデバイスを作製することが出来、インクジェットヘッド作製に利用した場合、高密度・大面積な特性の良いヘッドを得ることが出来る。 - 特許庁

To provide a reflective liquid crystal display device that substantially completely compensates light leakage occurring upon a black display when the surface roughness of a substrate is optimized so as to capture ambient light in an angle range as wide as possible while preventing reflection on the interface.例文帳に追加

反射型液晶表示装置において、表面の凹凸が界面反射を生じない範囲でできるだけ広い角度から環境光を取り込めるように最適化された場合について、黒表示の際に生じる漏れ光を実質的に完全に補償する。 - 特許庁

In a transfer type image protecting film, the transferable image protecting layer formed on a base sheet is peeled off from the base sheet at transfer so as to be transferred onto an image to be protected, and the surface roughness Ra of the base sheet is 0.03 μm or less.例文帳に追加

基材シート上に転写性の画像保護層が形成されており、転写時に画像保護層が基材シートより剥離して被保護画像上に転写される転写型画像保護フィルムにおいて、上記基材シートの表面粗さＲａが０．０３μｍ以下である。 - 特許庁

A patch 1 for drilling placed on the machined face of a board 2 in drilling the board 2 with a drill 3 to form a through-hole 4 has an outer face opposed to the board 2 with a surface roughness set to be 1.0 μm or less.例文帳に追加

基板２に対してドリル３により穴あけ加工を施してスルーホール４を形成するに際し、基板２の加工面に敷設する穴あけ加工用の当て板１であって、基板２とは反対側に位置する外面の表面粗さを１．０μｍ以下に設定した。 - 特許庁

In the light scattering film having a light scattering layer containing light transmitting fine particles on a transparent base material, the light scattering layer is controlled to have ≥40% haze and 1.5 to 5° average angle in the distribution of angles of the roughness with respect to the surface of the layer.例文帳に追加

透明基材上に、透光性微粒子を含む光散乱層を有する光散乱フイルムにおいて、光散乱層のヘイズ値を４０％以上に、そして、光散乱層の凹凸の表面からの角度分布の平均値を１．５乃至５°に調節する。 - 特許庁

To provide a thermosetting resin composition which is high heat resistant and of a low expansion coefficient, is excellent in such a peeling strength to the small surface roughness after the roughening as is suitable for a (semi)additive process, and is well balanced among the elastic modulus, breaking strength and breaking extension.例文帳に追加

高耐熱で低膨張係数であり、(セミ)アディティブ工法に適合した粗化後の表面粗さが小さいところでの引きはがし強さに優れ、かつ弾性率、破断強度、破断伸びなどのバランスのとれた熱硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

In the sheet for inkjet recording in which a coloring material receiving layer is formed on a substrate provided with a thermoplastic resin layer on a base, the surface roughness of the substrate on the opposite side of the coloring material receiving layer is 4-13 μm.例文帳に追加

基体上に熱可塑性樹脂層が設けられた支持体上に色材受容層が形成されたインクジェット記録用シートにおいて、色材受容層と反対側の支持体表面粗さが４〜１３μｍであることを特徴とするインクジェット記録用シート。 - 特許庁

The determination means 5 determines right or wrong in the processing quality (the quality of anodizing treatment) by detecting the change of the voltage between the first and second electrodes 3a, 3b to monitor the generation of spark to detect surface roughness due to the generation of the spark.例文帳に追加

この判定手段５は、第１、第２電極３ａ、３ｂ間の電圧変動を検出することで、スパーク発生を監視して、スパーク発生による、表面荒れを検出して加工品質（アルマイト処理の品質）の良否判定を行うようにしたものである。 - 特許庁

Thus, when detecting vibration, the low-repulsion rubber is interposed between the vibration pickup and the measuring object 10, thereby absorbs an influence of roughness of the contact surface or the like by the low-repulsion rubber, to thereby enable stable measurement without occurrence of the contact resonance.例文帳に追加

これにより、振動を検出する際には、振動ピックアップと被測定物１０の間に低反発ゴムが介在することになり、接触面の粗さなどの影響を低反発ゴムが吸収するため、接触共振を生じることなく安定した測定ができる。 - 特許庁

The maximum height Ry of the surface roughness is set ≤0.8S, in forming the inner surfaces 15a-17a, 38a-40a, 42a-44a of tubes 15-17 and of the liquid flow passages 38, 39, 43, the pockets 40, 44 and the DPS diffusing section 43 of a three-layer joint extruding die 14.例文帳に追加

管１５〜１７及び３層共押出ダイス１４の液流路３８，３９，４３とポケット４０，４４とＤＰＳ拡散部４３の内面１５ａ〜１７ａ，３８ａ〜４０ａ，４２ａ〜４４ａの表面粗さの最大高さＲｙを０．８Ｓ以下に成形する。 - 特許庁

To make low the feedthrough dislocation density in an SiGe buffer layer and to lessen the surface roughness also of the buffer layer in a semiconductor substrate, a field-effect transistor, the forming method of an SiGe layer, the forming method of a distorted Si layer using this forming method, and the manufacturing method of the field-effect transistor.例文帳に追加

半導体基板と電界効果型トランジスタ並びにＳｉＧｅ層の形成方法及びこれを用いた歪みＳｉ層の形成方法と電界効果型トランジスタの製造方法において、貫通転位密度を低くかつ表面ラフネスも小さくすること。 - 特許庁

The electrogalvanized steel plate is characterized by comprising, on a steel plate to be treated, an electrogalvanized layer in which the skewness (Ssk) of a three-dimensional roughness parameter of an electrogalvanized surface is not smaller than 0.34, and a cut-off wavelength (λc) of spline high-pass filter treatment at the calculation of the Ssk is 10 μm.例文帳に追加

被処理鋼板の上に、亜鉛めっき表面の三次元粗さパラメータのスキューネス（Ｓｓｋ）が0.34以上であり、該Ｓｓｋの算出の際のスプラインハイパスフィルター処理のカットオフ波長（λ_Ｃ）が10μmである電気亜鉛めっき層を具えることを特徴とする。 - 特許庁

The apparatus for measuring belt dimensions comprises two belt support members, which are arranged in parallel with a separation for looping the belt thereover and a measuring means which is arranged around the belt support members for the measurements of the belt's circumference, width, thickness, undulations, edge warpage, edge straightness, surface roughness, or the like.例文帳に追加

ベルトを張り掛ける間隔をおいて平行に配設された２本のベルト支持部材と、該ベルト支持部材の周りに配設され、ベルト周長、幅、厚み、うねり、端部の反り、端部の真直度、表面粗さ等の測定手段とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an insulating adhesive film which is characterized in that when an electroless plating film is formed on the insulating adhesive film it has sufficient adhesive strength even if the surface roughness of the film is small, and to provide a printed wiring board using the film.例文帳に追加

絶縁接着フィルム表面に無電解めっき皮膜を形成した場合、該フィルムの表面粗度が小さくとも充分な接着強度を有することを特徴とする絶縁接着フィルム、及び該フィルムを用いたプリント配線板を提供することである。 - 特許庁

A resin film 8 (for example, a PET film having ≤1 μm surface roughness Ra) having ≤500 μm thickness is brought into contact with a coating liquid on the applicator roll 2 and the contact part of the coating liquid with the resin film is pressurized by a pressure roll 9 through the resin film by 10-2,000 g/cm pressure.例文帳に追加

アプリケータロール２上の塗液に厚さ500 μｍ以下の樹脂フィルム８ (例、表面粗さＲa が１μｍ以下のＰＥＴフィルム) を接触させ、塗液と樹脂フィルムとの接触部を樹脂フィルムを介して10〜2000 g/cm の加圧力で加圧ロール９により加圧する。 - 特許庁

An area which has a support part 11 for supporting a peripheral part of a wafer 1 and comes into contact with at least the wafer 1 of the support part 11 is inclined so as to decrease a height toward the center of the wafer, and a surface roughness Ra of this area is 0.5 μm to 2.0 μm.例文帳に追加

ウェハ１の周縁部を支持する支持部１１を有し、支持部１１のうち少なくともウェハ１と接触する領域が、ウェハ中心に向かい高さを減じるよう傾斜してなり、かつ、該領域の表面粗さＲａが、０．５μｍ〜２．０μｍである。 - 特許庁

This coated film is characterized by having nucleus-free protrusions having a circularity of 1 to 1.6 and comprising an acrylic resin having a glass transition temperature of 45 to 100°C on at least one side of a thermoplastic resin film, and having a surface roughness of 3 to 15 mm.例文帳に追加

熱可塑性樹脂フィルムの少なくとも片面に真円度が１〜１．６である核の無い突起を有するとともに、表面粗さが３〜１５ｎｍであり、かつ前記突起がガラス転移温度が４５〜１００℃のアクリル樹脂からなることを特徴とする塗布フィルム。 - 特許庁

To provide an adhesive film with a copper foil which enables a multilayer printed wiring board where a copper layer having high adhesive strength for an insulating layer is formed to be obtained although surface roughness of the insulating layer formed on a circuit board is extremely small.例文帳に追加

回路基板に形成された絶縁層の表面粗さが極めて小さいにもかかわらず、該絶縁層に対して高い密着強度で銅層が形成された多層プリント配線板を得ることを可能にする銅箔付き接着フィルムを提供することである。 - 特許庁

Roughness of the cleavage flaws 49 reflects at least part of a light LEX which goes to the first end surface 27 from the outside of the group III nitride semiconductor laser device 11 to reduce an amount of light incident from the outside to the group III nitride semiconductor laser device.例文帳に追加

へき開傷４９のラフネスは、III族窒化物半導体レーザ素子１１の外部から第１の端面２７に向かう光ＬＥＸの少なくとも一部を反射して、III族窒化物半導体レーザ素子へ外部から入射する光の量を低減できる。 - 特許庁

To provide a grindstone for grinding a workpiece in high performance by increasing cutting quantity in rough grinding and for grinding the workpiece in high precision to provide surface roughness in high precision in finishing grinding without changing the grindstone in rough grinding and in finishing grinding.例文帳に追加

粗研削時及び仕上げ研削時において砥石の交換をすることなく、粗研削においては切り込み量を大きくして高能率で研削でき、仕上げ研削においては精度の高い表面粗さが得られる高精度で研削できる砥石を提供する。 - 特許庁

The polyolefin resin film comprises 100 pts.wt. polyolefin resin and 0.5-30 pts.wt. glass short fibers, and has a surface roughness of the embossed side of the film in the range of 15-25 μm, a light transmission of ≥60%, and a thickness of 50-500 μm, and its manufacturing method are disclosed.例文帳に追加

ポリオレフィン樹脂１００重量部に対して、ガラス短繊維０．５〜３０重量部を含み、エンボス面の表面粗さが１５〜２５μｍの範囲にあり、光線透過率が６０％以上である、厚さ５０〜５００μｍのポリオレフィン樹脂フィルムおよびその製造方法。 - 特許庁

A contact area of the inorganic coating film 3 and the photocatalyst-containing inorganic coating film 4 is increased by setting a surface roughness Ra of the inorganic coating film 3 to 0.2-3 μm and the adhesion property of the inorganic coating film and the photocatalyst-containing inorganic coating film can be enhanced.例文帳に追加

無機塗膜３の表面粗さＲａを０．２〜３μｍに設定することによって、無機塗膜３と光触媒含有無機塗膜４との接触面積を大きくし、無機塗膜と光触媒含有無機塗膜との密着性を高めることができる。 - 特許庁

To realize a good capacitor characteristic of a semiconductor device, by making suppressible the generation of a roughness on the surface of the insulation film of its capacitor even when making thin the insulation film its capacitor, and by making possible enough the crystallization of the insulation film of its capacitor by using a rapid heating method.例文帳に追加

容量絶縁膜を薄膜化した場合にも容量絶縁膜表面におけるラフネスの発生を抑制できるようにすると共に、急速加熱法により容量絶縁膜を十分に結晶化できるようにして良好な容量特性を実現する。 - 特許庁

The doctor blade produced from a fiber-reinforced plastic prepared by impregnating reinforcing fibers with a matrix resin is characterized in that the reinforcing fibers in the outermost layer on a counter roll-contacting side is a woven fabric, and the maximum height of surface roughness is 2 to 8 μm.例文帳に追加

強化繊維にマトリックス樹脂を含浸せしめてなる繊維強化プラスチック製のドクターブレードにおいて、相手ロールとの接触側の最外層の強化繊維が織物であり、かつ、表面粗さの最大高さが２〜８μｍの範囲内であることを特徴とする。 - 特許庁

The packaging composite sheet is constituted by bonding a thermoplastic film and a nonwoven fabric without interposing an adhesive and the surface roughness Rz of the nonwoven fabric of the composite sheet is 10-100 μm.例文帳に追加

本発明の複合シートは、熱可塑性フィルムと不織布とが接着剤を介することなく接着されてなる複合シートであって、本文で定義する該複合シートの該不織布面の表面粗さが、１０〜１００μｍＲｚであることを特徴とするものである。 - 特許庁

The probes 6, 7 of the surface roughness/contour measuring instrument 1 are connected to a driving part 4 for driving the probes 6, 7 along a prescribed one direction, by a connection member 8 moving the probes 6, 7 along the prescribed one direction with respect to the driving part 4.例文帳に追加

表面粗さ／輪郭形状測定装置１の測定子６、７と、測定子６、７を所定の１方向に駆動する駆動部４との間を、駆動部４に対して所定の１方向に測定子６、７を移動することが可能な連結部材８により連結する。 - 特許庁

The amorphous alloy able to preserve sufficient surface roughness can be obtained at the heating press-molding step not able to avoid when putting to use utilizing excellent characteristics as a metal mold material for molding the optic of the amorphous alloy by containing palladium.例文帳に追加

パラジウムを含有させることで、非晶質合金の光学素子成形金型材料としての優れた特性を活かしながら、利用上不可避である加熱プレス成形工程において、十分な表面粗さを確保できる非晶質合金を得ることができる。 - 特許庁

The negative electrode for the lithium secondary battery contains a base material, having an average surface roughness of 30 Å to 4,000 Å and a lithium layer coated on the base material.例文帳に追加

本発明はリチウム二次電池用負極及びこれを含むリチウム二次電池に関するものであり、前記リチウム二次電池用負極は、平均表面粗度が３０Å乃至４０００Åである基材；及び前記基材上にコーティングされたリチウム層；を含む。 - 特許庁

The silicon oxide film containing the silicon nanoparticle is formed on a semiconductor substrate and has a surface roughness Ry of 10.0-100.0 nm.例文帳に追加

半導体基板上に成膜された、シリコンナノ粒子を含有するシリコンナノ粒子含有酸化ケイ素膜において、該シリコンナノ粒子含有酸化ケイ素膜の表面粗さＲｙが１０．０ｎｍ以上１００．０ｎｍ以下であることを特徴とするシリコンナノ粒子含有酸化ケイ素膜。 - 特許庁

The reflecting layer is provided between the sheet member and recording layer and 10-point mean roughness Rz of the surface of the reflecting layer which is in contact with the recording layer is made smaller than the wavelength of readout light to remarkably suppress scatter of light due to unevenness of the reflecting layer.例文帳に追加

シート部材と記録層との間に反射層を設け、この反射層の記録層に接する表面の十点平均粗さＲｚを読み出し光の波長より小さくすることで、反射層の凹凸による光の散乱が顕著に抑制される。 - 特許庁

To provide a low-carbon sulfur composite free-cutting steel which has excellent machinability including treatability of chips and surface roughness by providing it with a composition of an S-Cr-Mn composite system even if the contents of lead and sulfur are equal to the conventional amounts to be added.例文帳に追加

従来の添加量と同じ鉛量および硫黄量であっても、その組成をＳ−Ｃｒ−Ｍｎの複合系とすることにより、切り屑処理性および表面粗さを含めた被削性に優れた低炭素硫黄複合快削鋼を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film gas sensor and its manufacturing method capable of reducing variations of resistance values of a SnO_2 sensing film by reducing the roughness height of an underlying surface through the flattening prior to formation of a SnO_2 sensing film and minimizing the coarse portion of columnar crystals.例文帳に追加

ＳｎＯ_２感知膜成膜前の下地面を平坦化して凹凸部の高低差を減少させ、柱状晶間が粗になる部分を極力少なくしてＳｎＯ_２感知膜の抵抗値のバラツキを低減させた薄膜ガスセンサ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The light reflecting layer is formed such that (1) the surface roughness value Ra of the flat metallic particles is smaller than 0.02 μm, and (2) the hard coating film serving as the light reflecting film is formed as a layer having the thickness within the range from 0.3 to 1.0 μm.例文帳に追加

光反射層を、▲１▼前記扁平状金属粒子は、該粒子の表面粗さ値をＲａとするとき、Ｒａが０．０２μｍ以下であり、かつ、▲２▼前記光反射層としての前記硬化塗膜は、膜厚が０．３〜１．０μｍである層として形成する。 - 特許庁

In the obtained ALC panel, the application surface of the decorative sheet or the tile formed by cutting the semi-plasticized body 1 with the piano wire 2 reaches 0.4 mm or smaller in average roughness of ten points after the steam curing, and the application of the decorative sheet or the tile is easy.例文帳に追加

得られるＡＬＣパネルは、半可塑体１のピアノ線２での切断によって形成された化粧シート又はタイルの貼着表面が、蒸気養生後における十点平均粗さで０.４ｍｍ以下となり、化粧シート又はタイルの貼着が容易である。 - 特許庁

To highly accurately control the temperature in a continuous annealing furnace of a metal strip, which is rolled by a dull work roll at the final stand and of which the surface roughness varies, thereby manufacturing the metal strip, which is uniform and stable in the quality of the material, in the continuous annealing furnace.例文帳に追加

最終スタンドでダルワークロールにより圧延された表面粗度が変化する金属ストリップの連続焼鈍炉における温度を高精度に制御し、材質にバラツキのない安定した金属ストリップを連続焼鈍炉で製造することを可能とする。 - 特許庁

To improve the electromagnetic transducing property and the durability, in a magnetic recording medium, in which the surface roughness of a nonmagnetic supporting body can be sufficiently relaxed, and in which a nonmagnetic layer is used, by improving the flatness of a magnetic layer, the contact characteristic with a magnetic head, and so forth.例文帳に追加

磁気記録媒体において、非磁性支持体の表面粗さを十分緩和することが可能で非磁性層を用い、磁性層の平滑性，磁気ヘッドに対する当たり特性等を良好にすることにより、電磁変換特性，耐久性を良好にする。 - 特許庁

To provide a grinding method and a grinding device for a rough- surfaced round belt having a large surface roughness by suspending a belt to be ground in 8-letter form on simple two shafts on which the belt can be easily suspended.例文帳に追加

丸ベルトの研削方法及びその装置であって被研削ベルトを容易に懸架できる単純な２軸で８の字状に懸架し研削することによって表面粗さが大きく表面が鮫肌状となった丸ベルトを研削する方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a stainless steel exhaust system component capable of removing burrs generated after the stainless steel exhaust system component is machined and sufficiently securing the surface roughness of the processed face of the exhaust system component after the burrs are removed.例文帳に追加

ステンレス鋼製の排気系部品を機械加工した後に生じるバリを除去することができるとともに、バリが除去された後の排気系部品の加工面の面粗度が十分に確保することができるステンレス鋼製排気系部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To inexpensively provide a magnetic particle carrier for electrification on which a uniform rugged surface having a desired roughness is stably obtained, where the change of the ruggedness is restrained to be small, which is excellent in staining resistance and which is endurable even for a long-term use as a magnetic brush electrifying member.例文帳に追加

安定して均一な所望の粗さの凹凸面が得られ、凹凸の変化が小さく、耐汚染性に優れ、磁気ブラシ帯電部材としての長期使用にも耐える帯電用磁性粒子担持体を安価に提供することを目的とするものである。 - 特許庁

In the wafer prober, where the chuck top conductor layer is formed on the surface of the ceramic board, the face roughness, based on JIS R 0601 of the flank adjacent to the face where the above chuck top conductor layer is made, is Rmax=0.2-200 μm.例文帳に追加

セラミック基板の表面にチャックトップ導体層が形成されてなるウエハプローバにおいて、前記チャックトップ導体層が形成された面に隣接する側面のＪＩＳ Ｒ ０６０１に基づく面粗度は、Ｒｍａｘ＝０．２〜２００μｍであることを特徴とするウエハプローバ。 - 特許庁

To provide a low carbon S-Cr-Mn composite free-cutting steel which has excellent machinability including treatability of chips and surface roughness as compared with the conventional steel having the same sulfur content and lead content even if the content of oxygen is reduced as compared with the conventional one.例文帳に追加

従来量と比べて酸素量を減じても同量の硫黄量および鉛量の従来鋼に比較して、切り屑処理性、表面粗さを含めた被削性に優れ、さらには表面疵の少ない低炭素Ｓ−Ｃｒ−Ｍｎ複合快削鋼を提供する。 - 特許庁

This substrate has an orientation film contacting on the substrate, the relation of the surface roughness Ra of the substrate and the molecular length to form the orientation film is Ra ≤ molecular length, and the thickness of the orientation film is 8 nm or less.例文帳に追加

基材上に接触した配向膜を有する基板であって、基材の表面粗さＲａと配向膜を形成する分子長の関係がＲａ≦分子長であり、かつ、配向膜の厚さが８ｎｍ以下であることを特徴とする基板を提供する。 - 特許庁