「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(87ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an original sheet for a steel sheet for a can in which surface roughness can be stably controlled to the low one, and the defect in a gloss after tinning is not caused, to provide a method for producing the same, to provide a steel sheet for a can obtained from the original sheet, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

めっき原板の表面粗度を安定して小さく制御でき、すずめっき後の光沢不良を引き起こすことのない缶用鋼板用原板とその製造方法ならびにその原板から得られる缶用鋼板とその製造方法を提案する。 - 特許庁

Further, a 2nd heat treatment in an oxidizing atmosphere and/or a reducing atmosphere after the stage of injecting hydrogen ions into the surface of the SOI layer and the 1st heat treatment is performed to remove a damage layer formed as a result of the film thinning processing, recrystallize the damage layer, and improve surface roughness.例文帳に追加

また、前記ＳＯＩ層表面に水素イオンを注入する工程と第１の熱処理の後に、酸化性雰囲気および／または還元性雰囲気で第２の熱処理を施すことをにより薄膜化処理により生じたダメージ層の除去および薄膜化処理により生じたダメージ層の再結晶化および表面ラフネスの改善をすることができる。 - 特許庁

The cast iron member is used for insert casting working using a high pressure aluminum die casting process, and is provided with a modification coating layer for improving its adhesion with an aluminum material on the surface, and also, its surface roughness (Ra) is 5 to 150 μm.例文帳に追加

上記課題を達成するため、高圧アルミニウムダイキャスト法を用いて鋳包み加工に供される鋳鉄部材であって、当該鋳鉄部材は、その表面にアルミニウム材との密着性を向上させるための改質被覆層を備え、且つ、その表面粗さ（Ｒａ）が５μｍ〜１５０μｍであることを特徴とした鋳包み用鋳鉄部材を採用する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for manufacturing a blow molded object of a thermoplastic resin composite material, capable of obtaining the blow molded object in a homogeneous state without generating strain such as roughness or the like on the surface including the inner surface of the hollow part thereof and reducing resistance at the time of extrusion to enhance productivity.例文帳に追加

中空成形体が中空部内面を含む表面に荒れ等の歪みが発生することなく均質な状態のものとして得られると共に、押出し時の抵抗を低減して生産性を向上させることができる熱可塑性樹脂複合材料の中空成形体の製造方法及びその装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a prepreg capable of obtaining an insulation material substrate maintaining a high close adhesion strength of a metal plating even if the surface roughness of the insulation material substrate is low, in the case of forming the metal plating on the surface of the insulation material substrate consisting of the prepreg and capable of satisfying both of excellent fine circuit-forming property and the close adhesion of the metal plating.例文帳に追加

プリプレグからなる絶縁体基材の表面にめっきを形成する場合において、絶縁体基材の表面粗度が低くても、高いめっき密着強度を維持する絶縁体基材を得ることができる、優れたファイン回路形成性とめっき密着性とを両立できるプリプレグを提供することを目的とする。 - 特許庁

The polyester film has a polyester layer constituting the surface of the film having a surface roughness (Ra) within the range of 0.10-1.00 μm and containing 0.3-10 wt.% of particles having an average particle size of 3-10 μm, and contains 0.025-0.25 wt.% of a compound colorable by a laser beam in the film.例文帳に追加

表面粗度（Ｒａ）が０．１０〜１．００μｍの範囲のフィルム表面を構成するポリエステル層が平均粒径３〜１０μｍの粒子を０．３〜１０重量％含有するポリエステルフィルムであって、当該フィルム中にレーザー光によって着色する化合物を０．０２５〜０．２５重量％含有することを特徴とするポリエステルフィルム。 - 特許庁

In this case, the distribution of particle size in the crystal structure of the non-treated copper foil is desirably a share of more than 10% of particle size of ≥1 μm, and the surface of the non-treated copper foil is preferably treated by electrolytic etching to establish the surface roughness Rz of the copper foil of 2.5 μm or less after etching.例文帳に追加

なお、前記未処理銅箔の前記結晶組織における粒状の大きさ分布は、１μｍ以上の粒径が１０％以上を占めていることが望ましく、また、前記電解エッチング処理は、エッチング後の銅箔の表面粗さＲｚが２．５μｍ以下となるように未処理銅箔の表面を電解エッチング処理することが好ましい。 - 特許庁

The target material 10 is formed so that plots in the Ra-h plane representing the combination of surface roughness of a ridgeline part 15 forming a boundary of the side face 13 and the inclined plane 14, and a height h based on the rear surface 12 are included in the first range S1 or the second range S2 which is part of the first range S1.例文帳に追加

側面１３と傾斜面１４との境界線をなす稜線部１５の表面粗さＲａおよび裏面１２を基準とした高さｈの組み合わせを表わすＲａ−ｈ平面におけるプロットが、第１範囲Ｓ１又は第１範囲Ｓ１の一部である第２範囲Ｓ２に含まれるようにターゲット材１０が形成されている。 - 特許庁

To provide a conductive roller for an electrophotographic apparatus which has a surface layer less in surface roughness and high in releasability from toner, easily obtains a nip with other member, and also has an elastic layer having low hardness to have sufficient function even when used as a transfer roller or the like, and to provide a method for manufacturing the conductive roller.例文帳に追加

表面粗さが小さく且つトナーとの離型性が高い表面層を有し、他部材とニップが容易に得られる、あるいは転写ローラなどとして使用した場合でも十分な機能を有するよう弾性層が低硬度を有する電子写真装置用の導電性ローラおよび該導電性ローラの製造方法を提供する。 - 特許庁

In this method for manufacturing this MgO vapor deposition material, MgO powder having a purity ≥98.0% is electrofused and gradually cooled to manufacture an ingot, thereafter a pellet having a predetermined size is manufactured by crushing, and thereafter the surface of the pellet is polished to set its surface roughness Ra in the range of 1.0-10 μm.例文帳に追加

ＭｇＯ蒸着材を製造する方法において、純度が９８．０％以上のＭｇＯ粉末を電融し、徐冷してインゴットを作成した後解砕により所定の大きさのペレットを製造し、その後、該ペレットの表面を研磨してその表面粗さＲａを１．０μｍ〜１０μｍの範囲に設定することを特徴とするＭｇＯ蒸着材の製造方法。 - 特許庁

A lubrication coating film containing at least one kind of a lubrication component selected from among an organic high polymer compound (for example, polyethylene wax), a solid lubricant (for example, molybdenum disulfide) and soap (for example, sodium stearate) is formed on the surface of a steel sheet which has a surface roughness adjusted by shot blast and has an Rzjis of ≥10 μm.例文帳に追加

ショットブラストにより表面粗さを調整した、Ｒｚｊｉｓが１０μｍ以上の鋼板の表面に、バインダー中に有機高分子化合物（例、ポリエチレンワックス）、固体潤滑剤（例、二硫化モリブデン）および石けん（例、ステアリン酸ナトリウム）から選ばれた少なくとも１種の潤滑成分を含有する潤滑皮膜を形成する。 - 特許庁

The mold for molding an optical glass element, having excellent mold releasability from an optical glass element after press molding is obtained by subjecting a molding face formed on the surface of a preform for a mold to etching treatment by a reverse sputtering process to control the surface roughness (Ra^1) of the molding face to 0.01 to 50 nm and further subjecting the molding face to a sputtering process to thereby form a protective layer.例文帳に追加

金型用母材の表面に形成された成形面を逆スパッタリング法によってエッチング処理して、前記成形面の表面粗さ（Ｒａ^１）を０．０１〜５０ｎｍとし、さらにスパッタリング法によって保護層を形成して得た、プレス成形後の光学ガラス素子との離型性に優れる、光学ガラス素子成形用金型。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a microchip capable of performing the surface hydrophylizing treatment of a flow channel forming part without producing roughness or cracks on the surface of a substrate comprising polydimethylsiloxane using ultraviolet rays with a specific wavelength and capable of certainly laminating two substrates to certainly manufacture an object having expected capacity.例文帳に追加

特定波長の紫外線を利用して、ポリジメチルシロキサンよりなる基板の表面に、荒れやクラックを発生させることなく、流路形成部分の表面の親水化処理を行うことができると共に２枚の基板を確実に貼り合わせることができ、従って、所期の性能を有するものを確実に製造することのできるマイクロチップの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a circuit board which ensures adhesion of solder resist onto an insulating layer after a metal foil is removed even in a case where a metal foil having a low surface roughness on the surface adhering to the insulating layer is used, while exhibiting excellent reliability for PCT, having fine wiring, and reducing transmission loss of high frequency signal.例文帳に追加

本発明は、絶縁層と密着する面の表面粗さの小さい金属箔を使用した場合でも、金属箔除去後の絶縁層上のソルダーレジストの密着を確保することができ、ＰＣＴに対する信頼性に優れ、かつ微細配線を有し、高周波信号の伝送損失の少ない回路基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the flat panel display with a rear-face panel having an electron source formed, and a front panel on which a phosphor emitting light by being excited by electrons emitted from the electron source is formed set in opposition through a glass spacer, crater-shaped unevennesses are provided on the surface of the glass spacer, with a surface roughness of 1 μm or more and 20 μm or less.例文帳に追加

電子源が形成された背面パネルと、電子源から放出された電子によって励起されて発光する蛍光体が形成された前面パネルとがガラススペーサを介して対向配置されている平面型表示装置において、ガラススペーサの表面にクレータ状の凹凸を設け、その表面粗さを１μｍ以上、２０μｍ以下とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a glass perform includes preparing a glass perform whose surface roughness is set in a preform preparation step S1, depositing potassium chloride microparticulated in a microparticulation step S2 on the glass perform surface in a deposition step S3, and oxidizing the potassium chloride 4 to potassium oxide, which is diffused inside the glass perform, in an oxidation diffusion heat treatment S4.例文帳に追加

ガラス母材の製造方法は、母材準備工程Ｓ１で表面粗さを設定したガラス母材を準備し、微粒子化工程Ｓ２により微粒子化した塩化カリウム４を堆積工程Ｓ３によりガラス母材表面に堆積し、酸化拡散熱処理Ｓ４により塩化カリウムは酸化されて酸化カリウムとなりガラス母材内部に拡散される。 - 特許庁

To provide a silicon wafer heat treatment method that can suppress the level of oxygen and roughness on the surface of a silicon wafer after RTP (rapid thermal processing), greatly reduce void defects, such as COP (crystal originated particles), made on the surface layer of the wafer, and form high-density oxygen precipitate on the bulk portion of the wafer.例文帳に追加

シリコンウェーハの表面の酸素濃度の低下及びＲＴＰ後のシリコンウェーハの表面の粗さの悪化を抑制することができると共に、ウェーハの表層部におけるＣＯＰ等のボイド欠陥を大きく低減し、かつ、ウェーハのバルク部に酸素析出物を高密度に形成することができるシリコンウェーハの熱処理方法を提供する。 - 特許庁

The antiglare film comprises a particle-containing protective layer deposited on the surface of a transparent film, wherein the protective layer is formed by curing a resin composition containing aggregated particles having an average particle size of 50 to 600 nm, and the layer surface has a maximum height roughness Ry of 1 to 3.2 μm and image clarity property of ≥18%.例文帳に追加

透明フィルム表面に粒子含有保護層が積層されて構成される防眩フィルムであって、保護層が、平均粒径５０〜６００ｎｍの凝集粒子を含む樹脂組成物を硬化させて得られる層であり、その表面において１〜３．２μｍの最大高さ粗さＲｙを有し、かつ１８％以上の写像性を有してなる防眩フィルム。 - 特許庁

A connector contact part 3-b is electrically connected by the insertion of the connector terminal 7 of a fitting connector from the connector contact part end direction of the lug terminal 3, mechanically held, and finished to surface roughness withstanding insertion and extraction of hundreds to thousands of times, and surface treatment such as gold plating is carried out when necessary.例文帳に追加

プラグ端子３の逆端である、コネクタ接点部３−ｂは、プラグ端子３のコネクタ接点部端方向からの嵌合コネクタのコネクタ端子７の挿入により電気的に接続され、機械的にも保持され、数百回から数千回の挿抜に耐えうる表面荒さで仕上げられ、必要に応じて、金メッキ等の表面処理が施される。 - 特許庁

The mirror-faced aluminum material comprises an aluminum base material and a barrier-type anodic oxide coating formed on the surface of the aluminum base material, wherein the aluminum base material contains ≥99.5 wt.% Al, and its surface shows an arithmetical mean roughness Ra of ≤0.1 μm and a mean distance Sm between concaves and convexes of ≥10 μm.例文帳に追加

９９．５重量％以上のＡｌを含有し、表面における０．１μｍ以下の中心線平均粗さＲａと１０μｍ以上の凹凸平均間隔Ｓｍとを有するアルミニウム基材と、その表面に形成され１００〜５００ｎｍの厚さを有するバリア型陽極酸化皮膜とを備えることを特徴とする鏡面アルミニウム材。 - 特許庁

By this heat treatment, a ceramic hard layer 51 containing the oxide or/and nitride of at least one constituent element of a base material 50 itself can be formed in such a way that the content of the oxide or/and nitride is gradually decreased in the direction of depth from the surface toward the base material in ≤10 μm surface roughness variation and/or size variation.例文帳に追加

このような熱処理により、１０μｍ以下の表面粗さ変化量及び／又はサイズ変化量で、母材５０自体の少なくとも１種の構成元素の酸化物又は／及び窒化物を含むセラミック系硬質層５１を、酸化物又は／及び窒化物の含有割合が表面から母材に向う深さ方向に漸次減少するように形成できる。 - 特許庁

The transparent shock absorbing layer A or optical filter is constituted so that a display image having no distortion of the reflected image and having excellent picture quality can be obtained by controlling the surface roughness of the transparent shock absorbing layer by a heat treatment for example and subjecting the transparent shock absorbing layer or the optical filter to a flattening treatment for reducing or removing the ruggedness of the surface.例文帳に追加

透明衝撃吸収層（Ａ）もしくは光学フィルターを、透明衝撃吸収層の表面粗さを制御する、具体的には例えば熱処理などで、該表面の凹凸を低減あるいは消失させる平滑化処理を施すことにより、反射像の歪みがなく、優れた画質のディスプレイ映像を提供できる光学フィルターを得た。 - 特許庁

Because a rotary grinding wheel 1 is scanned to a workpiece 10 in a direction inclined to its rotary surface by only a predetermined angle, an effective radius Re of the rotary grinding wheel 1 becomes large, and the grinding surface roughness is significantly reduced in comparison with the case using a conventional grinding method, so that there is no need of polishing processing as a post-step.例文帳に追加

被加工物１０に対して、回転砥石１をその回転面に対して所定の角度だけ傾斜した方向に走査するため、回転砥石１の実効半径Ｒｅが大きくなり、研削面粗さが従来の研削方法を用いた場合に比べて格段に小さくなり、後工程としての研磨加工が不要になる。 - 特許庁

The antiglare film is formed by laminating the particle-containing protective layer on the surface of the transparent film, wherein the protective layer is obtained by curing a resin composition containing a floc with an average particle diameter of 50-600 nm, and has a maximum height roughness Ry of 1-3.2 μm on the surface and an image clarity of 18% or more.例文帳に追加

透明フィルム表面に粒子含有保護層が積層されて構成される防眩フィルムであって、保護層が、平均粒径５０〜６００ｎｍの凝集粒子を含む樹脂組成物を硬化させて得られる層であり、その表面において１〜３．２μｍの最大高さ粗さＲｙを有し、かつ１８％以上の写像性を有してなる防眩フィルム。 - 特許庁

To provide an epoxy resin composition capable of exhibiting a good close adhesion of a plated layer in the case of being used as a resin insulation layer becoming an underlayer of the plating in a multilayered printed circuit board even if the surface roughness of the roughening-treated surface of the resin insulation layer is smaller than those of conventional ones, a resin film, a prepreg and the multilayered printed circuit board.例文帳に追加

多層プリント配線板におけるメッキの下地となる樹脂絶縁層用材料として用いた場合に、前記樹脂絶縁層の粗化処理表面が従来より表面粗さが小さいにもかかわらず、良好なメッキの密着性を発現することができるエポキシ樹脂組成物、樹脂フィルム、プリプレグ及び多層プリント配線板を提供すること。 - 特許庁

The fine dots are formed on the light reflecting surface of a light guide plate 110 that guides light emitted by a lamp 120 to diffusingly reflect the light, and recessed and protrusion parts having a prescribed roughness are formed on the light outgoing surface of the light guide plate to diffuse the light, thus eliminating a diffusing sheet provided on the light guide plate.例文帳に追加

このように、ランプ１２０から射出された光をガイドする導光板１１０の光反射面に微細ドットを形成して光を拡散反射させ、導光板の光射出面に所定の粗さを有する凹凸を形成して光を拡散させることにより、導光板の上部に備えられる拡散シートを除去することができる。 - 特許庁

In the method for manufacturing the thermoplastic resin film by a melting and extrusion process, the extruded molten thermoplastic resin film is heated and, before the entirety of the film does melt, it is clamped using a thermally pressurizing device having a metallic or a silicon single crystalline plate with a smooth surface having an average surface roughness of Ra 1,000 nm or less.例文帳に追加

溶融押出法で熱可塑性樹脂フィルムを製造する方法において、溶融押出された熱可塑性樹脂フィルムを加熱し、該フィルム全体が溶融しないうちに、平均表面粗さＲａ１０００ｎｍ以下の表面平滑な金属あるいはシリコン単結晶板を有する加熱加圧装置で圧締することを特徴とする熱可塑性樹脂フィルムの製造方法である。 - 特許庁

The method of manufacturing the laminated substrate includes a step of forming a first buffer film having a surface of 0.1 to 10,000 nm in surface roughness R_rms on at least one of a group III nitride semiconductor substrate and a first support substrate and a step of laminating the group III nitride semiconductor substrate on the first support substrate with the first buffer film interposed.例文帳に追加

この貼り合わせ基板の製造方法は、III族窒化物半導体基板及び第１支持基板のうち少なくとも一方上に、表面粗さＲ_ｒｍｓが０．１〜１００００ｎｍの表面を有する第１緩衝膜を形成する工程と、第１緩衝膜を介して、第１支持基板にIII族窒化物半導体基板を貼り合わせる工程とを含む。 - 特許庁

The polyester film includes a polyester layer that constitutes a film surface having a surface roughness (Ra) in a range of 0.1-1.0 μm and contains 3-30 wt.% of particles having an average particle diameter of 3-10 μm and contains 0.05-1.0 wt.% of an organic photochromic compound reversibly coloring by ultraviolet radiation.例文帳に追加

表面粗度（Ｒａ）が０．１〜１．０μｍの範囲のフィルム表面を構成するポリエステル層が平均粒径３〜１０μｍの粒子を３〜３０重量％含有するポリエステルフィルムで、紫外線照射で可逆的に着色する有機フォトクロミック化合物を０．０５〜１．０重量％含有することを特徴としたポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

A fused silica roll having a modulus of elasticity of 45 GPa or higher and a surface roughness Ra of 0.5 μm or smaller is produced by casting a slurry containing a raw fused silica powder material into a mold and molding it, drying the obtained molding, firing the dried molding at 1,150-1,250°C, and subjecting its external surface to grinding and lapping.例文帳に追加

溶融シリカ粉末原料を含むスラリーを型に流し込んで成形し、得られた成形体を乾燥させた後、１１５０℃以上１２５０℃以下で焼成し、外表面に研削加工およびラップ処理を施すことにより、弾性率が４５ＧＰａ以上、かつ、表面粗さＲａが０．５μｍ以下である溶融シリカ質ロールを製造する。 - 特許庁

To provide a polishing cloth which performs texture machining to the finish of super-high precision with extremely small surface roughness of a substrate, suppresses a defect caused by micro chips from polishing and abrasive grains biting into the substrate surface, has a high cleaning effect, and minimizes scratch defects caused by the local cohesion of abrasive grains.例文帳に追加

基板表面粗さが極めて小さい超高精度の仕上げでテクスチャー加工を行うことができ、且つ微細な研磨屑及び砥粒の基板表面への食い込みに起因する欠陥を抑制し、クリーニング効果が高いとともに、局所的な砥粒の凝集などに起因するスクラッチ欠点を極小化することができる研磨布を提供する。 - 特許庁

The support base for an image recording material comprises a base paper and at least two polymer coating layers applied on at least one surface of the base paper, wherein the outermost surface of the support base for an image recording material in the polymer coating layer side shows ≤0.35 μm center face average roughness (SRa) at 5 to 6 mm cut-off length.例文帳に追加

原紙と、該原紙の少なくとも一方の面に少なくとも２層のポリマー被覆層を有してなる画像記録材料用支持体であって、前記画像記録材料用支持体のポリマー被覆層側の最表面におけるカットオフ５〜６ｍｍの中心面平均粗さ（ＳＲａ）が０．３５μｍ以下である画像記録材料用支持体である。 - 特許庁

The metallic optical element 1 has a maximum shape error PV of the optical surface 2 of ≤5μm, has a surface roughness Ra of ≤20 nm, contains either one of Al, Cu, Ni, Ag, Zn, Sn, Fe and Ti by 97 mol% or more and has impurities and inevitable impurities besides the same in which the maximum particle size of the impurities is adjusted to 500μm or less.例文帳に追加

本発明による金属製光学素子１は、光学面２の最大形状誤差ＰＶが５μm以下、表面あらさＲaが２０nm以下であって、アルミニウム，銅，ニッケル，銀，亜鉛，錫，鉄，チタンの何れか１つを９７モル％以上含み、それ以外の不純物および不可避不純物の最大粒径が５００μm以下に調整されている。 - 特許庁

The surface of substrate 12 of hyperfine-grained high cemented carbide alloy with a large content of Co is subjected to roughening treatment to the prescribed surface roughness, thereafter, an intermediate layer 18 of TiAlN is formed by a PVD method without performing removal treatment of Co by means of acid treatment, etc., and the diamond film 16 is applied on the intermediate layer 18 by using a microwave plasma CVD device.例文帳に追加

Ｃｏの含有量が多い超微粒子超硬合金の基材１２の表面を所定の面粗さに荒し加工した後、酸処理等によるＣｏの除去処理を行うことなく、ＰＶＤ法によりＴｉＡｌＮの中間層１８を設け、その中間層１８の上にマイクロ波プラズマＣＶＤ装置を用いてダイヤモンド被膜１６をコーティングした。 - 特許庁

To provide a copper film surface etching method, in which the copper film is oxidized and the oxide product is eliminated by acid, alkaline or the like, a copper oxide film forming method, in which the roughness of the copper film surface after the etching treatment is reduced and which can be performed in a short time and in a proper precision in few steps, a copper film etching method and a semiconductor device manufacturing method.例文帳に追加

銅膜を酸化させその酸化物を酸又はアルカリ等で除去して銅膜表面をエッチングする方法であってエッチング処理を行った後の銅膜表面の荒れが少なく少ない工程で短時間に精度良く行うことができる銅酸化膜の形成方法、銅膜のエッチング方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The release paper 10 is constituted by providing a releasable smoothing layer 2 on one surface of substrate paper and applying a coating solution of a resin composition, which is prepared by uniformly dispersing inorganic and/or organic fine particles in a releasable resin, thereto to form a release layer 3 having fine unevenness with an arithmetic average roughness (Ra) of 0.5-15 μm on its surface.例文帳に追加

離型紙10を、基材紙1 の一方の面に離型性平滑化層２を設け、その上に離型性樹脂に無機及び／又は有機の微粒子を均一に分散させた樹脂組成物の塗布液をコーティングする方法で表面の算術平均粗さ（Ｒa ）が０．５〜１５μｍの微細な凹凸を有する離型層３を形成して構成する。 - 特許庁

In the belt for the image forming apparatus, a layer comprising a curable resin composition having a hardness higher than that of a thermoplastic resin composition is formed on the inner circumferential surface of an endless belt comprising the thermoplastic resin composition, with the thickness of ≤5.0μm and the arithmetic mean roughness Ra of the inner circumferential surface of the layer comprising the curable resin composition is ≤0.10μm.例文帳に追加

熱可塑性樹脂組成物からなるエンドレスベルトの内周面に、前記熱可塑性樹脂組成物より高硬度な硬化樹脂組成物からなる層が５．０μｍ以下の厚さで形成し、かつ前記硬化樹脂組成物からなる層の内周面の算術平均粗さＲａが０．１０μｍ以下である画像形成装置用ベルトとする。 - 特許庁

To provide a decorated sheet having a surface unevenness characterized in that the surface roughness of a wood substrate has the maximum difference of unevenness of 20-80 μm, and the thickness of a transparent olefin resin substrate of 60-90 μm, in the decorated sheet provided with at least a picture pattern layer and the transparent olefin resin substrate in this order on the wood substrate.例文帳に追加

木材基板の上に、絵柄模様層、透明オレフィン系樹脂基材を少なくともこの順に設けてなる化粧シートにおいて、前記木材基板の表面粗さが最大凹凸差２０から８０μｍであり、前記透明絵オレフィン系樹脂基材の厚みが６０〜９０μｍであることを特徴とする表面凹凸を有する化粧シート。 - 特許庁

In a pellicle obtained by stretching a pellicle membrane on a pellicle frame, the light reflectance of the inner face of the frame is adjusted to ≤0.3%, preferably 0.05-0.3% in accordance with the surface roughness (Ra) of the frame or the thickness and color tone of an oxide coating layer on the surface of the frame.例文帳に追加

本発明の半導体リソグラフィ用ペリクルは、ペリクルフレームにペリクル膜が張設されてなるペリクルにおいて、フレーム内面での光線の反射率を０．３％以下、好ましくは０．３％以下０．０５％以上とするものであり、光線の反射率は、フレーム表面の粗さ（Ｒａ）あるいはフレーム表面の酸化皮膜層の厚さ及び色調によって制御される。 - 特許庁

To provide a vapor deposition method of a nitride semiconductor, capable of suppressing a pit to be generated in a growing nitride semiconductor layer concerning the vapor deposition of the nitride semiconductor on a nonpolar surface, and allowing the surface roughness of a root mean square in the nitride semiconductor layer to be not more than 5nm in manufacturing a semiconductor device with high performance.例文帳に追加

無極性面での窒化物系半導体の気相成長において、成長中の窒化物系半導体層に発生するピットを抑制し、かつ、高性能な半導体装置を作製する上で、窒化物系半導体層の自乗根平均の表面粗さを５ｎｍ以下となる窒化物系半導体の気相成長方法を提供する。 - 特許庁

A conductive substrate, of the electrophotographic photoreceptor having an under-coating layer consisting of an organic material and a photosensitive layer on the cylindrical conductive substrate consisting of an aluminum alloy, consists of a non-machined pipe and its substrate surface is roughened by dry blasting process to a surface roughness of 0.1 to 2.0 μm in Rmax.例文帳に追加

アルミニウム合金からなる円筒状の導電性基体上に有機材料からなる下引き層，感光層を備えてなる電子写真用感光体において、導電性基体が無切削管からなり、その基体表面が乾式ブラスト処理により表面粗さがＲ_max で０．１μｍないし２．０μｍに粗面化されている電子写真用感光体とする。 - 特許庁

In a biaxially oriented polyester film having an easy-to-adhere layer consisting of a copolyester resin and a polyurethane resin formed on the single surface thereof, the total light transmissivity of this film is 90% or more and the three-dimensional center plane average surface roughness (SRa) of the easy-to-adhere layer is 0.002-0.010 μm.例文帳に追加

共重合ポリエステル系樹脂及びポリウレタン系樹脂からなる易接着層が片面に形成されている二軸配向ポリエステルフィルムであって、前記フィルムの全光線透過率が９０％以上、さらに前記易接着層の三次元中心面平均表面粗さ（ＳＲａ）が０．００２〜０．０１０μｍであることを特徴とする光学用易接着フィルム。 - 特許庁

This image-forming member comprises at least one image layer and a base containing a cellulose paper the surface of which is impregnated with a water-dispersible ester-based condensation polymer and has the surface of the base having Ra<2.03 μm of roughness and >500 s of hydrophobicity when measured by 40/20 Acid Valley test.例文帳に追加

本発明は、少なくとも１層の画像層と、水分散性エステル系縮合ポリマーによって表面が含浸されているセルロース紙を含むベースとを含んでなる像形成部材であって、前記ベースの表面が、Ｒａが2.03μm 未満の粗さおよび40/20 Acid Valley 試験によって測定した場合に 500秒を超える疎水性を有する像形成部材に関する。 - 特許庁

To provide a practical method and device for detecting a small surface irregularity defect, capable of detecting surely a small concave and convex defect having a contour of the irregularity of several micrometers which is difficult to an automatic detection like the detection by a grinding stone, in an object to be inspected with a coarse surface roughness and a visual inspection which is usually difficult.例文帳に追加

表面粗さの粗い被検査対象物において通常視認困難で、砥石がけ検査により検出しているような自動検出が困難な凹凸が数μm程度でなだらかな輪郭を持つ微小凹凸性疵を確実に検出できる実用的な微小凹凸表面欠陥の検出方法及び装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a horizontal heat treatment furnace which can avoid deterioration of a surface roughness (haze) or generation of metal pollution, even when a silicon mirror surface wafer is subjected to argon annealing at a high temperature in the horizontal furnace, and also to provide a method for manufacturing an annealed wafer which has an excellent quality by performing heat treatment by using the novel horizontal heat treatment furnace.例文帳に追加

シリコン鏡面ウェーハを横型炉で高温でアルゴンアニールしても表面粗さ（ヘイズ）を悪化させたり、金属汚染を発生させることのない横型熱処理炉を提供し、かつこの新規な横型熱処理炉を用いて熱処理を行うことによって優れた品質を有するアニールウェーハを製造することのできるアニールウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁