「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(84ページ目) - Weblio英語例文検索

The reflecting mirror is obtained by forming a fine rugged part (2) having 0.1-10 μm maximum roughness on the surface of a substrate (1) and stacking an aluminum vapor-deposited layer (3), a low refractive index dielectric layer (4) and a high refractive index dielectric layer (5) on the fine rugged part (2).例文帳に追加

基材（１）の表面に、最大粗さ０．１μｍ以上１０μｍ以下の微小な凹凸部（２）を形成し、さらに、その上にアルミニウム蒸着層（３）、低屈折率誘電体層（４）、高屈折率誘電体層（５）を積層してなる。 - 特許庁

This single crystal superabrasive grain is constituted by a plurality of crystalline planes, minute projections are formed on 111 plane and 100 plane among a plurality of crystalline planes, respectively, and the crystalline plane forming the minute projection has surface roughness obtained by a PV value of 0.1-5 μm.例文帳に追加

複数の結晶面で構成される単結晶超砥粒であって、複数の結晶面のうち（１１１）面と（１００）面に微小突起を形成し、微小突起を形成した結晶面はＰＶ値が０．１〜５μｍの表面粗さとする。 - 特許庁

The polypropylene film for the capacitor comprises a polypropylene resin (A) containing a polybutene-1 and having 160-170°C melting point, and has 0.03-0.1 μm ten point-average roughness (Rz) at least on one film surface, and 90-130% gloss.例文帳に追加

ポリブテン−１を含有しかつ融点が１６０〜１７０℃であるポリプロピレン樹脂（Ａ）からなり、少なくとも一方のフイルム表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．０３〜２．０μｍ、グロスが９０〜１３０％であるコンデンサ用ポリプロピレンフイルムとする。 - 特許庁

This belt for the shoe press is characterized in that the sidewall surfaces of the drain grooves are a crepe state having fine unevenness, preferably that the average surface roughness at at least upper 2/3 portions of distances (depths) between groove top portions and groove bottom portions is 10 to 50 μm.例文帳に追加

排水溝側壁の表面状態を微細な凹凸を有する梨地状態、好ましくは、排水溝の側壁のうち、溝頂部と溝底部の距離（深さ）の少なくとも上2/3部分の平均表面粗さが１０〜５０μｍの範囲にする。 - 特許庁

A semiconductor substrate 13 and an electrode plate 14 having an average surface roughness <1 μm caused to adhere closely to each other or arranged at a uniform interval in the range of 0.1 nm to 10 μm are dipped respectively in an electrolytic solution 11.例文帳に追加

電解液１１中に半導体基板１３と半導体基板１３に密着するか又は０．１ｎｍ〜１０μｍの範囲で均一な間隔をあけて配置された平均表面粗さが１μｍ未満の電極板１４とをそれぞれ浸漬する。 - 特許庁

To provide a method for growing a nitride based III-V compound semiconductor layer which can produce a nitride based III-V compound semiconductor substrate having good crystallinity and no surface roughness nor crack with high productivity.例文帳に追加

表面荒れやクラックがなく結晶性も良好な良質の窒化物系ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体基板を高い生産性で製造することができる窒化物系ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体層の成長方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a sulfur and sulfur-composite free cutting steel superior in machinability including a swarf treatment property and the surface roughness, by improving the machinability not through making sulfides into a spindle shape, but through upsizing the sulfides.例文帳に追加

硫化物を紡錘状化することにより被削性を向上させるのではなく、硫化物を大型化することにより、切屑処理性、表面粗さを含めた被削性に優れた硫黄および硫黄複合快削鋼を得ることを可能とする。 - 特許庁

To provide the forming method of a silicon-germanium(SiGe) film, which reduces the surface roughness of the silicon-germanium(SiGe) film and can improve the set up of gate structure and an electric characteristic.例文帳に追加

本発明は、シリコン−ゲルマニウム（ＳｉＧｅ）膜の表面粗さを減らしてゲート構造のセットアップ及び電気的特性を改善することが可能なシリコン−ゲルマニウム（ＳｉＧｅ）膜の形成方法を提供することを可能にすることを目的としている。 - 特許庁

A prosthetic acetabular cup includes a bearing surface layer made from a composite material which includes PEEK resin and at least 20% to 40% short carbon fibers, and a backing layer to provide a barrier and/or porosity and/or roughness.例文帳に追加

ＰＥＥＫ樹脂と少なくとも２０％〜４０％のカーボン短繊維とを含む複合材料で作られた支承表面層、ならびに障壁および／または多孔度および／または粗さをもたらすための裏打ち層、を含む人工寛骨臼カップ。 - 特許庁

The photoreceptor is obtained by combining an intermediate layer which is composed of copolymerized polyamide resin having a specific diamine structure and a metal oxide (titanium oxide, alumina), with a support which is composed of an aluminum alloy having a surface roughness of a specific range.例文帳に追加

特定のジアミン構造を有する共重合ポリアミド樹脂と金属酸化物（酸化チタン、アルミナ）からなる中間層および特定範囲の表面粗度を有するアルミニウム合金からなる支持体を組み合せることによって、上記目的が達成出来る。 - 特許庁

To provide a glass substrate for a magnetic disk, which has very few defects existing on a surface in a level of proximity of 0.1 nm in arithmetic average roughness (Ra), and is suitable as a substrate for a magnetic disk of high recording density, and to provide a magnetic disk.例文帳に追加

算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１ｎｍ近傍におけるレベルにおいて表面に存在する欠陥数が非常に少なく、高記録密度磁気ディスク用の基板として適している磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを提供すること。 - 特許庁

To provide a temper rolling method by which desired roll roughness is transferred to the surface of a metallic strip when applying temper rolling even to a metallic strip which has a low rolling load level and even to an ordinary metallic strip which has a high rolling load level.例文帳に追加

圧延荷重レベルが低い金属ストリップであっても、また、圧延荷重レベルが高い通常の金属ストリップであっても、調質圧延時に金属ストリップ表面に所望のロール粗度を転写することができる調質圧延方法を提供する。 - 特許庁

For preventing longitudinal cracks at multistage forming using a ferritic stainless steel sheet, its components and surface roughness are controlled, thus the lubricating state between a die and a material at forming is made satisfactory.例文帳に追加

本発明は、フェライト系ステンレス鋼板を用いた多段成型加工時の縦割れを防止するため、成分、表面粗さを調整することにより、成型加工時の金型と材料間の潤滑状態を良好にすることにより、縦割れの発生を防止する。 - 特許庁

The surface roughness/contour shape measuring device 1 comprises a moving means 8 for relatively moving the workpiece and the probe 9 in a direction (X) orthogonal to both of a longitudinal direction (Z) of the probe 9 and a longitudinal direction (Y) of the cantilever 7.例文帳に追加

表面粗さ／輪郭形状測定装置１を、触針９の長手方向（Ｚ）とカンチレバー７の長手方向（Ｙ）の両方に直交する方向（Ｘ）に、ワークと触針９とを相対移動させる移動手段８を備えて構成する。 - 特許庁

The arithmetic mean roughness Ra based on JIS of a surface on a PDP-treating-board touching side of the platen for calcination is made to satisfy 1.0 μm≤Ra≤5.0 μm, and the maximum height Ry based on JIS is made to satisfy 7 μm≤Ry≤20 μm.例文帳に追加

焼成用定盤の、ＰＤＰ処理基板と接する側の表面のＪＩＳに基づく算術平均粗さＲａを１．０μｍ≦Ｒａ≦５．０μｍとし、かつ、ＪＩＳに基づく最大高さＲｙを、７μｍ≦Ｒｙ≦２０μｍとなるようにする。 - 特許庁

To provide a glass substrate for a magnetic disk which has very few defects existing on a surface in a level of proximity of 0.1 nm in arithmetic average roughness (Ra), and is suitable as a substrate for a magnetic disk of high recording density, and to provide a magnetic disk.例文帳に追加

算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１ｎｍ近傍におけるレベルにおいて表面に存在する欠陥数が非常に少なく、高記録密度磁気ディスク用の基板として適している磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを提供すること。 - 特許庁

The surface roughness Rz of the releasing agent coating roller is set to ≤10 μm, the edge of the regulating blade abutting on the coating roller is chamfered, and the pressurizing force of the regulating blade to the coating roller is set to 14.7 N/mm to 29.4 N/mm.例文帳に追加

離型剤塗布ローラの表面粗さＲｚを１０μｍ以下にし、規制ブレードの塗布ローラへの当接するエッジを面とりし、規制ブレードの塗布ローラへの加圧力を１４．７Ｎ／ｍｍ乃至２９．４Ｎ／ｍｍにすることができるようにする。 - 特許庁

To provide a surface roughness measuring device having a simple and small-sized device constitution, capable of performing stable measurement even when an inspection object is moved, vibrated or the like, and measuring accurately a fine change of detection light.例文帳に追加

簡素、小型の装置構成でもって、被検査体の移動、振動等がある場合においても安定した計測が可能であり、検出光の微小な変化を正確に計測する事ができる表面粗さ測定装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The surface of a press member 26 protruded partially into a cover storage space and engaged with a container cover is formed into a rough face having the bending central average roughness Ra in the range of 0.50-0.90 μm, particularly in the range of approximately 0.60-0.70 μm.例文帳に追加

蓋収容空間内に部分的に突出せしめられて容器蓋に係合せしめられる押圧部材（２６）の表面を、湾曲した、中心線平均粗さＲａが０．５０乃至０．９０、μｍ、特に０．６０乃至０．７０μｍ程度の粗面にする。 - 特許庁

To provide a color filter which is free from a defect such as surface roughness, has high contrast by using a black matrix having satisfactory accuracy and can be manufactured at low costs, to provide its manufacturing method, and to provide a liquid crystal display which has a constant cell gap and can perform high contrast display.例文帳に追加

表面アレなどの欠陥がなく、精度の良いブラックマトリクスを用い高コントラストであり、且つ低コストで作製可能なカラーフィルタ、その製造方法及びセルギャップが一定で、高コントラストな表示可能な液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

Acquired displacement values of the respective end faces are compared with a previously set reference value to determine whether it is within a prescribed allowance while inspecting one of the length size of the object, the surface roughness of the end faces, and the shapes of the end faces, or a combination of them.例文帳に追加

得られた各端面の変位値を予め設定した基準値と比較して所定の公差内にあるか判定し、被検査物の長さ寸法、端面の表面粗さ及び端面形状の一つ又はそれらの組み合わせを検査する。 - 特許庁

The gas barrier film with a silicon oxide thin film on a polyester film has a thin film thickness of 0.5 to 40nm and a thin film surface roughness Rms in the area of 10 μm square of 3nm or more.例文帳に追加

ポリエステルフィルム上に酸化珪素薄膜を有するガスバリア性フィルムであって、該薄膜の厚さが０．５〜４０ｎｍであり、且つ、該薄膜の１０μｍ角面積の表面粗さＲｍｓが３ｎｍ以上であることを特徴とするガスバリア性フィルム。 - 特許庁

The peel strength in the circumferential direction of the fluororubber coating layer 40 and the core bar 41 is ≥0.30 N/mm and the surface roughness Ra of the fluororubber coating layer 40 is ≤2.5 μm and Rmax is ≤12.0 μm.例文帳に追加

フッ素ゴム被覆層４０と芯金４１との周方向における剥離強度が０．３０Ｎ／ｍｍ以上、フッ素ゴム被覆層４０の表面粗さのＲａが２．５μｍ以下で且つＲｍａｘが１２．０μｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a substrate for a photoreceptor drum which has a resin pipe section 1 and a flange section 2 integrally formed at least at one end of the resin pipe section 1, easily released from a metal mold, and has desired surface roughness.例文帳に追加

樹脂製パイプ部１と該樹脂製パイプ部１の少なくとも一端に一体成形されたフランジ部２とを有する感光ドラム用基体であって、金型からの離型が容易で、且つ所望の表面粗さを有する感光ドラム用基体を提供する。 - 特許庁

A forming method of a plated layer comprises a step of providing a rough surface with a metal foil coated with a primer resin layer, a step of transferring the primer resin layer with roughness to an insulation layer, a step of reducing the primer resin layer for removing an anti-rust material remaining in the metal foil, and a step of plating the primer resin layer with roughness.例文帳に追加

本発明によるメッキ層の形成方法は、粗さが形成された一面に、プライマー樹脂層がコーティングされた金属箔を提供するステップと、粗さが形成されたプライマー樹脂層を絶縁層に転写するステップと、残存する金属箔の防錆物質を除去するためにプライマー樹脂層を還元処理するステップと、粗さが形成されたプライマー樹脂層にメッキを施すステップとを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The optical fiber production apparatus is characterized in that the first, second, and swing guide rollers 7, 9, and 8 around which a primary coated optical fiber 6 passes have surface states satisfying the arithmetic mean roughness Ra≤0.5 μm, the maximum height Ry≤2.7 μm, and the ten-point average roughness Rz≤1.4 μm.例文帳に追加

光ファイバ線引き工程で、被覆材をガラス転移温度以上の温度で第１、第２固定ガイドローラ７，９、揺動ガイドローラ８を通過させる光ファイバの製造方法であって、光ファイバ素線６が通過する第１、第２ガイドローラ７，９、揺動ガイドローラ８の表面状態は、算術平均粗さＲａ≦０．５μｍ、かつ、最大高さＲｙ≦２．７μｍ、かつ、十点平均粗さＲｚ≦１．４μｍの条件を満たす光ファイバの製造方法。 - 特許庁

By constituting the arrangement pitch of the prism bodies or lens bodies within the range of 110 to 330 μm and controlling the surface roughness (Ra: arithmetic average roughness) of the rugged parts 14C to 0.1 μm or smaller, the high luminance characteristics can be provided and, by applying the optical sheet to a liquid crystal display device or a backlight device, a high-quality display image can be obtained.例文帳に追加

これらプリズム体あるいはレンズ体の配列ピッチを１１０μｍ以上３３０μｍ以下の範囲で構成するとともに、凹凸部１４Ｃの表面粗度（Ｒａ：算術平均粗さ）を０．１μｍ以下とすることにより、高い輝度特性が得られるようになり、この光学シートを液晶表示装置あるいはバックライト装置に適用することで、高画質の表示画像を得ることができるようになる。 - 特許庁

In this roll body of heat-transfer recording medium comprising the thin film substrate coated with heat-sensitive transfer ink and a leader tape installed on the thin film substrate on the side of a winding core, a center surface average roughness cap both surfaces of the leader tape is 18 nm or less, and a 10-point average roughness is 750 nm or less.例文帳に追加

感熱転写性インクが塗工された薄膜基材と、この薄膜基材の巻き取りコア側に取り付けられたリーダーテープとからなる熱転写記録媒体が該巻き取りコアに巻き取られてなる熱転写記録媒体のロール体であって、前記リーダーテープの両面の中心面平均粗さが１８ｎｍ以下かつ十点平均粗さが７５０ｎｍ以下であることを特徴とする熱転写記録媒体のロール体。 - 特許庁

Before the dicing tape 200 is stuck, the warpage state of the semiconductor wafer 100 is measured; and one surface of the semiconductor wafer 100 is processed to have smaller surface roughness at a position 101 closer to the side of the dicing tape 200 because of the warpage than at a farther position 102, and then the dicing tape 200 is stuck on the one surface of the semiconductor wafer 100.例文帳に追加

ダイシングテープ２００の貼り付けを行う前に、半導体ウェハ１００の反りの状態を測定し、半導体ウェハ１００の一面のうち当該反りによってダイシングテープ２００側に近くなる部位１０１が、これよりも遠くなる部位１０２に比べて面粗度の小さいものとなるように、半導体ウェハ１００の一面を加工し、しかる後、半導体ウェハ１００の一面にダイシングテープ２００を貼り付ける。 - 特許庁

The card the appearance of which is made favorable can be manufactured from the capability of suppressing a transfer of flaws and irregularities on a surface of recording component hardly generating irregularities on the surface of recording component by applying pressure to the recording component via a buffer component with an in-plane elastic modulus of 350-530 MPa and ≤120 nm in surface roughness of the buffer component.例文帳に追加

面内弾性率が３５０乃至５３０ＭＰａであり、且つ前記緩衝部材の表面粗さが１２０ｎｍ以下である緩衝部材を介して記録部材に圧力を加えることにより、記録部材の表面に殆ど凹凸を生じさせることがなく、且つ傷や凹凸が記録部材の表面に転写されることを抑制することができることから、外観が良好な状態とされるカードを製造することが可能となる。 - 特許庁

The Ni-plated steel sheet for a battery can has a Fe-Ni diffusion layer or a Fe-Ni diffusion layer, and a softened recrystallization Ni-plated layer formed thereon, on the surface equivalent to the battery can outer surface, and a Ni-plated layer containing luster or semi-luster formed on the above layer having surface roughness Ra of 0.2 μm or more.例文帳に追加

本発明の要旨とするところは、電池缶外面に相当する面に、Ｆｅ−Ｎｉ拡散層、またはＦｅ−Ｎｉ拡散層とその上層に再結晶軟質化されたＮｉメッキ層を有し、更にその上層に光沢添加剤含有Ｎｉメッキ層または半光沢剤含有Ｎｉメッキ層を有し、かつその表面粗度Ｒａが０．２μｍ以上であることを特徴とする電池缶用Ｎｉメッキ鋼板である。 - 特許庁

The surface emission laser element 100 has an active layer 4 and an upper DBR mirror 7 as a dielectric multilayer film mirror 7 which are laminated on a substrate 1 wherein the upper DBR mirror 7 has a surface roughness exhibiting a predetermined reflectivity for a laser beam emitted from the surface emission laser element 100 at least on one interface in a dielectric multilayer film constituting the upper DBR mirror.例文帳に追加

面発光レーザ素子１００は、基板１上に積層された活性層４と誘電体多層膜ミラーとしての上部ＤＢＲミラー７とを備え、上部ＤＢＲミラー７は、それを構成する誘電体多層膜内の少なくとも１つの界面に、面発光レーザ素子１００が射出するレーザ光に対して上部ＤＢＲミラー７が所定反射率となる表面粗さを有する。 - 特許庁

Further, the optical fiber array is manufactured so that the surface roughness Ra is made to be ≥10 μm by polishing the incident end surface or the outgoing end surface in the optical incident part where the optical fiber is allowed to converge.例文帳に追加

さらには、光ファイバアレイの光ファイバが収束された光入射部における入射端面を研磨することにより、表面粗さＲａを１０μｍ以上とする光ファイバアレイの製造方法、ならびに、光ファイバアレイの光ファイバが配列された光出射部における出射端面を研磨することにより、表面粗さＲａが１０μｍ以上となるようにしたことを特徴とする光ファイバアレイの製造方法。 - 特許庁

In the method for manufacturing the polymer insulator for molding an insulating outer cover having a plurality of pleats on the periphery of an insulating core body over the longitudinal direction thereof using two split molds, the surface roughness of the whole or a part of the molding surface of one split mold among two split molds is made larger than that of the molding surface of the other split mold.例文帳に追加

２つ割りされた成形金型を用いて絶縁性芯体の周囲にその長手方向にわたって複数の円形状ひだを有する絶縁外被を成形する碍子の製造方法において、前記２つ割りされた成形金型のうちの一方の成形金型の成形表面の全体または一部の表面あらさを他方の成形金型の成形表面の表面あらさより大きくしたことを特徴とする。 - 特許庁

In the friction welding method by making the joining face of a steel tube and that of an aluminum alloy hollow member butt at each other and by relatively rotating them while pressurizing, the joining face of the steel tube is machined to a surface roughness Ra (center line average height) of 1.5-20 μm.例文帳に追加

鋼管とアルミニウム合金中空部材の接合面を突き合わせ、加圧しながら相対的に回転させることによって摩擦圧接する方法において、鋼管の接合面が表面粗さＲａ（中心線平均粗さ）１．５μｍ〜２０μｍに旋削されている。 - 特許庁

In this coating layer 37, its Vickers hardness Hv is 3000 or more, the coefficient of dynamic friction μ is less than 0.15, the surface roughness Ra is less than 0.4, the color tone is less than 5.0 in brightness and the chroma of all chromatic colors is 2.5 or less (for example, gray).例文帳に追加

このコーティング層３７においては、そのビッカース硬度Ｈｖは、３０００以上であり、動摩擦係数μは、０．１５未満であり、表面粗さＲａは、０．４未満であり、色調は、明度５．０以下で、且つ、全ての有彩色の彩度２．５以下（例えばグレー）である。 - 特許庁

This wiper blade rubber 11 made of an elastic body such as rubber is provided with minute recessed and projecting parts each having surface roughness of Rz=1.0 to 5.0 μm in a lip slide part coming into contact with a glass face when at least a lip part 4 of the wiper blade rubber 11 operates.例文帳に追加

ゴム等の弾性体よりなるワイパーブレードラバー１１であって、上記ワイパーブレードラバー１１のリップ部４の少なくとも作動時にガラス面と接触するリップ摺動部に表面粗さＲｚ＝１．０〜５．０μｍの微細な凹凸を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

While ensuring the isolation with the substrate 11 by using the porous layer or foaming layer 17 whose acoustic impedance is considerably small, the thin film bulk acoustic wave resonator with a low loss and high reliability can be attained by smoothing the surface roughness of the acoustic isolation layer 12 by using the intermediate layer 16.例文帳に追加

音響インピーダンスの著しく小さい多孔質層もしくは発泡層17により基板11とのアイソレーションを確保しつつ、中間層16により音響アイソレーション層12の表面の凹凸を平滑化することで、低損失で信頼性の高いものとなる。 - 特許庁

By the formed seal part, even if both pipe bodies are joined by the clamping pressure corresponding to the first pipe body 13 made of quartz glass, required airtightness is ensured and constant airtightness is kept without being affected by the surface roughness of the applied expanded graphite packing 15.例文帳に追加

形成されたシール部により、石英ガラス製の第１管体１３に応じた締付圧で継合しても、所要の気密性を確保すると共に、適用される膨張黒鉛パッキン１５の表面粗さの影響に左右されず一定の気密性を維持する。 - 特許庁

The manufacturing method comprises, hot rolling a slab; cold rolling it to obtain a final sheet thickness, after annealing the hot rolled sheet when needed, or directly after hot rolling, subsequently final annealing it, and temper rolling it to finish the surface roughness so as to be larger than 3.0 μm.例文帳に追加

製造に当たっては、スラブの熱間圧延を行い、必要により、熱延板焼鈍を行ってから、あるいは熱間圧延まま、冷間圧延を行い最終板厚とし、次いで仕上げ焼鈍、調質圧延を行い表面粗さを0.3 μｍ以上に仕上げる。 - 特許庁

The metal foil for the printed-wiring board has its surface roughness of one side 1a at least not more than 2.5 μm of Rz value regulated by the JIS B 0601-1994, and at least scattering Si oxide sites 2 are exposed on the one side 1a.例文帳に追加

少なくとも片面１ａの表面粗さが、ＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９９４で規定するＲｚ値で２.５μｍ以下である金属箔において、その片面１ａには、少なくともＳｉ酸化物サイト２が点在して露出しているプリント配線板用金属箔。 - 特許庁

In a plasma processing chamber 152 of a reactor 150, plasma exposed surfaces of a plasma confinement ring (not shown), chamber wall 172, a chamber liner (not shown) and/or showerhead 154 can be provided with a plasma sprayed coating 160 with surface roughness characteristics that promote polymer adhesion.例文帳に追加

反応器１５０のプラズマ処理チャンバ１５２において、プラズマ閉じ込めリング（不図示）、チャンバ壁１７２、チャンバライナ（不図示）及び／又はシャワーヘッド１５４のプラズマ露出面は、ポリマーの付着を促進する表面粗さ特性を持つプラズマ溶射された被膜１６０を備え得る。 - 特許庁

To provide a production method of an electrogalvanized steel sheet capable of appropriately determining and adjusting by anticipating the variation the surface roughness of the steel sheet before and after plating in production of the electrogalvanized steel sheet using a cold rolled steel sheet as a substrate.例文帳に追加

冷延鋼板を下地とする電気亜鉛めっき鋼板の製造において、めっき前後での鋼板表面粗さ変化を予測し、めっき前の鋼板表面粗さを適切に定め、調整することが可能な電気亜鉛めっき鋼板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The grinding face side of the grinding pad for the semiconductor wafer having an insoluble matrix containing a cross-linked polymer and soluble particles dispersed in the insoluble matrix is formed with a trench whose surface roughness is 20μm or less.例文帳に追加

本発明の加工方法では、架橋重合体を含有する非水溶性マトリックスと、この非水溶性マトリックス中に分散された水溶性粒子とを有する半導体ウェハ用研磨パッドの研磨面側に表面粗さが２０μｍ以下の溝を形成する。 - 特許庁

To bond a ceramic body constituted of aluminum nitride or silicon nitride as a main ingredient and an oxygen-free copper plate, the glossiness of which is 1.1 or more, and the surface roughness Rz of which is 1.0 or less at a low temperature not damaging smoothness of the oxygen free copper plate with sufficient bonding strength.例文帳に追加

窒化アルミニウム又は窒化珪素を主体とするセラミック体と、光沢度１．１以上かつ表面粗さＲｚ１．０以下の無酸素銅板とを、無酸素銅板の平滑性を損なわせない低温で、十分な接合強度をもって接合すること。 - 特許庁