「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(91ページ目) - Weblio英語例文検索

As to this stainless steel sheet stock for a semiconductor producing device, in the surface of a skinpass-rolled sheet, the number of pinholes of >0.25 mm2 size by area is ≤10 pieces per 10 cm2, and the center line average roughness Ra in a direction rectangular to the rolling direction is ≤0.15 μm.例文帳に追加

調質圧延板の表面において、サイズが面積で０．２５ｍｍ^2 を超えるピンホールの数が１０ｃｍ^2 当たり１０個以下であり、かつ圧延方向に直角方向の中心線平均粗さＲａが０．１５μｍ以下である半導体製造装置用ステンレス鋼板素材。 - 特許庁

In the photoelectric conversion element having an electrolyte layer 5 between a dye-sensitized semiconductor electrode 2 and a counterelectrode 3, such as, for example, a dye-sensitized wet solar cell, a light scattering reflective layer 4 whose surface roughness R_a is 30 nm to 10 μm is formed on a side opposed to the electrolyte layer 5 of the counterelectrode 3.例文帳に追加

色素増感半導体電極２と対極３との間に電解質層５を有する光電変換素子、例えば色素増感湿式太陽電池において、対極３の電解質層５に面する側に、表面粗さＲ_a が３０ｎｍ〜１０μｍの光散乱反射層４を形成する。 - 特許庁

Although the electric resistance welded steel tube easily forms an uneven metal thickness or the like depending on its weld zone, the uneven metal thickness or the like can be chipped off while its inner peripheral face is subjected to the rough drawing, and roundness, straightness, surface roughness and the others of the inner peripheral face can satisfactorily be increased by the subsequent finishing.例文帳に追加

また、電気抵抗溶接鋼管は溶接部によって偏肉等が生じ易いが、これを内周面の荒引き加工で削り取ることができ、その後の仕上げ加工により内周面の真円度、真直度、表面粗さ等を良好に高めることができる。 - 特許庁

By controlling the surface roughness of a part of the nitride semiconductor substrate 1 not in contact with the flat face 5 to be greater, the nitride semiconductor substrate 1 in this part receives more radiation heat to increase the temperature, and thereby, uniformity of the in-plane temperature can be improved.例文帳に追加

このように、窒化物半導体基板１が平面５と接触していない部分の表面粗さを大きくすれば、その部分の窒化物半導体基板１はより多くの輻射熱を受けて温度が高くなるので、基板面内温度の均一性を向上させることが可能となる。 - 特許庁

When manufacturing a high-strength cold-rolled steel sheet by performing hot rolling, pickling, cold rolling and annealing of steel stocks, the rolling in the final pass is performed with the draft of ≥ 8 μm by using a work roll of the arithmetic mean surface roughness Ra of ≥ 2.0 μm in the cold rolling before the annealing.例文帳に追加

鋼素材に熱間圧延、酸洗、冷間圧延、そして焼鈍を行って高強度冷延鋼板を製造するに当たり、焼鈍前の冷間圧延において、最終パスの圧延をワークロール表面の算術平均粗さRa2.0μｍ以上のワークロールを用い、圧下量8μｍ以上として行う。 - 特許庁

In a piston base 11 (base) in which admittance of an anodic oxidation coating layer 13 is within a specified range (for example, 0.9 to 2.0 mS) by specifying the surface roughness of the piston base 11 (base) to be 3.0 μmRa or less, good adhesion of a chromium plating layer is reliably obtained in a chromium plating process.例文帳に追加

ピストン基体１１（基体）の表面粗さを3.0μmRa以下と規定することで、陽極酸化皮膜層１３のアドミッタンスが規定範囲（例えば0.9〜2.0mS）内であるピストン基体１１（基体）においては、クロムめっき処理工程において、確実に、クロムめっきの良好な密着性を得ることができる。 - 特許庁

The temper rolling which is ≥0.1% in the elongation percentage is applied to the steel strip having the yield strength of ≥340 MPa by using temper rolling equipment composed of one or more rolling stands which are provided with work rolls in the range of 3.0-10.0 μm in the surface average roughness Ra.例文帳に追加

表面平均粗さＲａが３．０〜１０．０μｍの範囲のワークロールを備えた１以上の圧延スタンドからなる調質圧延設備を用いて、３４０ＭＰａ以上の降伏強度を有する鋼帯に対して、伸び率０．１％以上の調質圧延を施す。 - 特許庁

To provide an optical element and its metal molding device, capable of forming an optical system for an image display device capable of preventing the deterioration of the optical performance such as the moire, the impairing of contrast or the like, by properly combining a plurality of rotary asymmetrical optical surfaces in such manner the surface roughness deteriorating directions thereof are not agreed with each other.例文帳に追加

複数の回転非対称光学面の面粗度劣化方向を一致させないように適切に組み合わせることで、モアレやコントラスト低下等の光学性能劣化を回避しうる映像表示装置用の光学系を構成できる光学素子とその金型装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an alloy film in which the surface roughness of an alloy film can be improved when an alloy film is deposited by a physical vapor deposition process, to provide a method for producing a nonlinear element in which the lower electrode is composed of an alloy film, to provide a nonlinear element, and to provide an electrooptical device.例文帳に追加

物理気相堆積法で合金膜を成膜する際に合金膜表面の表面粗さを改善可能な合金膜の製造方法、下電極が合金膜からなる非線形素子の製造方法、非線形素子、および電気光学装置を提供すること。 - 特許庁

In the substrate for the vertical magnetic recording medium, a cobalt alloy electroless plating membrane containing either phosphorus or boron on a substrate material and the cobalt alloy electroless plating film has 0.05 to 1 nm surface roughness Ra.例文帳に追加

垂直磁気記録媒体用基板であって、基板素材上にリンまたはボロンのいずれかを含有するコバルト合金無電解メッキ膜を設けてなるとともに、そのコバルト合金無電解メッキ膜の表面粗さＲａが、０．０５ｎｍ〜１ｎｍの範囲内である、ことを特徴としている。 - 特許庁

A pellicle having an antireflection layer having mean surface roughness of 1 to 8 nm and formed by using magnesium fluoride is used to provide a pellicle having ≥95% transmissivity over the whole range of an angle of incidence of 0 to 20° of light of 193 nm.例文帳に追加

表面平均粗さが１ｎｍ以上８ｎｍ以下のフッ化マグネシウムを用いて形成される反射防止層を有するペリクルを用いることで、１９３ｎｍの光の入射角が０〜２０°の全ての範囲で透過率が９５％以上のペリクルを提供することが出来る。 - 特許庁

To provide an electrophotographic elastic roller capable securely obtaining satisfactory toner chargeability, toner conveyance, releasability, and so on, thereby obtaining a satisfactory image more securely, by specifying clear indices for adjusting surface roughness of the electrophotographic elastic roller.例文帳に追加

電子写真用弾性ローラの表面粗さを調整するための明確な指標を定め、良好なトナー帯電性、トナー搬送性、離型性などを確実に得ることができ、良好な画像をより確実に得ることができる電子写真用弾性ローラを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a vinyl chloride-based polymerized resin which comprises a macromonomer having, in the main chain, a polymer comprised of a vinyl chloride monomer and an ethylenically unsaturated monomer bearing a double bond and has a small particle surface roughness, a high bulk density and excellent powder flowability.例文帳に追加

粒子表面粗さを小さくさせ、嵩比重が高く、粉体流動性に優れる、塩化ビニル系モノマーと二重結合を含有するエチレン性不飽和モノマーからなる重合体を主鎖に有するマクロモノマーからなる、塩化ビニル系重合樹脂を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of improving the surface roughness of an upper section in a floating gate electrode by performing nitriding process after forming a floating gate and capable of simplifying the nitriding process and a dielectric film formation process in situ.例文帳に追加

フローティングゲートを形成した後、窒化工程を行ってフローティングゲート電極上部の表面荒さを改善することができ、窒化工程と誘電体膜形成工程をインサイチュで行って工程を単純化することが可能な半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The catalytic converter is characterized in that it comprises a catalytic converter casing, in which average roughness R_ZJIS at ten points of an outer surface is equal to or larger than 100 μm and brightness L* in a L*a*b* color system is equal to or less than 20, and the catalyst received in the casing.例文帳に追加

外表面の十点平均粗さＲ_ＺＪＩＳが１００μｍ以上であり且つＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系における明度Ｌ^＊が２０以下である触媒コンバータ用ケーシングと、このケーシングに収容された触媒とを備えることを特徴とする触媒コンバータ。 - 特許庁

In the magnetic tape with a magnetic layer consisting essentially of a magnetic powder and a binder on a nonmagnetic base, the total thickness of the tape is 10.5 to 11.5 μm, the stiffness in TD is 0.8 to 1.3 mN and the optimum range of surface roughness SRH is 17 to 20 mm.例文帳に追加

非磁性支持体上に磁性粉と結合剤とを主成分とする磁性層を有する磁気テープにおいて、テープの全厚が１０．５μｍ以上１１．５μｍ以下、ＴＤのスティフネスが０．８ｍＮ以上１．３ｍＮ以下、表面粗さＳＲＨの最適値範囲が１７ｎｍ以上２０ｎｍ以下である。 - 特許庁

When viewing the recess and projection on the side from the surface of the silicon nitride substrate on the side where a roughness of the recess and projection increases in the silicon nitride substrate, Rmax of the recess and projection is equal to or less than 0.1 mm.例文帳に追加

窒化珪素基板の少なくとも一つの側面に複数の凹部及び凸部が設けられており、前記窒化珪素基板において前記凹凸部の粗さが大きくなっている側の前記窒化珪素基板の表面から前記側面の凹凸部をみたときに、凹凸部のＲｍａｘが０．１ｍｍ以下である。 - 特許庁

The composite sheet with the maximum surface roughness of ≤200 nm comprises a base substrate comprising a fiber fabric and a curable resin, a curable resin layer comprising an inorganic filling material on at least one face side of the base substrate, and furthermore, a curable resin layer containing no inorganic filling material on the outside of it.例文帳に追加

繊維布と硬化性樹脂からなるベース基板と、ベース基板の少なくとも片面側に無機充填材を含む硬化性樹脂層を持ち、更にその外側に無機充填材を含まない硬化性硬化性樹脂層を有する最大表面粗さが２００ｎｍ以下の複合シート。 - 特許庁

To provide a method for forming a PZT thin film which enhances a film composition distribution in a substrate plane, suppresses microscopic variations in generation of crystal grains in the substrate plane, and enhances a surface roughness, and also to provide a method for manufacturing a semiconductor device including this thin film.例文帳に追加

基板面内の膜組成分布を向上せしめると共に、基板面内の結晶粒の発生の微視的なバラツキを抑制し、さらに表面ラフネスの向上を達成することができるＰＺＴ薄膜の形成方法及びこの薄膜を含んでなる半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

A projecting and recessed part controlling layer 3 having minute projecting and recessed parts having 3 to 10 nm average interval and ≤0.5 nm surface roughness is provided under a recording layer 5 of the perpendicular magnetic recording medium provided with the recording layer 5 consisting of an alloy magnetic material containing Co and Pt.例文帳に追加

Ｃｏ及びＰｔを含有する合金磁性材料からなる記録層５を備えた垂直磁気記録媒体の記録層５の下に突起の平均間隔が３〜１０ｎｍで、且つ、表面粗さＲ_ａ が０．５ｎｍ以下である微細な凹凸を有する凹凸制御層３を設ける。 - 特許庁

This thermally peeling type adhesive sheet in which a thermally expandable adhesive layer containing thermally expandable fine spheres is disposed on at least one side of a substrate, characterized in that an average roughness on the central line of the surface of the thermally expandable adhesive layer is ≤0.4 μm, before heated.例文帳に追加

加熱剥離型粘着シートは、基材の少なくとも片側に熱膨張性微小球を含有する熱膨張性粘着層が設けられた加熱剥離型粘着シートであって、加熱前の熱膨張性粘着層表面の中心線平均粗さが０．４μｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

The ceramic-made wiring board comprising the ceramic-made insulating substrate and the wiring conductor layer which is joined with at least one surface of the insulating substrate is characterized in that the mathematical mean roughness of the interface of the conductor layer which is joined with the insulating substrate is ≤1.0 μm.例文帳に追加

セラミック製絶縁基板と、該絶縁基板の少なくとも一方の表面に接合された配線導体層とからなるセラミック製配線基板において、前記導体層の絶縁基板と接合する界面での算術平均粗さが１．０μｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

The roll material is an optical film wound like a roll, the film comprising at least a cellulose acylate film and an optical anisotropic layer thereon containing a fluorine compound and having an average surface roughness (Ra) of not more than 0.05 μm and the film having a water content of 1.1 to 4.0 mass%.例文帳に追加

セルロースアシレートフィルムと、その上に、フッ素系化合物を含有する平均表面粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ以下である光学異方性層とを少なくとも有する、含水率が１．１〜４．０質量％である光学フィルムを、ロール状に巻き取ったロール状物である。 - 特許庁

In the polymer optical waveguide having a smooth core end face, the surface roughness Ra of the core end face is 0.01-0.06 μm and the intermediate position of the core of the polymer optical waveguide is notched by dicing.例文帳に追加

コア端面を有するポリマー光導波路において、該コア端面の表面粗さＲａが０．０１〜０．０６μｍであることを特徴とするポリマー光導波路、及びポリマー光導波路のコアの中間位置にダイシングにより切り込みを形成することを特徴とする上記ポリマー光導波路の製造方法。 - 特許庁

To allow a person who does not have any skill to make any three- dimensional product working model to quickly and easily make a three- dimensional product working model, and to reduce the elastic deformation or plastic deformation of a workpiece, and to establish both working quality such as working precision or working surface roughness and a high working speed.例文帳に追加

３次元製品加工用モデルを作成する技能がなくても短時間で容易に３次元製品加工用モデルを作成し、かつ被加工物の弾性変形や塑性変形を低減し、加工精度や加工表面粗さなどの加工品質と高速な加工速度とを両立させる。 - 特許庁

The method for producing a composite substrate having ≤2 μm surface roughness (Ry) comprises impregnating or coating a fiber cloth with a thermosetting resin composition, drying the fiber cloth to give prepreg, laminating releasable resin sheets to the two sides of the dried prepreg, curing the resin and then releasing the releasable resin sheets.例文帳に追加

繊維布に熱硬化性樹脂組成物を含浸または塗布・乾燥させたプリプレグの表裏に剥離性樹脂シートをラミネートし、樹脂を硬化させた後に剥離性樹脂シートを剥離することを特徴とする表面粗さ（Ｒｙ）が２μｍ以下の複合基板の製造方法。 - 特許庁

In the electrophotographic photoreceptor including at least a photosensitive layer on a conductive support, a surface layer of the photosensitive layer comprises a crosslinked layer formed by curing at least a tri- or higher functional radical-polymerizable monomer not having a charge transporting structure and a monofunctional radical-polymerizable compound having a charge transporting structure, and a surface roughness Rz of the crosslinked surface layer is ≤1.3 μm.例文帳に追加

導電性支持体上に少なくとも感光層を有する電子写真感光体において、該感光層の表面層が少なくとも電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーと１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を硬化した架橋層からなり、該架橋表面層の表面粗さＲｚが１．３μｍ以下であることを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁

The dispersion of the residual stress in a metal surface is unified and the microscopic surface roughness is smoothed to reduce the coefficient of friction with little influence on the dimensions and shapes of the metal, or other characteristics of the metal by allowing the AC current to run in the metal immersed in an electrolyte 3 of ≥7 pH through the electrolyte 3.例文帳に追加

本発明では、ｐＨ７以上の電解液３中に浸積された金属に、この電解液３を介して交流電流を流すことにより、金属の寸法形状や金属の有する他の特性に殆ど影響を及ぼすことなく、金属表面における残留応力のばらつきを均一化するとともに、微視的な表面粗さを平滑化して摩擦係数を下げる。 - 特許庁

In this volatile organic substance detection sensor 1, a first electrode 3 and a second electrode 4 are provided on the surface of an oxygen ion conductive solid electrolyte 2, and roughness of the surface of the oxygen ion conductive solid electrolyte 2 on a bonding interface 5 with the first electrode 3 is different from that on a bonding interface 6 with the second electrode 4.例文帳に追加

上記の目的を解決するために、この発明の揮発性有機物検出センサ１は、酸素イオン伝導性固体電解質２の表面に第１の電極３と第２の電極４が設けられており、酸素イオン伝導性固体電解質２の表面の粗さが第１の電極３との接合界面５と第２の電極４との接合界面６において異なるものである。 - 特許庁

Since a channel is formed in the n-type channel layer located beneath the p-type channel layer touching a gate oxide film 7 and a current can be fed thereto when a PN junction is formed in the surface channel layer 5, a channel can be formed regardless of the roughness or residual defect of the interface (MOS interface) between the gate oxide film 7 and the surface channel layer 5.例文帳に追加

このように、表面チャネル層５にＰＮ接合を形成することにより、ゲート酸化膜７と接するｐ型チャネル層の下部に位置するｎ型チャネル層にチャネルを形成して電流を流すことができるため、ゲート酸化膜７と表面チャネル層５との界面（ＭＯＳ界面）のラフネス又は残留欠陥とは関係なく、チャネルを形成することができる。 - 特許庁

The conductive laminate is characterized by sequentially forming on one surface of a transparent substrate layer a particle-containing resin layer and a transparent conductive layer, wherein the particle-containing resin layer contains an aggregate of inorganic particles and arithmetic average roughness (Ra) by JISB0601-2001 of a surface on which the transparent conductive layer is formed in the particle-containing resin layer is 0.05 to 0.5 μm.例文帳に追加

導電性積層体は、透明基材層の一方の面に、粒子含有樹脂層、透明導電層の順に形成され、前記粒子含有樹脂層は、無機粒子の凝集体を含有し、前記粒子含有樹脂層の前記透明導電層が形成された面におけるＪＩＳＢ０６０１−２００１による算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５〜０．５μｍであることを特徴とする。 - 特許庁

In the aluminum hollow optical fiber having an aluminum thin film formed on an inner surface of a thin glass capillary with high flexibility, a layer of a metal other than aluminum is formed between the glass capillary and the aluminum thin film and thereby the thickness of the metallic layer is increased without increasing the surface roughness, and the durability at emission of the high power laser is improved while maintaining high transmission efficiency.例文帳に追加

高い可撓性を有する肉薄のガラス細管の内面にアルミニウム薄膜を形成したアルミニウム中空光ファイバにおいて，ガラス管とアルミニウム薄膜の間にアルミニウムとは異なる金属層を設けることにより，表面の粗さを増大させることなしに金属層の厚さを増加させ，高い伝送効率を保持したまま高出力レーザ照射時の耐久性を向上させる。 - 特許庁

The method comprises a step of preparing a base substrate of the donor substrate; a step of forming the conversion layer on the base substrate; a step of forming the buffer layer on the conversion layer; a step of increasing roughness by processing a surface of the buffer layer; and a step of forming the transfer layer on the buffer layer of which the surface has been processed.例文帳に追加

ドナー基板のベース基板を準備する段階と、該ベース基板上に光熱変換層を形成する段階と、該光熱変換層上にバッファ層を形成する段階と、前記バッファ層の表面を処理して粗さを増加させる段階と、前記表面処理されたバッファ層上に転写層を形成する段階と、を含む有機電界発光表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The article excellent in corrosion resistance and anti-fingerprint property has surface roughness Ra of ≥0.3 μm and a glossiness value of ≤100%, wherein a coating containing zirconium oxide is formed on a surface of a base material comprising one or more selected from ceramics, metal composites and metals, and a coating containing magnesium is further formed on the coating containing zirconium oxide.例文帳に追加

本発明の耐食性及び耐指紋性に優れた物品は、表面粗さＲａが０．３μｍ以上かつ光沢度グロス値が１００％以下であり、セラミックス、金属複合体、金属のいずれか１種または２種以上からなる基材の表面に、酸化ジルコニウムを含む皮膜を形成しており、この酸化ジルコニウムを含む皮膜の上に、さらにマグネシウムを含む皮膜が形成されている。 - 特許庁

The optical fiber array, constituted by forming a plurality of grooves on part of the top surface of the substrate, storing optical fibers in the grooves, and fitting a lid part which covers the optical fibers onto the substrate across the adhesive layer, is characterized by that at least part of the top surface of the substrate is roughened to 5 to 1000 nm mean roughness.例文帳に追加

基板上面の一部に複数の溝が形成され、上記溝に光ファイバが収納されており、上記基板上に上記光ファイバを覆う蓋部が接着層を介して取り付けられた光ファイバアレイであって、少なくとも上記基板上面の少なくとも一部には粗化面が形成されており、上記粗化面は、平均粗さが５〜１０００ｎｍである光ファイバアレイ。 - 特許庁

To provide a transparent electrode endowed with high conductivity and transparency as well as superb smoothness even after environmental test under high-temperature and high-humidity environments, and excellent in stability (all-light transmittance, surface resistance, and surface roughness (Ra, Ry)), a method for manufacturing the transparent electrode, and an organic electroluminescent element excellent in emission uniformity using the transparent electrode.例文帳に追加

本発明の目的は、高温、高湿度環境下における環境試験後でも高い導電性と透明性を有しかつ良好な平滑性を併せ持ち安定性（全光線透過率、表面抵抗、表面粗さ（Ｒａ、Ｒｙ））に優れた透明電極、該透明電極の製造方法、および該透明電極を用いた発光均一性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することにある。 - 特許庁

In the gas barrier film constituted by alternately providing at least one barrier layer comprising inorganic matter and at least one organic layer on a plastic substrate, the plastic substrate comprises a polyarylate with a glass transition temperature of 250°C or above having a specific structure and the arithmetic average surface roughness (Sa) of the installation surface of the barrier layer on the plastic substrate is 5 nm or below.例文帳に追加

プラスチック基板上に、少なくとも一層の無機物からなるバリア層と少なくとも一層の有機層とを交互に有するガスバリアフィルムにおいて、前記プラスチック基板が特定の構造を有するガラス転移温度２５０℃以上のポリアリレートからなり、かつ、前記プラスチック基板のバリア層設置面の算術平均面粗さ（Ｓａ）が５ｎｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

In a release film obtained by providing a silicone release layer to at least the single surface of a polyester film, the center line average roughness (Ra) of the surface of the silicone release layer is 0.4 μm or less and the silicone transfer amt. of the silicone release layer measured by ESCA is set to 5 atom % or less as a silicon element.例文帳に追加

ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、シリコーン離形層を設けた離形フィルムであって、該シリコーン離形層表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．４μｍ以下であり、かつシリコーン離形層のシリコーン移行量が、ＥＳＣＡで測定してケイ素元素として５ａｔｏｍ％以下であることを特徴とする固体電解質キャスティング用離形フィルム。 - 特許庁

A polycarbonate resin corrugated panel constituted by laminating a weatherable resin layer to at least the single surface of a polycarbonate resin substrate layer is employed and at least the single surface of the corrugated panel is characterized by that arithmetic mean roughness (Ra) is 5-20 μm, the max. height (Ry) is 25-100 μm and haze measured according to JIS K7105 is 60% or more.例文帳に追加

ポリカーボネート樹脂基材層の少なくとも片面に、耐候性樹脂層を積層してなるポリカーボネート樹脂波板を採用し、前記波板の少なくとも片面が、算術平均粗さ（Ｒａ）５〜２０μｍの範囲で、最大高さ（Ｒｙ）２５〜１００μｍの範囲であり、かつＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠して測定されるヘイズが６０％以上に形成されている。 - 特許庁

A polyester layer constituting a film surface having a surface roughness (Ra) of 0.1-1.0 μm is a polyester film having a coating layer on one side of the polyester film including 3-30 wt.% of particles having a mean particle size of 3-10 μm, and the coating layer includes 1-10 wt.% of a pigment for laser marking.例文帳に追加

表面粗度（Ｒａ）が０．１〜１．０μｍの範囲のフィルム表面を構成するポリエステル層が平均粒径３〜１０μｍの粒子を３〜３０重量％含有するポリエステルフィルムの少なくとも一方の面に塗布層を有するポリエステルフィルムであり、当該塗布層中にレーザーマーキング用顔料を１〜１０重量％含有することを特徴とするポリエステルフィルム。 - 特許庁

To provide a transparent electrode endowed with high conductivity and transparency as well as superb smoothness even after environmental test under high-temperature and high-humidity environments, and excellent in stability (all light transmittance, surface resistance, and surface roughness (Ra, Ry)), a method for manufacturing the transparent electrode, and an organic electroluminescent element excellent in emission uniformity using the transparent electrode.例文帳に追加

本発明の目的は、高温、高湿度環境下における環境試験後でも高い導電性と透明性を有しかつ良好な平滑性を併せ持ち、安定性（全光線透過率、表面抵抗、表面粗さ（Ｒａ、Ｒｙ））の優れた透明電極、該透明電極の製造方法、及び該透明電極を用いた発光均一性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することにある。 - 特許庁

The peripheral chamfering part of a semiconductor wafer after being subjected to alkali etching is polished into specular surface while the polishing conditions for the chamfered part are changed according to the crystalline azimuth of the wafer, or otherwise specular polishing is performed while the polishing conditions for the chamfered part are changed according to the level of surface roughness of the chamfered part.例文帳に追加

アルカリエッチング後の半導体ウエーハ外周面取り部の鏡面研磨において、前記半導体ウエーハの結晶方位により面取り部の鏡面研磨条件を変更して鏡面研磨する、あるいは前記面取り部の表面粗さのレベルに従い面取り部の鏡面研磨条件を変更して鏡面研磨する半導体ウエーハ外周部の鏡面面取り方法並びに鏡面面取り装置。 - 特許庁

The metallic member has a silver plated structure formed from an under layer comprising a silver plated film having at least 0.2 μm average film thickness and an upper layer of a silver plated layer formed on the silver plated film and having ≥0.5 μm, preferably 0.5-1.5 μm average crystalline particle diameter on the surface and 10-40 μm surface roughness Rmax.例文帳に追加

少なくとも０.２μｍの平均膜厚を有する銀めっき膜からなる下層と、前記銀めっき膜の表面上に形成された銀めっき層であって表面の平均結晶粒径が０.５μｍ以上好ましくは０.５〜１.５μｍ、表面粗さＲ_maxが１０〜４０μｍである上層とで構成される銀めっき構造を最表面に持つ金属部材が提供される。 - 特許庁

The method of forming the dielectric film includes a step for dipping a base material having arithmetic average surface roughness Ra ≥1/2 and ≤2 times of average particle diameter of dielectric particles and a counter electrode into a solvent containing the dielectric particles and a step for depositing the dielectric particles on the surface of the base material by applying voltage between the base material and the counter electrode.例文帳に追加

誘電体粒子を含む溶媒中に、誘電体粒子の平均粒子径の１／２倍以上２倍以下の算術平均粗さＲａの表面を有する基材と、対電極と、を浸漬する工程と、基材と対電極との間に電圧を印加して基材の表面に誘電体粒子を堆積する工程と、を含む、誘電体膜の形成方法である。 - 特許庁

The optical film whose surface shape is in the range of the 0.05-1.0 μm center-line average roughness (Ra) and in the range of the 20-180 μm average top and bottom interval (Sm) and which has ruggednesses in the uppermost surface, and the protective film stuck together on the optical film through an adhesive layer are provided.例文帳に追加

表面形状が中心線平均粗さ（Ｒａ）で０．０５〜１．０μｍ、平均山谷間隔（Ｓｍ）で２０〜１８０μｍの範囲となる凹凸を最表面に有する光学フィルムと、その光学フィルム上に粘着剤層を介して張り合わされた保護フィルムとを備え、前記粘着剤層の厚みをｘ［μｍ］、弾性率をｙ［Ｍｐａ］とするとき、下記式（１）を充足することを特徴とする。 - 特許庁