「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(94ページ目) - Weblio英語例文検索

This polishing grinding wheel can provide both high polishing efficiency and superior surface roughness, when polishing a single crystal sapphire substrate, due to being constituted by joining a fine abrasive grain having an average particle size of about 0.6 μm, composed of α-based alumina manufactured from alcoholate by using a sol-gel method, by an epoxy resin binder.例文帳に追加

研磨用砥石は、アルコレートからゾル−ゲル法を用いて製造されたα型アルミナから成る平均粒径が0.6(μm)程度の微細な砥粒をエポキシ樹脂結合剤で結合して構成されていることから、単結晶サファイア基板を研磨するに際して、高い研磨能率および良好な表面粗さを共に得ることができる。 - 特許庁

The slurry including an active material composed of a carbon material or metallic oxide, polymer particles having a gel content of 50% or more as a binder, and a liquid material is applied onto a collector, and dried to obtain a non-pressed electrode having a surface roughness of μm or less, and the electrode is pressurized and compressed to obtain a lithium ion secondary battery electrode.例文帳に追加

炭素質物質又は金属酸化物よりなる活物質、バインダーとしてゲル含量５０％以上のポリマー粒子、及び液状物質を含有するスラリーを、集電体に塗布、乾燥し、表面粗さが６μｍ以下の未加圧電極を得た後、加圧圧縮してリチウムイオン二次電池電極を製造する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a base steel sheet for cans which stably and evenly controls the surface roughness of a base sheet to be plated even in the steel sheet for cans made of an extremely-low C material and prevents glass failure from occurring after being tin-plated and a manufacturing method of steel plates for cans from the original sheets.例文帳に追加

極低Ｃ材を素材とする缶用鋼板においても、めっき原板の表面粗度を安定して均一に制御でき、すずめっき後の光沢不良を引き起こすことのない缶用鋼板用原板の製造方法、ならびにその原板からの缶用鋼板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the dielectric element 1a, the surface roughness Ra of the side face 2E is 5,000 nm or less, so that when burying the dielectric elements 1a and 1b between the glass epoxy resin substrate 10 and insulating material 30, the occurrence of air bubbles between surfaces of the dielectric elements 1a and 1b and the resin can be prevented.例文帳に追加

誘電体素子１ａにおいて、側面２Ｅの表面粗さＲａが５０００ｎｍ以下であるため、誘電体素子１ａ，１ｂをガラスエポキシ樹脂基板１０と絶縁性機材３０との間に埋め込む際に、誘電体素子１ａ，１ｂの表面と樹脂との間に気泡が生じることを防止することができる。 - 特許庁

To provide a snap ring mounting device, lowering the manufacturing cost of a snap ring insert tool, decreasing the manufacturing man-hour, and smoothly and surely inserting the snap ring into a work without being influenced by a working accuracy error of the insert tool and the snap ring, surface roughness error of the insert tool and the snap ring and burrs of the snap ring.例文帳に追加

スナップリング挿入治具の製作費用が安価であり製作工数が少なく、また、挿入治具及びスナップリングの加工精度誤差、挿入治具及びスナップリングの面粗度誤差、スナップリングのバリ等の影響を受けないで、スナップリングが円滑且つ確実にワークに挿入されるスナップリング装着装置の提供。 - 特許庁

To provide a rotating tool capable of providing desired surface roughness without skipping a working condition and without multiple times of working when projecting length of a blade part is long (projecting length/diameter of blade is about more than 7) and when work rigidity of the work is low on the rotating tool of a drill, an end mill, a mounted grinding wheel, etc.例文帳に追加

ドリル、エンドミル、軸付砥石等の回転工具において、刃部の突き出し長さが長い場合(突き出し長さ／刃の径が7以上程度)や被加工物のワーク剛性が低い場合に於いて、加工条件を落したり複数回の加工をせずに所望の表面粗さが得られる回転工具の供給を可能にする。 - 特許庁

To provide a finishing work method of a joint bolt for shortening work time, removing a work burr in a hole of the joint bolt, superior in the finish such as chamfering of a corner part and smoothing of surface roughness, smoothly flowing fluid, coping with mass production by automatic control, and largely reducing cost.例文帳に追加

作業時間が短縮され、ジョイントボルトの孔内の加工バリの除去、角部の面取り、面粗さの平滑化等の仕上がりが良好で、流体のスムースな流動を可能にし、自動化による多量生産対応が可能で、コストを大幅に削減することができる、ジョイントボルトの仕上げ加工方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method for a polyimide film by which a polyamic acid dope is cast over a support and allowed to undergo a conversion process to a polyimide, the support is used which has irregularities with a diameter of 10 to 300 μm present on the surface of the support, the maximum roughness of the irregularities being 1 to 20 μm.例文帳に追加

ポリアミド酸溶液を支持体上に流延し、これをポリイミド化するポリイミドフィルムの製法において、該支持体表面に存在する凹凸部の直径が１０〜３００μｍで、かつ凹凸部の最大粗さが１〜２０μｍである支持体を用いることを特徴とするポリイミドフィルムの製造方法。 - 特許庁

The difficulty of centering and friction between the bell holders 1 and 2 are predicted by surface roughness and a centering factor on the basis of a shape of the lens W, and efficiency and stabilization of the centering action are attained by controlling a centering condition such as a centering rotating speed, centering time and lens sandwiching force at centering time.例文帳に追加

レンズＷの形状に基づく心出し係数および面粗さによって心出しの難易度やベルホルダ１、２との間の摩擦を予測して、心出し回転数、心出し時間および心出し時のレンズ挟持力等の心出し条件を制御することで、心出し作用の効率化、安定化を図る。 - 特許庁

The method for forming a patterned face provides an innovative design with a cool and natural taste and suppressed in roughness and shading feeling by rolling a fibrous roller having a fibrous layer with a thickness of 10 mm or thinner while pushing the fibrous roller to a designed coating material surface containing aggregate.例文帳に追加

本発明の模様面の形成方法は、骨材を含む意匠性塗材表面に対し、繊維質層の厚さが１０ｍｍ以下である繊維質ローラーを押し当てて転動させることにより、凹凸感、陰影感が抑制された、落ち着きのある自然の風合いを有する新たな意匠を得ることができるものである。 - 特許庁

This invention provides the opto-electronic device which includes a first electrode deposited on a substrate, and a surface from which the first electrode is exposed, having square average roughness of at least 30 nm and height change amount of at least 200 nm, wherein the first electrode is transparent, and provides the method for manufacturing the device.例文帳に追加

基板上に蒸着された第１電極、少なくとも３０ｎｍの二乗平均粗さ及び少なくとも２００ｎｍの高さ変化量を有する第１電極の露出された表面を含み、第１電極は透明であるようなオプトエレクトロニックデバイス及びオプトエレクトロニックデバイスを作製する方法。 - 特許庁

To solve problems in which the state of short stripes formed in the rotating direction of a developer carrier changes in accordance with the state of the surface roughness of an intermediate coating member, and stripe-like density unevenness occurs on an image, specially on a highlight part due to the occurrence of stripes and fluctuation in the occurrence state, and then, the image quality is drastically deteriorated.例文帳に追加

中間塗布部材の表面粗さの状態によって、現像剤担持体の回転方向に生じる短いスジの発生状態が変化し、スジの発生及びその発生状態の変化によって、特にハイライト部において画像上にスジ状の濃度むらが生じて、画像品質を著しく低下する。 - 特許庁

This coated steel sheet has 6-12 wt.% Si content and the size S of an Al-rice phase in the coated layer having metallurgical structure in which an Si-rich phase is dispersed in the Al-rich base phase is ≤25 μm and the surface roughness Rmax on the coated layer after skin-pass with a dull roll is adjusted to ≤15 μm.例文帳に追加

このめっき鋼板は、Ｓｉ含有量６〜１２重量％で、Ａｌリッチの母相中に、Ｓｉリッチ相が分散生成した金属組織を有するめっき層における、前記Ａｌリッチ相の大きさ（Ｓ）が２５μｍ以下であり、スキンパスによるめっき層の表面粗度(Ｒｍａｘ)が１５μｍ以下に調整されている。 - 特許庁

To provide a concave-convex shape forming method which facilitates changing the surface roughness or a pattern of convex portions of a coating film formed by applying an active energy ray-curable resin composition on a flexible transparent support member and stably forms a concave-convex shape, and an antiglare film manufactured by this concave-convex shape forming method.例文帳に追加

可撓性透明支持体上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布し形成された塗膜に表面粗さの変更或いは、凸部のパターンの変更が容易で、凹凸形状を安定に形成する凹凸形成方法及びこの凹凸形成方法により作製された防眩フィルムの提供。 - 特許庁

The glass ceramic of which the surface roughness Ra without grinding is <50 nm, the thermal expansion at 20-300°C is <1.2×10^-6/K and the transmittance is >85% at near-infrared region of 1050 nm and thickness of 4 mm contains β-quartz and/or keatite solid solution.例文帳に追加

研磨することなく表面粗度Ｒａが＜５０ｎｍ、２０〜３００℃の温度範囲で熱膨張が＜１．２×１０^-6／Ｋ、近赤外領域における透過率が１０５０ｎｍにおいて、厚みが４ｍｍで＞８５％である、ベータ石英および／またはキータイト固溶体を含み、次の組成（質量％）を含を有する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is free of surface roughness and the degradation in transparency due to the high transmissivity at 400 to 780 nm, is free of coating application defects, has good resolution, and can improve the planarity of edges of a substrate, and to provide a color filter using this composition and a liquid crystal display.例文帳に追加

本発明は表面荒れおよび４００−７８０ｎｍにおける透過率が高いために透明性の低下がなく、塗布欠陥がなく、解像度がよく、基板エッジ部分の平坦性を良好にできる感光性樹脂組成物、該組成物を使用したカラーフィルターおよび液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

By this, the occurrence of defective parts by the machining of the works formed of a steel based cut material to the degree that the initial wear amount is worn can be avoided, and the works can be machined by using a polished cutting tool with the working accuracies such as a high dimensional accuracy and a high surface roughness from the first time.例文帳に追加

従って、初期摩耗量が摩耗するまで鉄系被削材から成るワークを切削加工することによる不良品の発生が回避され、研磨済みの切削用刃具によってワークを当初から高い寸法精度及び高い面粗度等の加工精度にて、切削加工することが可能になる。 - 特許庁

As a result, the roughness of the contact surface of the electrolytic copper foil which is stuck on an insulation substrate for a printed circuit board is lowered, remaining copper is not produced even in the formation of a fine printed circuit and the deformation of a fine circuit in the welding process for mounting an electronic components in the fine printed circuit is prevented by improving the tensile strength.例文帳に追加

これにより、印刷回路基板用絶縁基板に接着される電解銅箔の接着面の粗度を低めて微細印刷回路形成時にも残銅が生じず、引張り強度を高めて微細印刷回路に電子部品を実装する溶接工程時、微細回路の変形を防止できる。 - 特許庁

To provide a polypropylene film that is suitable for a capacitor having stable electrical characteristics without causing a problem such as a static capacitance decrease in a high temperature and at the time of applying electricity for a long period of time, by using a polypropylene film regulated in a mesopentad fraction and a melt crystallization temperature, and by optimizing the surface roughness of the film, and to provide the capacitor.例文帳に追加

メソペンタッド分率と溶融結晶化温度を規定したポリプロピレンフイルムを用い、フイルム表面粗さを最適化することで、高温・長期加電時に静電容量減少等の問題がなく、安定した電気特性を有するコンデンサに好適なポリプロピレンフイルムおよびコンデンサを提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming two types of gate insulating film having different thicknesses, wherein if a chemical oxide film or a natural oxide film is sufficiently cleaned for removal prior to forming a second insulating film, this cleaning is caused to a decrease in a first insulating film or a surface roughness thereof locally, thereby causing a film quality degradation of the first insulating film.例文帳に追加

厚さの異なる２種類のゲート絶縁膜の形成方法において、第２絶縁膜の形成前にケミカル酸化膜や自然酸化膜を十分に除去する洗浄を行うと、第１絶縁膜の局所的な薄膜化や表面荒れが起こり、第１絶縁膜の膜質劣化が生じる。 - 特許庁

A shank part, the blade part or the shank part and a grip part are made of different materials, they are connected to each other by slightly slipping (decentering) a center of each of them at their connecting part, and consequently, self-excited vibration is generated in working, vibrational cutting and vibrational grinding are naturally carried out, and the work small in surface roughness is provided.例文帳に追加

シャンク部と刃部あるいはシャンク部と把持部を別々の材料とし、これらの接合部において各々の中心をわずかにずらして（偏心させて）接合し、これらがために加工時に自励振動が起こり振動切削や振動研削が自然に行われ、表面粗さの小さい加工物がえられるようにした。 - 特許庁

It is featured in that the current collector comprises a copper alloy and has tensile strength of 400 N/mm^2 or more, proportional limit of 160 N/mm^2 or less, elastic coefficient of 1.1 N/mm^2 or more, and surface roughness Ra of 0.01-1 μm for a face of the current collector forming the active material thin film.例文帳に追加

集電体が銅合金からなり、その引張強さが４００Ｎ／ｍｍ^2以上、比例限界が１６０Ｎ／ｍｍ^2以上、弾性係数が１．１Ｎ／ｍｍ^2以上であり、活物質薄膜が形成されている集電体の面の表面粗さＲａが０．０１〜１μｍであることを特徴としている。 - 特許庁

The separator for the molten carbonate fuel cell has a gas passage comprising 16.5-17.5 wt.% Co, 28.5-29.5 wt.% Ni, and the remaining of Fe and unavoidable impurities, and center line average roughness (Ra) (JISB0601) on the surface other than the gas passage is made to be 0.3-0.8 μm.例文帳に追加

Ｃｏが１６．５〜１７．５ｗｔ％、Ｎｉが２８．５〜２９．５ｗｔ％含有され、残部がＦｅおよび不可避の不純物からなる、ガス流路を備えた溶融炭酸塩型燃料電池用セパレータであって、前記ガス流路以外の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）（ＪＩＳＢ０６０１）を０．３μｍ〜０．８μｍとすること。 - 特許庁

The glitter flake 3 is composed of a base material 4 made of a transparent metal compound and having a ten-point average surface roughness of ≤50 nm and a coating material 5 made of a transparent metal compound and applied to the base material 4 (laminate type), and the refractive index difference between the coating material 5 and the base material 4 is ≥0.9.例文帳に追加

光輝材３は、透明な金属化合物よりなり表面の十点平均粗さが５０ｎｍ以下である母材４と、該母材４に被覆された透明な金属化合物よりなる被覆材５とからなるものであり（積層タイプ）、被覆材５の屈折率と母材４の屈折率との差が０．９以上である。 - 特許庁

To make a moving device accept a situation where the state of a floor face where a moving device is moved is not a flat face, that is, a curved face with swelling and distortion etc., or the floor face state is not smooth but has surface roughness, in the moving device comprising a self-advancing mechanism used for a mirorobot etc.例文帳に追加

本発明の目的はマイクロロボットなどに使用される自走機構より成る移動装置において、移動する床面状態が平面でなくとも、即ちうねり、歪曲等曲面であっても又、床面状態が平滑でなく表面粗さがあっても対応する移動装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a silicon wafer that improves reducing effect of a Grown-in defect while suppressing a slip occurrence during a rapid-heating and rapid-cooling heat treatment, and also improves surface roughness of an obtained silicon wafer after the rapid-heating and rapid-cooling heat treatment.例文帳に追加

急速加熱・急速冷却熱処理時におけるスリップの発生を抑制しつつ、Ｇｒｏｗｎ−ｉｎ欠陥の低減力を向上させることができ、加えて、急速加熱・急速冷却熱処理後、得られるシリコンウェーハの表面荒れも改善することができるシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

A surface roughness discrimination characteristic correction sheet is attached to a device having a piezo-electric contact type media sensor and when the result of cumulative detection number (=cumulative paper-passing number) count of the device arrives at a predetermined number, a correction requirement signal is transmitted and correction by paper-passing of the discrimination characteristic correction sheet is promoted.例文帳に追加

圧電接触式メディアセンサを有する装置に表面粗さ識別特性校正用シートを添付し、装置の累積検知回数（＝累積通紙枚数）カウント結果が所定回数に達した際に校正要求信号を発信させて表面粗さ識別特性校正用シートの通紙による校正を促す。 - 特許庁

In the film-forming method for forming the film or the sheet- shaped molding by casting an organic macromolecular solution on a supporting body and by removing a solvent, the film is formed by controlling a shape of the supporting body face of the film by making the supporting body have controlled wettability and surface roughness on which the organic macromolecular solution is to be cast.例文帳に追加

有機高分子溶液を支持体上にキャストし、溶媒を除去してフィルムあるいはシート状成形体の製膜方法において、該支持体として有機高分子溶液をキャストする面の濡れ性と表面粗さが制御された支持体とすることによりにフィルムの支持体面の形状を制御しつつ製膜する方法。 - 特許庁

To provide a mounting method for connecting electronic components to a board through normal temperature jointing, without applying severe pretreatment for a connection surface due to CMP (chemical mechanical polish) or electrolytic polishing, in order to suppress dispersions in roughness or the height of connection surfaces of the electronic components, such as semiconductor chips, semiconductor packages or the like or bumps on the mounting board.例文帳に追加

半導体チップ、半導体パッケージ等の電子部品あるいは実装基板のバンプの接合面の粗度や高さのバラツキを抑えるための、ＣＭＰや電解研磨による過酷な接合面前処理を行う必要なしに、電子部品を常温接合により基板に接合する実装方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a diamond wheel which can remarkably reduce a cost and can obtain a clean environment by achieving scratch-free polishing, slurry-less polishing, the use of a water base grinding fluid, an improvement in polishing rate in the use of water base grinding fluid, reduction in the wear rate of a wheel, reduction in machining cost, an improvement in surface roughness, etc.例文帳に追加

スクラッチフリーの研磨、スラリーレスの実現、水性研削液の使用、水性研削液使用での研磨レートの向上、砥石摩耗率の低減化、加工コストの低減、表面粗さの向上などが可能となり、大幅なコスト低減と環境クリーン化を実現することができるダイヤモンド砥石を提供する。 - 特許庁

To reduce repairing frequencies in order to lengthen the service life of a roll in a continuous casting and the cost, and to give a necessary surface roughness by forming a necessary crown to casting of a plate on the rolls without applying machining only with thermal-spraying, while performing the thermal-spraying on the local repair at the repairing time.例文帳に追加

連続鋳造機におけるロールの寿命の長期化を図って補修回数を減少させるようにすると共に、コストの低減を図り、又、補修時には局部的補修溶射を可能にして溶射だけで機械加工することなく、ロールに板の鋳造に必要なクラウンを形成させ、必要な表面粗さを付与する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having high resolving power in the production of a semiconductor device, having evaluation with the same light exposure near the margin of resolution by which the size in which a nondense pattern vanishes and the marginal resolution size of a dense pattern show approximate values closer to each other and ensuring low surface roughness of a line pattern.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高解像力を有し、しかも解像限界あたりにおいて、同一露光量の評価で、疎パターンが消失してしまう寸法と密パターンの限界解像寸法の二者がより近い近似値を示し、更にラインパターンの表面ラフネスが小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The thrust needle roller bearing 1 comprises a pair of thrust races 11, 12 for contacting the needle roller 14, the thrust race 12 on the side of a good lubricating condition having a surface roughness set to be larger than that of the thrust race 11 on the side of a bad lubricating condition depending on a difference in actual lubricating condition.例文帳に追加

スラスト針状ころ軸受１において、針状ころ１４に接触する一対のスラストレース１１，１２の実際の潤滑状態の差異に応じて、潤滑状態の良い側のスラストレース１２の表面粗さを、潤滑状態の悪い側のスラストレース１１の表面粗さより大きく設定する。 - 特許庁

In the metal carrier for exhaust gas purification obtained by inserting a honeycomb composed of heat resistant stainless steel foil into an outer cylinder made of heat resistant stainless steel, and performing diffusion joining, the surface roughness of the stainless steel foil lies within the above range.例文帳に追加

Ｒｓｋ≦−１０×（Ｒａ−０．２） （１）また、耐熱ステンレス鋼箔で構成されたハニカムを耐熱ステンレス鋼製の外筒に挿入して拡散接合された排気ガス浄化用メタル担体において、前記ステンレス鋼箔の表面粗さが上記範囲内にあることを特徴とする排気ガス浄化用メタル担体である。 - 特許庁

To provide an electrostatic chuck that makes good use of Johnsen-Rahbeck force of high attraction force, the electrostatic chuck suppressing surface roughness even when employing plasma irradiation using halogen gas etc., having small characteristic variation of the electrostatic chuck, and being usable by a plasma processing apparatus for a long time.例文帳に追加

本発明の課題は、吸着力の高いジョンセン・ラーベック力を利用した静電チャックで、ハロゲンガス等を用いたプラズマ照射であっても表面粗さの変化を抑えることができ、静電チャックの特性変化が小さく、プラズマ処理装置において長期間使用可能な静電チャックを提供することである。 - 特許庁

The reaction chip 1 has a well-type reaction detector 3 on a substrate 2, wherein the well-type reaction detector 3 comprises a bottom part of a planar shape and a side part 7 directing to an opening part 4 from the bottom, and has at the bottom center a holding part having higher surface roughness than that of surroundings.例文帳に追加

基板２に、ウェル状反応検出部３を有する反応チップ１において、ウェル状反応検出部３は、平面形状を成す底部と、この底部から開口部４へと向かう側部７とで構成され、底部には、その底面の中央部に表面粗さが周囲よりも高い保持部が設けられている。 - 特許庁

To provide a silicon nitride substrate in which a silicon nitride sintered compact has an intrinsic high strength, and especially, the sintered compact constituting the substrate is substantially free from pores, which has small surface roughness, from which particles hardly drop off when it is processed, and which is capable of effectively suppressing the quantity of leak current.例文帳に追加

窒化けい素焼結体が本来備える高強度特性に加えて、特に基板を構成する焼結体中に実質的に気孔（ポア）が形成されず、また表面粗さが小さく、加工時に脱粒が生じにくく、さらにリーク電流量を効果的に抑制することが可能な窒化けい素基板を提供する。 - 特許庁

The back face of a wafer is ground, and wet etching is carried out, and when a chip is joined to a junction object body using ultrasonic waves, surface roughness along the vibrating direction of ultrasonic waves is made substantially the same between chips, and ultrasonic wave combined thermal press-fitting is carried out, and the chip is joined through a golden ball bump to a lead frame.例文帳に追加

ウェハの裏面を研削した後、ウエットエッチングを行って、チップを超音波を用いた被接合体へ接合するときに超音波の振動方向に沿った表面粗さがチップ間で実質的に同一となるようにした後、超音波併用熱圧着を行ってリードフレームにチップを金ボールバンプを介して接合する。 - 特許庁

In this shutter slat which includes a painted metal plate having a coated film 60 on a metal plate 50, an arithmetic mean roughness Ra, which is measured based on JIS B0601-1944, of a shutter slat surface is in the range of 1-10 μm; and an average spacing S between local crests is in the range of 55-200 μm.例文帳に追加

金属板５０の上に塗膜６０を有する塗装金属板を含むシャッタースラットであって、前記シャッタースラット表面のＪＩＳ Ｂ０６０１−１９４４に準じて測定された算術平均粗さＲａが、１〜１０μｍであり、局部山頂の平均間隔Ｓが、５５〜２００μｍである、シャッタースラット。 - 特許庁

To cope with the implementation of a high frequency of a resonance frequency and a request for surface roughness, without substantially receiving influence of a thickness, elasticity or use time of a nonconductive polishing pad, in double-sided polishing work of a piezoelectric vibrator for detecting the thickness by a frequency sweeping method.例文帳に追加

周波数掃引法によって厚み検出を行う圧電振動子の両面ポリッシング加工において、非導電性のポリッシングパッドの厚み、弾性、あるいは使用時間の影響を実質的に受けることなく、共振周波数の高周波数化と表面粗度への要求とに対応することを課題とする。 - 特許庁

There is used the wiring member 10 which has a copper foil 11 having a smooth face in which a surface roughness Rz is 2 μm or less, a noise suppressing layer 13 containing a metal or conductive ceramics and having a thickness of 5-200 nm, and an insulating resin layer 12 formed between the smooth face side of the copper foil 11 and the noise suppressing layer 13.例文帳に追加

表面粗さＲz が２μｍ以下である平滑面を有する銅箔１１と、金属または導電性セラミックスを含む、厚さ５〜２００ｎｍのノイズ抑制層１３と、銅箔１１の平滑面側とノイズ抑制層１３との間に設けられた絶縁性樹脂層１２とを有する配線部材１０を用いる。 - 特許庁

In the release polyester film which is the release film having a silicone release layer containing 0.5-5.0 wt.% of at least one kind of a transition metal catalyst on one side of a polyester film, the surface roughness (Ra) of the release layer is 18-33 nm, and the image clarity value of the release film is 89% or above.例文帳に追加

少なくとも１種類の遷移金属系触媒を０．５〜５．０重量％含有するシリコーン系離型層をポリエステルフィルムの片面に有する離型フィルムであり、離型層表面の粗さ（Ｒａ）が１８〜３３ｎｍであり、離型フィルムの写像性値が８９％以上であることを特徴とする離型ポリエステルフィルム。 - 特許庁

To provide a heat fixing member, which can make lower the probability that toner fixation and wear due to a separation claw are induced when the member is mounted on an actual machine, and its manufacturing method by introducing a parameter for regulating the waveform shape of a roughness curve and making clear the standards of processing of a release layer surface.例文帳に追加

粗さ曲線の波形形状を規制するパラメータを導入して、離型層表面を加工するときの管理基準を明確にし、実機搭載時にトナー固着や分離爪による摩耗を誘発する確率を従来よりも低くし得る加熱定着部材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To efficiently provide an adhered semiconductor for improving its production yield by restricting the surface roughness lower limit of a mirror face which is an adhesion face of the adhered semiconductor, reducing voids in which adhesion in the adhered semiconductor is insufficient, and reducing inferior products in device manufacturing.例文帳に追加

この発明は、接着半導体の接着面である鏡面の表面粗さ下限値を限定することによって、接着半導体における接着が不十分な部分のボイドの発生を減少させ、デバイス製造での不良品の発生を減少し歩留まりの向上した接着半導体を効率よく得ようとしたものである。 - 特許庁

To provide a papermaking machine recovering belt performance such as a reduced wet paper releasing performance caused by repeated use in running operation of the conveyer belt without stopping operation of the papermaking machine or properly adjusting/recovering roughness of the belt surface in operation, and to provide a method for recovering the conveyer belt by using the papermaking machine.例文帳に追加

抄紙機の運転を停止することなく、搬送用ベルトの走行中に、使用によって湿紙剥離性が低下したベルトの性能を回復したり、抄紙機の使用状況においてベルト表面の粗さを適宜修正・再生することができる抄紙機、およびこのような抄紙機を用いて抄紙搬送用ベルトを再生する方法の提供。 - 特許庁