「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(96ページ目) - Weblio英語例文検索

Thrust baring components 12 and 13 are formed of polished band steel with surface roughness Rmax≤2 μm, which is obtained by cold rolling high carbon steel containing 0.9-1.2 wt.% carbon, 1.2-1.7 wt.% chromium, 0.1-0.5 wt.% manganese, and 0.15-0.35 wt.% silicon.例文帳に追加

スラスト軸受構成部品１２，１３は、０．９ｗｔ％〜１．２ｗｔ％の炭素と、１．２ｗｔ％〜１．７ｗｔ％のクロムと、０．１ｗｔ％〜０．５ｗｔ％のマンガンと、０．１５ｗｔ％〜０．３５ｗｔ％のシリコンとを含有する高炭素鋼を冷間圧延して得られる表面粗さがＲｍａｘ≦２μｍのみがき帯鋼から形成される。 - 特許庁

To realize prevention of erroneous detection during usage for a long period of time of a sheet material discrimination device not requiring paper kind selection setting work by a user and capable of efficiently performing good heat treatment, fixing and image formation even if the paper having any surface roughness, rigidity and thickness and to provide a heating device using this and various kinds of image formation devices.例文帳に追加

ユーザによる紙種選択設定作業が不要で、如何なる表面粗さ及び剛性・厚みを有する紙が使用されても、良好な熱処理と定着及び画像形成を効率良く行うことができるシート材識別装置の長期間使用中の誤検知防止を実現し、これを用いた加熱装置及び各種画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The suppor for the magnetic recording medium has a layer (layer M) containing a metal based inorganic compound, formed on at least one surface of a polyester film, wherein the layer M has 50 to 200 nm thickness, at least the one layer M has 15 to 40 nm arithmetic average roughness Ra and 150 to 300 nm maximum sectional height Rt.例文帳に追加

ポリエステルフィルムの少なくとも片面に金属系無機化合物を含む層（Ｍ層）が設けられ、Ｍ層の厚みが５０〜２００ｎｍである磁気記録媒体用支持体であって、少なくとも一方のＭ層の算術平均粗さＲａが１５〜４０ｎｍであり、最大断面高さＲｔが１５０〜３００ｎｍである磁気記録媒体用支持体とする。 - 特許庁

As for the electrophotographic photoreceptor constituted by applying at least an under coating layer and a photoreceptive layer to the conductive supporting body, the supporting body is obtained by performing blast processing or grinding processing on a non-cutting tube, and its surface roughness is 2.0 to 5.0 μm as Rmax and 0.1 to 0.5 μm as Ra.例文帳に追加

導電性支持体上に少なくとも下引き層及び感光層を塗布してなる電子写真感光体において、前記支持体は無切削管にブラスト処理或いは研磨処理を施されており、その表面粗さがＲｍａｘで２．０〜５．０μｍかつＲａで０．１〜０．５μｍであることを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁

To provide a surface treatment method of a resist pattern which meets the requirement that the line width and LWR (Line Width Roughness) of a first resist pattern are not varied by the freezing of the first resist pattern and the formation of a second resist pattern in a double patterning method.例文帳に追加

ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの線幅及びＬＷＲが変動しないという要件を満たすレジストパターンの表面処理方法およびその表面処理方法を用いたレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a silicon dioxide film-generating method in which that film having a prescribed thickness can be generated by repeating the processes for depositing a silicon film on a silicon substrate and for converting the film into a silicon oxide film, and further the surface roughness of the generated silicon dioxide film and also the growth rate of the deposited silicon film can be selected properly.例文帳に追加

シリコン基板上に、シリコン層を堆積しこれを二酸化シリコン膜に生成する工程を繰り返すことにより、所定厚さの二酸化シリコン膜を生成するとともに、生成される二酸化シリコン膜の表面粗さ、堆積するシリコン膜の成長速度などを、適宜に選択できるようにした二酸化シリコン膜の生成方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the metal foil with the electric resistance layer includes a step of forming the electric resistance layer by vapor growth method while applying oxygen as an atmosphere gas, on the metal foil having a surface where the average roughness of ten points measured by an optical method is adjusted to 4.0 to 6.0 μm, using a sputtering target containing nickel, chromium, and silicon.例文帳に追加

光学的方法で測定した十点平均粗さが４．０〜６．０μｍに調整した表面を有する金属箔上に、ニッケル、クロム、シリコンを含むスパッタリングターゲットを用いて、雰囲気気体として酸素を付与しながら気相成長法により電気抵抗層を形成させる工程を含む電気抵抗層付き金属箔の製造方法である。 - 特許庁

In the arc-welding solid wire without copper plating, the average amplitude in the wavelength of 0.01-0.1 mm range is ≤ 0.04 μm when the roughness profile of the wire surface in the circumferential direction of the wire is separated into the wavelength and the amplitude accompanied thereby at the wave number interval of 1.7 mm^-1 by applying the Fourier analysis.例文帳に追加

銅めっき無しアーク溶接用ソリッドワイヤであって、ワイヤ周方向のワイヤ表面の粗さプロファイルを、フーリエ解析を適用して波数間隔１．７ｍｍ^−１にて波長とそれに伴う振幅とに分離した場合、波長０．０１〜０．１ｍｍ域における振幅平均値が０．０４μｍ以下であることを特徴とする銅めっき無しアーク溶接用ソリッドワイヤ。 - 特許庁

The hydrolysis-resistant biaxially stretched film comprises a thermoplastic resin as the main component, contains at least one hydrolysis- resistant agent having gas-generation preventing properties and has a thickness of 0.5-12.0 μm, where the alternating current withstand voltage is at least 190 kV/mm and a film surface roughness is at most 150 nm.例文帳に追加

熱可塑性樹脂を主成分とし、ガス発生防止性を有する耐加水分解剤を少なくとも１種含有する厚さ０．５〜１２．０μｍの耐加水分解性二軸延伸フィルムであって、交流耐電圧が１９０ｋＶ／ｍｍ以上であり、フィルム表面粗度が１５０ｎｍ以下であることを特徴とする耐加水分解性二軸延伸フィルム。 - 特許庁

The long polarizing film of which the absorption axis of the polarizing film is neither parallel nor vertical to a longitudinal direction, the polarization degree is 80% or higher at 550 nm, the transmittance of each individual plate is 35% or more at 550 nm and further the surface roughness Ra of the polarizing film is 10 μm or less is provided.例文帳に追加

偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもなく、偏光度が５５０ｎｍで８０％以上及び単板透過率が５５０ｎｍで３５％以上であり、且つ偏光膜の表面粗さＲａが１０μm以下であるか又は偏光膜の表面粗さＲａが１０μm以下である長尺の偏光膜。 - 特許庁

In a substrate for the thin film electronic part on at least one face of a ceramic polycrystalline body or glass ceramic body; a coating layer made of a metal oxide thin film is formed, a film thickness of the metal oxide thin film is set to 0.1 μm to 20 μm, and a surface roughness Ra is set to 0.5 nm to 20 nm.例文帳に追加

本発明に係る薄膜電子部品用基板は、板状のセラミックス多結晶体若しくはガラスセラミックス体の少なくとも片面に、金属酸化物薄膜からなるコーティング層を設け、金属酸化物薄膜の膜厚を０．１μｍ以上２０μｍ以下とし、且つ表面粗さＲａを０．５ｎｍ以上２０ｎｍ以下としたことを特徴とする。 - 特許庁

In the cooling method for cooling the hot-rolled thick steel plate with cooling water, the coolant volume is adjusted in compliance with the change of surface roughness of rolls accompanied by the increase of an accumulative rolling volume, and the cooling method for the thick steel plate is characterized in that the cooling method is executed in the beginning of rolling before the adjustment reaching the accumulative rolling volume predetermined in advance.例文帳に追加

圧延ロールで熱間圧延した厚鋼板を冷却水で冷却する方法において、累積圧延量の増加に伴う圧延ロールの表面粗度の変化に対応させ、前記冷却水の水量を調整し、その調整を予め設定した累積圧延量に達する迄の圧延初期に行う厚鋼板の冷却方法。 - 特許庁

The output surface of an electroformed nickel tube of 30-100 μm thickness is roughened to 0.3-2 μm ten-point average roughness RZ by dry blasting with alumina or zirconia particles of 5-50 μm average particle diameter to obtain the objective substrate, and the objective electrophotographic photoreceptor is produced using he substrate.例文帳に追加

肉厚３０μｍないし１００μｍのニッケル電鋳管外表面に、平均粒径５μｍないし５０μｍのアルミナ粒子またはジルコニア粒子を用いて乾式ブラスト加工を施して、表面粗さが十点平均粗さＲ_Z で０．３μｍないし２μｍになるようにあらして基体とし、そのような基体を用いて電子写真用感光体を作製する。 - 特許庁

In a belt fixing method where a toner image is fixed while the toner image is brought into contact with a belt with an end or an endless one after the toner image that is obtained by visualizing an electrostatic latent image on a photoreceptor with toner is transferred to a transfer medium, the full color toner fixing method realizes surface roughness of the fixed image Rz smaller than 8 μm.例文帳に追加

感光体上の静電潜像をトナーで顕像化し得られたトナー像を転写媒体に転写した後、該トナー像を有端もしくは無端ベルトと接触させながらトナー像を定着するベルト定着方式において、定着画像の表面粗さＲｚが８μｍより小さいことを特徴とするフルカラートナー定着方式。 - 特許庁

A soda lime silicate glass or borosilicate glass subjected to chemical strengthening, a borosilicate glass containing no or small quantity of Na2O, an alkali-free glass or a crystallized glass is employed as the glass material and the arithmetic mean surface roughness Ra of the glass substrate is set at 0.5 nm or less and the maximum height Ry is set at 10 nm or lower.例文帳に追加

ガラス材質としてソーダライムシリケートガラスまたはボロシリケートガラスを化学強化処理したもの、あるいはＮａ_2 Ｏの含有量の少ないまたはＮａ_2 Ｏを含有しないボロシリケートガラス、無アルカリガラスまたは結晶化ガラスを用い、ガラス基板表面の算術平均粗さＲａを０．５ｎｍ以下、かつ最大高さＲｙを１０ｎｍ以下にする。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for molding a shell-mold with which the improvement of surface roughness of the molded shell-mold can be achieved and as a result, the quality of a cast product using this shell-mold can be improved and particularly, cores used for casting an impeller in which a plurality of blade passages are formed, are suitably molded.例文帳に追加

造形されたシェルモールドの表面粗度の向上を図ることができ、その結果、このシェルモールドを使用した鋳物製品の品質を向上でき、特に、複数の羽根通路が形成されている羽根車を鋳造するために使用される鋳造用中子を造型することに適したシェルモールド造型装置及びシェルモールド造型方法を提供すること。 - 特許庁

In a biaxially oriented polyester film having easy-to-adhere layers each consisting of a copolyester resin and a polyurethane resin formed on both surfaces thereof, the total light transmissivity of this film is 90% or more and the three-dimensional center average surface roughness (SRa) of the easy adhesive layers is 0.002-0.010 μm.例文帳に追加

共重合ポリエステル系樹脂及びポリウレタン系樹脂からなる易接着層が両面に形成されている二軸配向ポリエステルフィルムであって、前記フィルムの全光線透過率が９０％以上、さらに前記易接着層の三次元中心面平均表面粗さ（ＳＲａ）が０．００２〜０．０１０μｍであることを特徴とする光学用易接着フィルム。 - 特許庁

To provide a particle diameter-controlling agent capable of continuously and optionally controlling a wide range of particle diameters of a vinyl chloride based resin in a vinyl chloride based latex, enabling the resin to form a paste vinyl chloride resin having a good viscosity stability with time without giving surface roughness of a foamed body when being processed to the paste vinyl chloride resin.例文帳に追加

塩化ビニル系樹脂ラテックス中の塩化ビニル系樹脂粒子径を広い範囲で連続的に任意に制御することを可能とし、ペースト塩ビとした際には粘度経時安定性に優れ、発泡体の表面荒れを生じないという特徴を有するペースト塩ビを得ることを可能とする塩化ビニル系樹脂ラテックス用粒径制御剤を提供する。 - 特許庁

Disclosed is the element structure of the display device equipped with the wiring circuit formed of the Al-based alloy film, a semiconductor layer, and a transparent electrode layer, the surface roughness Ra of the Al-based alloy film forming the wiring circuit connected directly to the semiconductor layer and/or transparent electrode layer being 2.0 to 20.0Å.例文帳に追加

本発明は、Ａｌ系合金膜により形成された配線回路と、半導体層と、透明電極層とを備える表示デバイスの素子構造であって、半導体層および／または透明電極層と直接接合される前記配線回路を形成するＡｌ系合金膜の表面粗度Ｒａが２．０Å〜２０．０Åであるものとした。 - 特許庁

The method of evaluating a skin condition, such as epidermal elasticity and/or a skin surface form (average roughness: Ra), easily and quantitatively is found by focusing attention on the content of AGEs in a horny layer for applying to the method of selecting cosmetics utilizing the evaluation method, thus solving the problems.例文帳に追加

本発明によれば、角層中におけるAGEsの含有量に着目することにより、簡便、且つ、定量的に表皮弾力性及び／又は皮膚表面形態（平均粗さ：Ra）などの皮膚状態を評価する方法を見出し、当該評価方法を利用した化粧料の選択方法に応用することにより、前記課題を解決することが出来る。 - 特許庁

A hot-melt binder is used as the binder, which is applied on one entire surface or both the entire surfaces of a plate type base material so that ten-point average roughness (Rz) of the applied binder surfaces is 80 to 180 μm, and surfaces of binder layers 4 are covered with release sheets 5 having surfaces smoother than the binder layer surfaces.例文帳に追加

粘着剤としてホットメルト粘着剤を使用し、該粘着剤を、板状基材の片面全面または両面全面に塗布するとともに、塗布された粘着剤表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）を８０μｍ以上１８０μｍ以下とし、該粘着剤層４表面を、該粘着剤層表面に比べ平滑な表面を持つ離型シート５で被覆する。 - 特許庁

With the spark plug using a high-pressure-molded insulator 20, surface roughness of the insulator 20 at a part contacting with a packing 60 is made 10 μm or less in ten-point average, so that a contact area with the packing 60 is increased and heat transmitted from combustion gas to the insulator can be more easily released to a housing 10 through the packing 60.例文帳に追加

高圧成型した碍子２０を用いるスパークプラグにおいて、碍子２０におけるパッキン６０に接する部位の表面粗さを十点平均粗さで１０μｍ以下と小さくすることにより、パッキン６０との接触面積が増大し、燃焼ガスから碍子に伝わった熱を、パッキン６０を介してハウジング１０に逃がし易くなる。 - 特許庁

In the substrate for flexible printed circuit having a metal thin film layer, principally comprising an alloy of nickel and chromium and a thin film layer of copper formed on a sheet-like substrate, composed of aromatic polyamide, surface roughness of the sheet-like substrate touching the metal thin-film layer is in the range of 0.0001<Ra<0.2 μm.例文帳に追加

芳香族ポリアミドからなるシート状基材上にニッケルとクロムからなる合金を主成分とする金属薄膜層、および銅の薄膜層を有するフレキシブルプリント回路用基板であって、該シート状基材の該金属薄膜層が接触している表面粗さが０．０００１＜Ｒa＜０．２μｍの範囲であるフレキシブルプリント回路用基板。 - 特許庁

The porous carbon plate is formed by binding carbon short fibers dispersed in random on a substantially two dimensional plane by means of carbon and has ≤15 μm center line average roughness Ra (JIS B 0601) at least on one surface and ≥50% load length ratio (tp) when the cutting level is 20 μm.例文帳に追加

実質的に二次元平面内においてランダムに分散した炭素短繊維を炭素により結着させた多孔質炭素板において、少なくとも一方の面の中心線平均粗さＲa（ＪＩＳ Ｂ ０６０１）が１５μｍ以下であり、かつ、切断レベルが２０μｍのとき負荷長さ率ｔpが５０％以上であることを特徴とする多孔質炭素板である。 - 特許庁

To provide a developer and toner capable of preventing surface stain, filming and occurrence of an abnormal image such as image roughness, having sufficiently high charge capacity and good charge buildup performance, ensuring little toner spending to a carrier or the like even after production of several ten thousand images, capable of retaining high chargeability and fluidity, and giving image quality of sufficient image density.例文帳に追加

地汚れ、フィルミング、画像ボソツキ等の異常画像の発生を防止することができ、また、帯電能力が充分高く、帯電立ち上がり性も良好で、かつ数万枚画像を出力してもキャリア等へのトナースペントが少なく、高い帯電性、流動性を維持でき、かつ充分な画像濃度の画質が得られる現像剤及びトナーを提供する。 - 特許庁

The anticlouding cover is coated with a hydrophilic composition on at least one side of the substrate, and the surface of the coating layer has a contact angle of ≤15° before and after 500-hour immersion in water at 30°C and a center line average roughness Ra of 1.0-5.0 nm.例文帳に追加

基材の少なくとも片面上に親水性組成物をコーティングした防曇性カバーであり、該コーティング層表面は、３０℃の水に５００時間浸漬させる前及び浸漬させた後のいずれも水に対する接触角が１５°以下であり、かつ中心線平均粗さＲａが１．０ｎｍ〜５．０ｎｍであることを特徴とする防曇性カバー。 - 特許庁

In the electrophotographic photoreceptor provided with a conductive base body, a base coat layer formed on the base body and a photosensitive layer formed on the base coat layer, the base coat layer has a surface roughness Ra ranging from 0.03 to 0.30 μm and a transmittance to a light of wavelength of 780 nm ranging from 5 to 30%.例文帳に追加

本発明の電子写真感光体は、導電性基体と、該基体上に形成された下引き層と、下引き層上に形成された感光層と、を備える電子写真感光体において、下引き層の表面粗さＲ_aが０．０３〜０．３０μｍであり且つ波長７８０ｎｍの光に対する透過率が５〜３０％であることを特徴とする。 - 特許庁

The method of processing for forced feed crimping of the biodegradable fiber bundles imparts forced feed crimping to the fiber bundles with single filament fineness of 1.1-6.6 dtex which comprises a biodegradable thermoplastic resin, by setting the single filament fineness (dtex) and the surface roughness (μm) of the forced feeding crimp imparting rollers satisfy following equation (1).例文帳に追加

生分解性を有する熱可塑性樹脂からなる、単糸繊度が１．１〜６．６ｄｔｅｘの繊維束に押込捲縮を付与するに際し、単糸繊度（ｄｔｅｘ）と押込捲縮付与ローラの表面粗度（μｍ）とが、下記式 を満足するようにして捲縮を付与することを特徴とする生分解性繊維束の押込捲縮加工方法。 - 特許庁

The quartz glass contains metal elements and is improved in plasma corrosion resistance and has a content of foams and foreign matters <100 mm2 projected area per 100 cm3, OH concentration 100-2,000 ppm, surface roughness Ra 0.01-10 μm, and discharge gas amount 2 mol/m3 or less from room temperature to 1,000°C.例文帳に追加

金属元素を含有しプラズマ耐食性を増大した石英ガラスであり、該石英ガラス中の泡と異物の含有量が１００ｃｍ^3当りの投影面積で１００ｍｍ^2未満、ＯＨ濃度が１００〜２０００ｐｐｍ、表面粗さＲａが０．０１〜１０μｍ、及び室温から１０００℃までの放出ガス量が２ｍｏｌ/ｍ^3以下であるようにした。 - 特許庁

The bore near the end of each metallic tube 30 is worked so that the difference in the bore after the expansion of each tube 30 is ≤2 mm and desirably ≤1 mm, the end face of these 30 with the bore so worked near the end is machined so as to have a prescribed surface roughness, and then, the tubes 30 are joined by diffusion welding.例文帳に追加

各金属管３０、３０の拡径後の内径の差が２ｍｍ以下、好ましくは１ｍｍ以下となるように、各金属管３０、３０の端部近傍の内径を加工し、端部近傍の内径が加工された金属管３０、３０の端面が所定の表面粗さとなるように機械加工した後、金属管３０、３０を拡散接合する。 - 特許庁

Namely, a plurality of or a single toner layer is fixed as an image on a transfer body and the RMS (Root Mean Square) surface roughness (Rq) of the fixed layer is set within a range of a 60° luster degree (5/Gmax[%]<Rq[μm]<5/Gmin[%], where Gmin[%] is a minimum value and Gmax[%] is a maximum value).例文帳に追加

すなわち、複数または単一のトナー層を画像として転写体上に定着する画像形成方法において、定着された層におけるＲＭＳ（Ｒｏｏｔ・Ｍｅａｎ・Ｓｑｕａｒｅ）表面粗さ（Ｒｑ）を、６０度光沢度の範囲（最小値Ｇｍｉｎ［％］、最大値Ｇｍａｘ［％］）において、５／Ｇｍａｘ［％］＜Ｒｑ［μｍ］＜５／Ｇｍｉｎ［％］とする。 - 特許庁

To provide a component for an apparatus for manufacturing a silicon carbide semiconductor and a method for manufacturing the same excellent in corrosion resistance such as chemical resistance and the like, thermal shock resistance providing strong bonding power with a substrate, large specific tensile strength, and capable of saving finish machining owing to small roughness on the film surface to be used for a susceptor, dummy wafer, boat, tube, and the like.例文帳に追加

耐薬品性などの耐食性に優れ、基材との結合力が高く熱衝撃性が良好であり、高比強度を有し、また膜表面の粗さが小さく仕上げ加工を省略することを可能とし、サセプタ、ダミーウエハ、ボート、チューブなどとして好適に使用される炭化珪素質半導体製造装置用部材およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

This lead frame for resin-sealed semiconductor device 1 consists of a resin sealing part covered by a sealing resin and provided with semiconductor devices, and a runner 30 facing the runners for guiding the sealing resin to the resin sealing part, and the surface roughness of the runner 30 is made smaller than that of any part other than the runner 30 of the lead frame 1.例文帳に追加

半導体素子が搭載され、封止樹脂により覆われる樹脂封止部と、この樹脂封止部に封止樹脂を導くランナーに臨むランナー部３０とを有する樹脂封止型半導体装置用のリードフレーム１であって、ランナー部３０の表面粗さが、リードフレーム１のランナー部３０以外の部分の表面粗さよりも小さく構成されている。 - 特許庁

This label is a label having an ink receptive layer 2 composed of porous polyolefin having a viscosity average molecular weight of ≥300000 and (i) the surface roughness value Ra of the ink receptive layer 2 is required to be ≤5 μm or (ii) the glossiness of the ink receptive layer 2 to be ≥10% under measurement conditions of an incident angle 45° and photodetecting angle 45°.例文帳に追加

ラベルは、粘度平均分子量が３０万以上の多孔質ポリオレフィンで構成されたインク受容層を有するラベルであって、（ｉ）インク受容層の表面粗さＲａ値が５μｍ以下、又は（ii）インク受容層表面の光沢度が入射角４５度及び受光角４５度の測定条件で１０％以上であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an insulating adhesion sheet which can be suitably used for manufacturing a printed wiring board or the like which is excellent in adhesiveness with a metal layer formed on this front face also when the surface roughness of this sheet is small, furthermore which is excellent in workability, heat resistance, and a low-thermal expansion property, and to provide a printed wiring board using the same.例文帳に追加

プリント配線板の製造等に好適に用いることができる絶縁性接着シートであり、該シートの表面粗度が小さい場合にも、該表面に形成した金属層との接着性に優れ、さらには加工性、耐熱性、及び低熱膨張性に優れた絶縁性接着シートとそれを用いてなるプリント配線板を提供する。 - 特許庁

A thrust roller bearing 11 is provided with raceway disks 12, 13 formed out of a polished strip steel of surface roughness Rmax≤2 μm obtained by cold rolling of a high carbon steel containing 0.9-1.2 wt.% carbon, 1.2-1.7 wt.% chromium, 0.1-0.5 wt.% manganese and 0.15-0.35 wt.% silicon.例文帳に追加

スラスト軸受１１は、０．９ｗｔ％〜１．２ｗｔ％の炭素と、１．２ｗｔ％〜１．７ｗｔ％のクロムと、０．１ｗｔ％〜０．５ｗｔ％のマンガンと、０．１５ｗｔ％〜０．３５ｗｔ％のシリコンとを含有する高炭素鋼を冷間圧延して得られる表面粗さがＲｍａｘ≦２μｍのみがき帯鋼によって形成された軌道盤１２，１３を備える。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent for a freezing process that meets the requirement that (1) the line width of a first resist pattern does not fluctuate and (2) the line edge roughness (LER) of the first resist pattern does not deteriorate, by a freezing process in a freezing process that is applied to the first resist pattern in a double patterning method, and a pattern forming method using it.例文帳に追加

ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理によって、（１）第一のレジストパターンの線幅が変動しない、（２）第一のレジストパターンのラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が悪化しない、という要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

A method for manufacturing the composite substrate having a surface roughness (Ry) of ≤2 μm comprises laminating a releasable metallic foil having a semi-cured thermoplastic resin formed on both sides of a prepreg obtained by impregnating a fiber cloth with a thermosetting resin composition or coating the thermoplastic resin composition on the fiber cloth and drying the coated fiber cloth, curing the resin, and then peeling the releasable resin sheet.例文帳に追加

繊維布に熱硬化性樹脂組成物を含浸または塗布・乾燥させたプリプレグの表裏に半硬化状態の熱硬化性樹脂が形成された剥離性金属箔をラミネートし、樹脂を硬化させた後に剥離性樹脂シートを剥離することを特徴とする表面粗さ（Ｒｙ）が２μｍ以下の複合基板の製造方法。 - 特許庁

In a band-limited circuit 20, the frequency band of an inputted return light quantity S1 is limited within a gap control band, and a return light quantity S2 after a band limitation not influenced by a modulation by the information source 1 of a laser beam LB1 for recording, the surface roughness of a glass master disk 17, the resonance of an exposure device, etc., is outputted.例文帳に追加

帯域制限化回路２０において、入力された戻り光量Ｓ１の周波数帯域をギャップ制御帯域内に制限して、記録用レーザー光ＬＢ１の情報源１による変調の影響や、ガラス原盤１７の面荒れ、露光装置の共振等の影響を受けない帯域制限後の戻り光量Ｓ２を出力する。 - 特許庁

To provide a steel plate manufacturing method which requires no complicated operation from an operating aspect and a steel plate manufacturing device which enables the method to be carried out in preferred conditions and whose equipment is simple and brings about a cost advantage capable of obtaining a steel plate with no relative roughness unevenness and with excellent appearances after pickling by substantially perfectly removing scales on the surface of the steel plate before finish-rolling.例文帳に追加

仕上げ圧延前にほぼ完全に鋼板表面のスケールを除去し、酸洗後の粗度斑のない外観の優れた鋼板を得ることが可能で、しかも操業面からも複雑な操作を要することもない鋼板製造方法と、この方法を好適な状態で実施し得、設備も単純でコスト的に有利な製造装置を提供すること。 - 特許庁

As a result, the respective dotty regions are polished while the front and rear surfaces of the disk 1 are held by a pair of the polishing pads 4 and 4 and, therefore, the denser and preciser polishing than heretofore is made possible and the smooth true contact surfaces 1x of 0.1 nm level in the surface roughness Ra may be easily and surely formed on the front and rear surfaces of the disk 1.例文帳に追加

これにより、一対の研磨用パット４，４でディスク１の表裏面を挟持しつつ点状の各領域を研磨するので、従来に比べて緻密で精度良く研磨でき、ディスク１の表裏面において、表面粗さＲａが０．１ｎｍレベルの平滑な真実接触面１ｘを容易且つ確実に形成することができる。 - 特許庁

Simultaneously, the center line average height of roughness (Ra) of the sheet surface is made to 0.05 to 0.5 μm.例文帳に追加

効率的な製造方法として、板表面の平均粗さを冷間圧延あるいは加熱焼鈍後のスキンパス圧延や矯正などの加工によって上記範囲に制御するとともに、冷間圧延板を洗浄した後に窒素ガス中にて７５０〜８３５℃で１〜６０秒加熱することによって式（１）の値が４〜１０の表面窒化に制御すると同時に焼鈍を成し得る。 - 特許庁

Top surfaces (sticking-preventive surfaces) of an aluminum-made outer liner 40 and an inner liner 42 fitted as sticking-preventive plates in the chamber of the plasma etching device are roughened to surface roughness within a certain range without being subjected to alumite treatment, and thus a reaction product deposited film 50 is prevented from being peeled off, thereby reducing the contamination of a treated body 16 with particles.例文帳に追加

プラズマエッチング装置のチャンバ内に防着板として取付されるアルミニウム製のアウターライナー４０およびインナーライナー４２のおもて面（防着表面）をアルマイト処理せずに一定範囲内の表面粗さに粗面化することにより、反応性生物堆積膜５０の剥離を防止し、被処理体１６のパーティクル汚染を低減する。 - 特許庁

The mean roughness Ra of the core surface at the boundary face between the cores 3 and the clads is 100 nm or smaller.例文帳に追加

断面形状としてクラッドとなる熱可塑性樹脂Ｂに周りを囲まれたコアとなる熱可塑性樹脂Ａからなる分散体（コア）がフィルム長手方向に延在しながらフィルム幅方向に４個以上配列した構造である光導波路フィルムであって、コアとクラッド間の境界面のコア表面の平均粗さＲａが１００ｎｍ以下である光導波路フィルム。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a three-dimensional molded circuit board capable of easily dealing with, by altering only a molding condition so as to have peel strength capable of using high temperature solder when a small-sized element is mounted by soldering and surface roughness capable of strong connection by wire bonding when the small-sized element is to be mounted by wire bonding.例文帳に追加

はんだ付けにて小型素子を実装する場合には、高温はんだを使用できるピール強度を有し、また、ワイヤーボンディングにて小型素子を実装する場合には、ワイヤーボンディングで強固に接続できる表面粗さを有するように、成形条件のみを変更して容易に対応できる立体成形回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁