「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(78ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a normal temperature joined state estimating method capable of estimating a state of joined strength or the like at the joining of a material, having roughness of nm to μm order for the surface in a pressure contact state at the normal temperature, and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

ｎｍ〜μｍオーダの粗さを表面に有する材料を常温で圧接して接合した際の接合強度等の状態を予測することができる常温接合状態予測方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

In the fuel cell separator 60 composed of a separator base material 50 made of a metal plate with a resin coated layer 55 formed for corrosion resistance, a surface roughness Ra of the resin coated layer 55 is 0.5 μm or more and 13.5 μm or less.例文帳に追加

金属板であるセパレータ基材５０に防食のための樹脂コート層５５が形成されてなる燃料電池用セパレータ６０において、樹脂コート層５５の表面粗度Ｒａを０．５μｍ以上１３．５μｍ以下とする。 - 特許庁

A high polymer material obtained by filling a high polymer material with an inorganic filler is irradiated with a laser of high fluence as a first stage, and the irradiated part is irradiated with a laser of low fluence as a second stage to increase its surface roughness.例文帳に追加

高分子材料に無機フィラーを充填した高分子成形材に第１段階として高フルーエンスのレーザを照射し、第２段階として、この照射部に低フルーエンスのレーザを照射して表面粗さを増すようにした。 - 特許庁

In a direct drawing type lithographic printing original plate, which is formed by providing at least an intermediate layer and an image receiving layer in the order named on a water resistant support, the center-line mean roughness Ra of the surface of the intermediate layer is set to be 0.05 to 2.0 μm.例文帳に追加

耐水性支持体上に少なくとも中間層、画像受理層を順次設けた直描型平版印刷用原版において、前記中間層の表面のＲａが０．０５〜２．０μｍである平版印刷用原版。 - 特許庁

In the rolling bearing for an inverter-driven motor, a root mean square roughness of a raceway surface of at least one of an inner ring and an outer ring is 4 to 16 nm, and an oil film parameter Λ in steady operation is at least 17.5.例文帳に追加

インバータ駆動モータ用転がり軸受において、内輪と外輪の少なくとも一方の軌道面の二乗平均粗さを４〜１６ｎｍとし、かつ、定常運転状態における油膜パラメータΛを１７．５以上とする。 - 特許庁

The radius of curvature of an addendum corner part 33 of the product obtained by this method is ≤0.4 mm, the surface roughness of a tooth flank 34 is ≤12.5 z, and the radius of curvature of a dedendum part 35 is 0.2 to 1.5 mm.例文帳に追加

本方法で得られる製品は、その歯先隅部３３の曲率半径が０．４ｍｍ以下であり、その歯面３４の表面粗さが１２．５ｚ以下であり、且つ、その歯元部３５の曲率半径が０．２〜１．５ｍｍである。 - 特許庁

The anodized aluminum alloy sheet has the arithmetic mean roughness (Ra) of 0.10 μm or less after having been electropolished and anodized, and shows such a relation between Ra and the mean spacing (Sm) of the surface irregularities as to satisfy Sm≥91Ln(Ra)+370.例文帳に追加

または、電解研磨、陽極酸化処理後の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．１０μｍ以下でかつ、Ｒａと凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が、 Ｓｍ≧９１Ｌｎ（Ｒａ）＋３７０ を満足する陽極酸化処理アルミニウム合金板。 - 特許庁

The color filter is provided with a resin black matrix whose optical density per unit film thickness is ≥4.4/μm, the film thickness is ≤0.9μm, and the surface roughness is ≤30 nm using black particulates having high light shielding property and small in particle size.例文帳に追加

遮光性が高く粒径の小さい黒色微粒子を用いて、単位膜厚当たりの光学密度が４．４／μｍ以上、かつ、膜厚が０．９μｍ以下、かつ、表面粗さが３０ｎｍ以下である樹脂ブラックマトリクスを備えたカラーフィルター。 - 特許庁

To obtain a highly reliable laminated ceramic electronic component by preventing the occurrence of a structural defect due to the density of a ceramic layer and reducing the generating rates of short-circuiting failures and breakdown voltage failures by appropriately maintaining the surface roughness of a laminated ceramic body.例文帳に追加

セラミック層の密度から構造的な欠陥の発生を防止し、且つ、セラミック積層体の表面粗さを適度に保って短絡不良，耐圧不良の発生率を低下し、信頼性の高い積層セラミック電子部品を得る。 - 特許庁

The erosion part of the sputtering surface of the target material has <1.50 μm arithmetic average roughness Ra and the target material preferably has the composition consisting of 5≤Cr≤30 at.%, 5≤Pt≤30 at.% and the rest essentially consisting of Co.例文帳に追加

本発明はターゲット材のスパッタ面のエロージョン部における算術平均粗さＲａが１．５０μｍ未満であり、好ましい組成としては、５≦Ｃｒ≦３０ａｔ％、５≦Ｐｔ≦３０ａｔ％、残部実質的にＣｏとする。 - 特許庁

To provide a developing device which will not cause an image defect, while preventing the occurrence of filming by setting a center line average roughness Ra(μm) of the surface of a developer carrier to be Ra<0.3 μm, and to provide an image forming apparatus equipped with the device.例文帳に追加

現像剤担持体の表面の中心線平均粗さＲａ（μｍ）をＲａ＜０．３μｍとしてフィルミングの発生を防止しつつ、画像不良を引き起こさない現像装置、及びこれを備える画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Ink is aqueous ink of which the viscosity at 25°C is 20-600 mPa.sec at a shearing speed of 38.4 sec^-1 and 10-120 mPa.sec at a shearing speed of 384 sec^-1 and the arithmetic average roughness (Ra) of the surface of a leading end ball is set to 0.005-0.030 μm.例文帳に追加

前記インクは、摂氏25度における剪断速度38.4sec^-1の粘度が20mPa・sec以上600mPa・sec以下、かつ剪断速度384sec^-1の粘度が10mPa・sec以上120mPa・sec以下の水性インクであり、前記先端ボールは、表面の算術平均粗さ(Ra)が、0.005μm以上0.030μm以下とした。 - 特許庁

The manufacturing method of the coated electric wire 1 using a fluorocarbon resin material to coat around a conductor 2 with an insulating body layer 3 uses a pellet whose surface-roughness Rmax is 4 μm or more as the fluorocarbon resin material.例文帳に追加

導体２の周囲にフッ素系樹脂材料を用いて絶縁体層３を被覆する被覆電線１の製造方法において、前記フッ素系樹脂材料として、表面粗度Ｒｍａｘが４μｍ以上のペレットを用いる。 - 特許庁

The aluminum formed by subjecting aluminum having surface roughness Ra of 3-100 μm to an anodic oxidation film treatment and setting the sealing ratio to 40% or less, is directly integrated with the fluorine rubber vulcanization material without an adhesive.例文帳に追加

表面粗さＲａが３〜１００μｍのアルミニウムを陽性酸化皮膜処理しかつ封孔率を４０％以下としたアルミニウムに、接着剤を介さずにフッ素ゴム加硫物を直接一体化したアルミニウム一体型ガスケット。 - 特許庁

After grinding, shot-peening is applied to both of the screw grooves 3a, 5a by projecting approximate spherical glass particles of mean particle size of 200 μm or less, so surface roughness Ra is 0.15 μm or less.例文帳に追加

両ねじ溝３ａ，５ａには、研削加工が施された後に、平均粒径２００μｍ以下の略球状のガラス粒子を投射することによりショットピーニングが施されており、表面粗さＲａが０．１５μｍ以下とされている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a flexible printed board junction, for obtaining the flexible printed board junction excellent in bonding strength regardless of the hardness or surface roughness of a metal pad part in a flexible printed board to be bonded.例文帳に追加

接合させるフレキシブルプリント基板における金属パッド部の硬さや表面粗度によらず、接合強度に優れたフレキシブルプリント基板接合体を得ることができるフレキシブルプリント基板接合体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a polishing slurry having excellent processing properties particularly effective in improving processing rates and finished surface roughness in processing a hard disk glass substrate; and a lubricating fluid composition for polishing for preparing the polishing slurry.例文帳に追加

ハードディスクガラス基板の加工において、特に加工レート及び仕上げ面粗さの向上に有効な加工特性に優れた研磨スラリー並びに当該研磨スラリーを調製するための研磨用潤滑液組成物を提供する。 - 特許庁

The laminate has a base material and a resin thin film layer with a surface roughness of 4 nm or less comprising an epoxy compound.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基材と、上記基材の少なくとも片面に積層され、表面平均粗さが４ｎｍ以下であるエポキシ化合物からなる樹脂薄膜層とを有することを特徴とする積層体を提供する。 - 特許庁

The momentum and the reaction of ions passing through the multiple hollow cathode are maximized to generate plasma of high density, and a nitride layer of high hardness with less change of roughness can be deposited on the surface of the test piece.例文帳に追加

これにより、多重中空陰極体を通過するイオンの運動量及び反応を最大にして高密度のプラズマを生成することができ、試片の表面に、粗度の変化がほとんどない高硬度の窒化層を形成することができる。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a GaN single crystal wafer that has a sufficient particle removing ability against a GaN single crystal wafer and that defines the kind, concentration and cleaning conditions of an alkaline chemical free of surface roughness.例文帳に追加

ＧａＮ単結晶ウェハに対して十分なパーティクル除去能力を得て、且つ、表面荒れを起こさないアルカリ性の薬液の種類、濃度及び洗浄条件を規定したＧａＮ単結晶ウェハの洗浄方法を提供する。 - 特許庁

This easily slidable polyimide film is obtained by film-coating and imide-forming from a polyamide acid solution having filler grains, wherein a surface roughness of film R_max is blow 2 μm or below and a coefficient of static friction between film surfaces is 0.1-1.2.例文帳に追加

フィラー粒子を含有するポリアミド酸溶液を製膜し、イミド化してなるフィルムであって、フィルム表面粗さＲｍａｘが２μｍ未満、フィルム表面同志の静摩擦係数が０．１〜１．２である易滑性ポリイミドフィルム。 - 特許庁

By setting the surface roughness of the porous body for coating a moving body with liquid within a range decided with reference to toner particle size, the sufficient amount of the liquid is obtained and the pores are hardly clogged by the adhesion of toner.例文帳に追加

移動体に液体を塗布する多孔質体の表面粗さをトナー粒径に対して定めた範囲とすることにより、液体供給量が十分得られ、かつトナー付着による孔の目詰まりが起こりにくいようにする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transmission type phase shift photomask which efficiently manufactures the high-quality photomask which is free of roughness in an etching surface, is improved in the overlap accuracy of a resist pattern and a light shielding layer pattern and has excellent resolution property.例文帳に追加

エッチング面に荒れがなく、レジストパターンと遮光層パターンの重ね合わせ精度が向上した、解像性に優れた高品質なフォトマスクを効率よく製造する透過型位相シフトフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a crystal defect evaluating method of a silicon single crystal substrate for quickly evaluating a crystal defect of the p-type low resistance silicon single crystal substrate at a low cost with higher accuracy, by reducting roughness at the front surface of the substrate.例文帳に追加

Ｐ型低抵抗のシリコン単結晶基板の結晶欠陥を、低コストで基板表面の面あれを小さくして高精度で迅速に評価することができるシリコン単結晶基板の結晶欠陥評価方法を提供する。 - 特許庁

The surface roughness of the insulation film is set below 40 μmRmax to make the gas sensor element of the lamination type hard to crack against the thermal shock during the electric energization of the ceramic heater thereby achieving excellent mechanical strength thereof.例文帳に追加

そして、その絶縁皮膜の表面粗度を４０μｍＲｍａｘ以下とすることで、この積層タイプのガスセンサ素子は、セラミックヒータの通電磁における熱衝撃に対してクラックが生じ難くなり、機械的強度にも優れる。 - 特許庁

The flexible optical waveguide includes a lower cladding layer, a core layer and an upper cladding layer successively formed on the substrate, and the surface of the substrate of forming the lower cladding layer thereon has an arithmetic average roughness Ra of 0.03 μm or more.例文帳に追加

フレキシブル光導波路は、基板上に順次形成された下部クラッド層、コア層および上部クラッド層を有しており、下部クラッド層を形成する基板の表面の算術平均粗さＲａが０．０３μｍ以上である。 - 特許庁

The thin film magnetic head comprises FeAlSi alloyed film 55 and ceramics substrate which support it, which are polished in two steps to the surface roughness of the FeAlSi alloyed film 55 is smoothed under 1 nm and its gap lengthes are uniformed.例文帳に追加

ＦｅＡｌＳｉ合金膜５５と、これを支持するセラミックス基板５１とを備えた薄膜磁気ヘッドであって、２段階研磨によりＦｅＡｌＳｉ合金膜５５の表面粗度が１ｎｍ以下に平滑化され、ギャップ長が均一化されている。 - 特許庁

The electrode material is used for an electrode of a cold cathode fluorescent lamp and is made of nickel or nickel alloy having an excellent plasticity processability, and a mean crystal particle diameter is 50 μm or less and a surface roughness Sm is 50 μm or less.例文帳に追加

本発明電極材料は、冷陰極蛍光ランプの電極に用いられるものであり、塑性加工性に優れるニッケル又はニッケル合金からなり、平均結晶粒径が50μm以下、表面粗さSmが50μm以下である。 - 特許庁

To provide a plasma arc machining method using a gas mixture having different hydrogen contents adaptable to various material cutting conditions and also improving cutting performance with respect to the speed and flushing and/or the roughness of a cut surface.例文帳に追加

様々な材料切断条件に適合する異なる水素含有量を有するガス混合物を使用し、また速度、切断面のフラッシュおよび／または粗さの点で切断性能を改善するプラズマアーク加工方法を提供する。 - 特許庁

Then, a colorless transparent toner adhesion amount specification unit 32 refers to an adhesion amount management table 30 and specifies a colorless transparent toner adhesion amount corresponding to the surface roughness of the printing medium 201 detected by the detection unit 14.例文帳に追加

次に、無色透明トナー付着量特定部３２は、付着量管理テーブル３０を参照し、検出部１４で検出した印刷媒体２０１の表面粗さに対応づけられた無色透明トナー付着量を特定する。 - 特許庁

Because the abrasive is composed of electric rheorogiegel (ERG) 12 and abrasive grains 12A, it is possible to change the hardness of ERG in accordance with the surface roughness of work (object for processing), and to carry out polishing efficiently.例文帳に追加

本発明の研磨材は、電気レオロジーゲル（ＥＲＧ）１２と砥粒１２Ａとを含んで構成したので、ワーク（被加工物）の表面粗度に応じてＥＲＧの硬度を変化させることができ、研磨を効率的に行うことができる。 - 特許庁

To provide a pressurizing roller which is reduced in surface roughness, is excellent to a toner offset, suppresses a wrinkling due to change in shape, little in the change in conveyance speed in a fixing belt system and is highly durable.例文帳に追加

本発明は、表面粗さが小さくなりトナーオフセットに対して優れているとともに、形状変化によるシワの発生を抑制し、定着ベルト方式での搬送スピード変化が少なく高耐久であることを課題とする。 - 特許庁

In the hollow fiber membrane module, the hollow fiber membranes are built in the module case having fine irregularities at least at some part of the inner face, and average roughness (Ra) of the surface lies in the range of 0.001 μm≤Ra≤1 mm.例文帳に追加

中空糸膜が内側表面の少なくとも一部に微細な凹凸を有し、該表面の平均粗さ（Ｒａ）が０．００１μｍ≦Ｒａ≦１ｍｍであるモジュールケースに内蔵されていることを特徴とする中空糸膜型モジュール。 - 特許庁

To provide a coated cutting tool for the highly precise work providing a favorable working surface roughness and a shape precision and suppressing dispersion in the dimension caused by welding in a lathe turning of a highly precise component of generally a micro meter unit.例文帳に追加

一般にマイクロメートル単位の高精度な部品の旋削加工において、良好な加工面粗さと形状精度が得られ、かつ溶着などに起因する寸法のバラツキをおさえられる高精度加工用被覆切削工具を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for polishing capable of polishing the whole of functional materials with high efficiency and securing excellent polishing characteristics in surface roughness, flatness, shape stability and so on.例文帳に追加

機能性材料全般の研磨を高能率で行うことが可能であり、表面粗さ、平坦度、形状安定性などの点で良好な研磨特性を確保できる研磨用組成物を提供することを解決すべき課題とする。 - 特許庁

To provide a plating process for applying a copper film, or the like, onto a semiconductor wafer, or the like, which well embeds a concave part on a substrate, improves the film-forming speed and inhibits void generation and surface roughness in the plated film.例文帳に追加

半導体ウェハ等に銅膜等をめっき処理するに際し、被処理体上の凹部の埋め込み性に優れ、成膜速度を向上でき、しかも、めっき膜中のボイド発生及び表面荒れを防止めっき方法を提供する。 - 特許庁

Moreover, the image trouble is kept down by specifying the range of the appropriate height of the supporting body surface of Rmax and specifying the range by using the ten points average roughness Rz indicating the uniformity of the recessed and projected state.例文帳に追加

そして、適切な感光体の支持体表面高さＲｍａｘの範囲を指定し、且つ凹凸形状の均一性を表す十点平均粗さＲｚを用いて範囲指定することにより画像不具合を抑制している。 - 特許庁

To provide a method for depositing a conductive thin film of excellent texture structure without raising the temperature to above 400°C during the film deposition in which the mean surface roughness and the shape of the texture structure can be controlled.例文帳に追加

成膜時に４００℃以上の高温にすることなく、良好なテクスチャー構造を有し、さらにはテクスチャー構造の平均表面粗さおよび形状を制御することが可能な導電性薄膜を形成する方法を提供すること。 - 特許庁

At least one surface of a pair of members relatively sliding, of this slide member is made out of ceramics, and the composite roughness on a contact part of the pair of sliding members is 1 μm or less.例文帳に追加

相対的に摺動する１対の部材のうち、少なくとも一方の表面がセラミックスである摺動部材において、摺動する１対の部材の接触部における合成粗さが、１μｍ以下であることを特徴とする摺動部材。 - 特許庁

When the mill scaled rod steel is straightened by a two-roll type rolling mill, bending of the rod steel is straightened, the rod steel is straightened by large roll separating force making the diameter of the rod steel thin, and the surface roughness of the rod steel is reduced.例文帳に追加

黒皮棒鋼を２ロール式圧延機により矯正するに際し、該棒鋼の曲がりを矯正すると共に、該棒鋼の径が細くなるような大きな圧下力により矯正して、該棒鋼の表面粗さを低減せしめること。 - 特許庁

To provide a X-ray generating method and an X-ray generating device generating X-ray of high brightness from a target by restraining roughness of surface caused by thermal stress of the target even when the target is irradiated by energy-beam like electron beam in high-energy state.例文帳に追加

電子線などのエネルギー線を高エネルギー状態でターゲットに照射した場合においても、前記ターゲットの、熱応力に起因した表面荒れを抑制し、前記ターゲットから高輝度のＸ線を安定的に生成する。 - 特許庁

To provide a heat treatment method for a silicon wafer which can suppress deterioration of surface roughness even when rapid thermal process (RTP) is performed under high temperature at which annihilation force of void defects is high, and can also suppress occurrence of a concave-shaped pit.例文帳に追加

ボイド欠陥の消滅力が高い高温下でＲＴＰを行っても、表面粗さの悪化を抑制することができ、更に、凹形状のピットの発生も抑制することができるシリコンウェーハの熱処理方法を提供する。 - 特許庁

To cut off infiltration of water into a display layer and to prevent water from spreading between pixels, without causing the problems of increase in the surface roughness of and in the curvature of a ground film of a display layer of a display device.例文帳に追加

表示装置において、表示層の下地膜の表面粗さ増大の問題や、反りの問題を引き起こすことなく、表示層への水分の侵入を遮断することができ、また、画素間での水分の拡散を防止する。 - 特許庁

Sparks caused by the contact spring 50 is prevented as a corner R of a contact section 53 of the contact spring 50 is set up to be 0.2 mm or more and a surface roughness of a side of the contact section 53 is set up to be 0.6 μm or below.例文帳に追加

コンタクトスプリング５０のコンタクト部５３のコーナーＲを０．２ｍｍ以上とし、さらに、コンタクト部５３の側部の表面粗さＲｍａｘを０．６μｍ以下とすることによって、コンタクトスプリング５０からのスパークを防止する。 - 特許庁

A high quality wafer including Al_xGa_yIn_zN, wherein 0<y≤1 and x+y+z=1, with a root mean square surface roughness of less than 1 nm in an area of 10×10 μm^2 area on its Ga-side.例文帳に追加

ウェーハのＧａ側における１０×１０μｍ^２面積内で１ｎｍ未満の根二乗平均表面粗さを特徴とする、Ａｌ_ｘＧａ_ｙＩｎ_ｚＮ（式中、０＜ｙ≦１およびｘ＋ｙ＋ｚ＝１）を含む高品質ウェーハ。 - 特許庁