「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(67ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a high-strength, high-hardness lens molding die which enables lessening of surface roughness Ra in a lens molding face, has high thermal conductivity and low thermal expansion coefficient.例文帳に追加

レンズ成形面の表面粗さＲａを十分に小さくすることが可能で、高熱伝導性と低熱膨張係数を有し、かつ、高強度および高硬度なレンズ成形用金型を提供する。 - 特許庁

To provide a milling cutter, keeping high-level finished surface roughness, reducing the replacement frequency of cutting insert, simplifying and quickening the replacement work of the cutting insert, and reducing the machining cost.例文帳に追加

高度の仕上げ面粗度を維持しつつ、切削インサートの交換頻度の低減、及び切削インサートの交換作業の簡易、迅速化を図り、加工コストの低減を図ることのできるフライスカッターを提供する。 - 特許庁

To provide a method of observing a lubricating state in a roller bearing capable of observing the shortage of a lubrication oil and surface roughness between the outer ring and the rolling motion object of the roller bearing.例文帳に追加

転がり軸受の軸受外輪と転動体の間に存在する潤滑油の不足状態や面荒れを観測可能な転がり軸受における潤滑状態観測方法を提供する。 - 特許庁

To provide a lapping device and a lapping method by which an action load on a workpiece can be corrected even if it is a recessed shoe, desired surface roughness can be obtained in a short period of time, and a contact area can be increased.例文帳に追加

凹シューであっても、ワークに対する作用荷重を補正し、所望の面粗度が短時間で得られ、接触面積も大きくすることができる、ラッピング加工装置とラッピング加工方法を提供する。 - 特許庁

The recording medium for a dot printer comprises a resin composition which contains an inorganic particle on a base material 12 and has at least two peaks in the particle size distribution and is at least equipped with an image-receiving layer 14 of 1.0-3.0 μm in surface roughness (Ra).例文帳に追加

基材１２上に、無機粒子を含有し、その粒度分布に２以上のピークがある樹脂組成物からなり、表面粗さ（Ｒａ）が１．０〜３．０μｍの受像層１４を少なくとも備えた。 - 特許庁

An arithmetical mean roughness of the top surface of the insulating substrate 1 is made about from 0.5 μm to 1.0 μm to increase the adhering force of a resin covering member 7 covering an electronic component 2 to the insulating substrate 1.例文帳に追加

また絶縁基板１上面の算術平均粗さを０．５μｍ〜１．０μｍ程度とすることで、電子部品２を覆っている樹脂被覆材７と絶縁基板１との密着力を大きくした。 - 特許庁

A lower limit X of this surface roughness Ra is a value determined on the basis of a series of parameters including an internal stress σ, a thickness T and an adhesion P per unit length of a conductive film 2.例文帳に追加

この表面粗さＲａの下限Ｘは、導電性膜２の内部応力σ、厚さＴおよび単位長さ当たりの付着力Ｐを含む一連のパラメータに基づいて決定される値である。 - 特許庁

To provide a rotary table device which can manufacture a product having high dimensional accuracy and having a surface roughness of 0.3 μm or less, by rotary-machining a workpiece (e.g. a base of a bearing) secured onto a rotary table, and to provide a rotary grinding device with the rotary table device.例文帳に追加

ロ−タリ−テ−ブル上に固定されたワ−ク（例えば、軸受の台座）をロ−タリ−研削加工して表面粗さが０．３μｍ以下と寸法精度のよい製品を与える。 - 特許庁

To provide an electronic balance which is free from such troubles as damaging the flexible parts of the beams of a Roberval mechanism, or spoiling durability because of enlargement of its surface roughness due to adjustment for a one-sided placement error.例文帳に追加

偏置誤差の調整によりロバーバル機構の梁の可撓部が損傷したり、あるいはその面粗さが大きくなって耐久性を損なうといった不具合を生じない電子天びんを提供する。 - 特許庁

To provide a hollow fiber equipped with a transparent thin film having a little roughness on the surface and a nearly uniform film thickness in the longitudinal direction of the hollow fiber, and also to provide the manufacturing method of the same.例文帳に追加

透明薄膜の表面の表面粗さが小さく、中空ファイバの長手方向にわたって略均一な膜厚の透明薄膜を備える中空ファイバ、及び中空ファイバの製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent an image forming apparatus in which a defect in end fixation in the beginning of printing and a rise in temperature of a non-paper-feed part in continuous printing irrespective of parameters of the surface roughness, thickness, etc., of a recording material.例文帳に追加

画像形成装置において、記録材の表面粗さや厚み等のパラメータに関わらず、プリント初期における端部定着不良と連続プリントにおける非通紙部昇温を防止する。 - 特許庁

The surface roughness Ra of raceway faces of the outer ring 11 and the inner ring 12 is 0.1-2.0 μm, and a radius of curvature of the raceway is determined within a range of 52-60% Bd.例文帳に追加

そして、前記外輪１１および内輪１２の軌道面の表面粗さがＲａ０．１〜２．０μｍであり、かつその軌道の曲率半径が５２〜６０％Ｂｄの範囲に設定されている。 - 特許庁

A billet the surface roughness of which is adjusted so that its maximum height (Ry) is 0.1-1.0 mm by peeling, belt grinding or the like is charged in a manufacturing equipment from a billet charging machine 1.例文帳に追加

ピーリング、ベルト研磨等によって最大高さ（Ｒｙ）が０．１ｍｍ以上１．０ｍｍ以下となるように表面粗さが調整されたビレットが、ビレット装入機１から製造設備内に投入される。 - 特許庁

As a result, a tantalum oxidation film with a small thickness that has very high in-plane uniformity of thickness can be formed precisely, with very small surface roughness, and moreover with satisfactory electrical characteristics, even at low temperatures.例文帳に追加

これにより、低温でも、膜厚の面内均一性が非常に高くて表面粗さは非常に小さく、しかも電気的特性が良好な薄い膜厚のタンタル酸化膜を精度良く形成する。 - 特許庁

This surface roughness measuring instrument is provided with a pair of fixed rails 1, 2 fixed to a base, laid rails 3, 4 laid between the fixed rails 1, 2, and a stage 5 supported on the laid rails 3, 4.例文帳に追加

土台に固定された一対の固定レール１，２と、該固定レール１，２間に架設された架設レール３，４と、該架設レール３，４上に支持されたステージ５とを備える表面粗さ測定装置を用いる。 - 特許庁

To provide a method of transmitting information on tolerance, etc., of a three-dimensional model which can transmit information on the tolerance, surface roughness, shape alteration part, etc., of the three-dimensional model without preparing a two-dimensional drawing.例文帳に追加

３次元モデルの公差、表面粗さ、形状変更部位等の情報を２次元図面を作成することなく伝達できる３次元モデルの公差等の情報伝達方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition in which the roughness on the surface of an insulating layer is small in a wet roughening process and on which a plating conductor layer having sufficient peel strength can be formed.例文帳に追加

湿式粗化工程において絶縁層表面の粗度が小さく、その上に十分なピール強度を有するめっき導体層を形成することができる樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

This method forms a reflector film 4 on the coated film 3 without mirror polishing the base 2 having an aspherical surface 21 with asperities exceeding 5nm in a mean average roughness Ra.例文帳に追加

算術平均粗さＲａが５ｎｍを超える非球面形状の表面２１を有する基材２の非球面形状面を鏡面研磨せずに塗膜３を設け、塗膜３上に反射膜４を形成する。 - 特許庁

Then, since P radicals are present a much more than F radicals, reaction products by the O radicals are deposited inside a fine recessed part, which causes roughness, and the surface of the silicon wafer W is smoothed.例文帳に追加

すると、ＯラジカルがＦラジカルよりも多量に存在することから、Ｏラジカルによる反応生成物が荒れの原因となっている微少な凹部内に堆積して、シリコンウエハＷ表面が平滑化される。 - 特許庁

One example includes obtaining a surface with reduced roughness by creating process parameters that reduce impurities at an interfacial boundary between the first and second semiconductor crystalline materials.例文帳に追加

一実施例は、第１および第２の半導体結晶材料間の界面境界の不純物を減少させるプロセスパラメータを作成することによって、粗さが低減された表面を得ることを含む。 - 特許庁

In a semiconductive roller 1, a roller body 2 comprising a semiconductive rubber composition is specified to have Shore-A hardness of 60 or lower and surface roughness Rz of an outer circumference face 5 of 2.5 μm or more and 4.5 μm or less.例文帳に追加

半導電性ローラ１の、半導電性ゴム組成物からなるローラ本体２のショアＡ硬さを６０以下、外周面５の表面粗さＲｚを２．５μｍ以上、４．５μｍ以下とした。 - 特許庁

The conductive film 4 is formed on the inside face 21 of the positive electrode can 2 in contact with the positive electrode molding mix 3, while the surface roughness of the conductive coating 4 is set ≥10 μm (Ry value).例文帳に追加

正極成形合剤３と接する正極缶２内面２１に導電性皮膜４を形成するとともに、その導電性皮膜４の表面粗さを１０μｍ（Ｒｙ値）以上とする。 - 特許庁

First and second gears 12, 14 finished most suitably in interlocking between the first gear 12 equipped with the teeth 20 of a first pair and the second gear 14 equipped with the teeth of a second pair have surface roughness of roughly 5-10 (μ in) Ra.例文帳に追加

第１組の歯20を備える第１ギア12と、第２組の歯を備える第２ギア14の噛み合いにおいて、最適に仕上げた第１、第２ギア12,14は、概略５〜10（μin）Raの表面あらさを有する。 - 特許庁

A surface roughness of an opposite face 5 of the annular part 4a kept into contact with another ball-cage in a state that the ball-cage is assembled and rotated in the double row cylindrical roller bearing 10, is less than 0.6 μmRa.例文帳に追加

そして、複列円筒ころ軸受１０に組み込んで回転させた状態で別の保持器と接触する円環部４ａの対向面５の表面粗さは０．６μｍＲａ未満とされている。 - 特許庁

The linear grooves V as the marks of the application are deeper than surface roughness and contain the aromatic solution in an amount sufficient to secure appropriate contents and prolong the life of a wooden pillow regarding its aromatic performance.例文帳に追加

照射痕跡としての線状溝Ｖは表面粗さよりも深く、芳香液を充分含むものであるから、適切な含有量を確保でき、木質製枕の放香性能を長寿命化できる。 - 特許庁

To provide a copper foil for printed wiring board, and its producing method, exhibiting excellent stripping strength without increasing the surface roughness in order to deal with fine patterning of circuit wiring and high function of a basic material.例文帳に追加

本発明は、回路配線の微細化及び基材の高機能化に対応するため、表面粗さを上げることなく、引きはがし強さに優れるプリント配線板用銅箔とその製造方法を提供する。 - 特許庁

Mirror finish processing is applied to a thermoplastic resin film 1 to reduce the surface roughness of the thermoplastic resin film 1 smaller than the minimum particle size of each metal particle included in the conductive paste 5.例文帳に追加

熱可塑性樹脂フィルム１に対して鏡面仕上げ加工を施して、熱可塑性樹脂フィルム１の表面粗度を導電ペースト５に含まれる金属粒子の最小粒径よりも小さくする。 - 特許庁

The substrate of solar cell is composed of a thermoplastic crystalline resin composition containing inert particles having surface roughness Ra in the range of 30-500 nm on at least one side.例文帳に追加

不活性粒子を含有する熱可塑性結晶性樹脂の組成物から構成され少なくとも一方の面の表面粗さＲａが３０〜５００ｎｍであることを特徴とする太陽電池の基材。 - 特許庁

To provide a defect detection method for easily detecting defects in an SOI substrate by performing etching while restraining deterioration in the surface roughness of a silicon film and uniformity in a film thickness within a plane.例文帳に追加

シリコン膜の表面粗さおよび面内の膜厚均一性の悪化を抑えながらエッチングすることで、ＳＯＩ基板の欠陥を検出容易にする、欠陥検出方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Next, the bottom surfaces of the openings are processed in plastically processed surfaces of 0.2 μm or less in orifice surface roughness Rz by a press.例文帳に追加

また、プレス加工で開口部を表面あらさＲｚ０.２μｍ以下の塑性加工面に加工し、次に開口部の底面にプレス加工でオリフィスの表面あらさをＲｚ０.２μｍ以下の塑性加工面に加工する。 - 特許庁

Since the surfaces of the mica and the reconstituted mica have large surface roughness, leakage is induced and high conversion efficiency cannot be obtained, as it is, by forming a chalcopyrite-based light-absorbing layer 6.例文帳に追加

一方、マイカ及び集成マイカの表面は、大きな表面粗度を有するため、そのままカルコパイライト系の光吸収層６を形成したのでは、リークを誘発し高い変換効率を得ることができない。 - 特許庁

If an arithmetic average roughness Ra exceeds 1.0 μm or a maximum height Ry exceeds 6.0 μm, the surface is determined to be abnormal, and a warning is displayed in a display part 142.例文帳に追加

算術平均粗さＲａが１．０μｍを超えるか、または最大高さＲｙが６．０μｍを超えたときには、表面は異常であると判断され、表示部１４２に警告が表示される。 - 特許庁

(1) This composite yarn comprises the modified cross-section regenerated cellulose fibers having 1.1-10 degree of modified cross section of the fibers and 10-50 nm fiber surface roughness parameter Ra measured under an atomic force microscope.例文帳に追加

(1) 繊維の異型度が１．１〜１０で、原子間力顕微鏡で測定した繊維表面粗度パラメーターＲａが１０〜５０ｎｍである異型断面再生セルロース繊維を含有する複合糸。 - 特許庁

To quickly and simply manufacture a cubic article, having high strength and rigidity and superior precision and surface roughness by utilizing rapid prototyping.例文帳に追加

ラピッドプロトタイピングを活用し、高い強度および剛性，優れた精度，表面粗さを持つ立体品を迅速かつ簡便に製造できる立体品製造方法および立体品製造装置を提供する。 - 特許庁

In a semiconductor device having the trench 11 within a semiconductor substrate 10, roughness 11b shaped by uneven concave and convex surfaces in almost equal height is formed through at the bottom surface 11a of the trench 11 a dry etching process.例文帳に追加

半導体基板１０内にトレンチ１１を有する半導体装置において、トレンチ１１の底面１１ａに、ドライエッチング処理により高さが概ね均一な凹凸形状の粗さ１１ｂを形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing etching parts which is capable of controlling the surface roughness in etching to a specified value or below in etching a metallic base material consisting of an iron-nickel alloy.例文帳に追加

鉄−ニッケル合金からなる金属基材をエッチングする際エッチング時の表面粗さを一定の値以下に制御することができるエッチング部品の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the dummy head 30 on which the electrolytic dressing electrode 35 is arranged, by carrying out the electrolytic dressing of the honing grindstone 20, honing is achieved without dispersion of surface roughness and with stability.例文帳に追加

電解ドレッシング用電極３５が配設されたダミーヘッド３０においてホーニング砥石２０に電解ドレッシングを施すことにより面粗度のバラツキの無い安定した品質のホーニング加工が可能になる。 - 特許庁

A molybdenum material or molybdenum-alloy material having ≤0.1μm center line average roughness Ra of surface and ≤1.0μm maximum height Rz is used for a setter on which titanium or titanium-alloy powder is placed.例文帳に追加

チタン又はチタン合金の粉末を載置するセッターとして、表面の中心線平均粗さＲａが０．１μｍ以下、最大高さＲｚが１．０μｍ以下のモリブデン材又はモリブデン合金材を使用する。 - 特許庁

By controlling a root-mean-square roughness (RMS) value of a coating surface to ≥100 nm, the coating article having the high water repellency-oil repellency and simultaneously high falling angle is obtained.例文帳に追加

コーティング表面の二乗平均粗さ（ＲＭＳ）値を１００ｎｍ以上にすることによって高い撥水性・撥油性と高い転落角とを同時に有するコーティング物品を得ることができた。 - 特許庁

To provide a high-modulus polybenzoxazole film of low surface roughness obtainable using highly safe raw materials and without using any strong acid in its production process, namely low in environmental burden.例文帳に追加

安全性の高い原料を用い、製造工程で強酸を用いること無く得られる、すなわち環境負荷の小さい、表面粗さの小さい高弾性率のポリベンゾオキサゾールフィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a multilayer printed circuit board capable of forming a roughed surface of a conductor circuit having a uniform roughness without forming the circuit in an undercut shape.例文帳に追加

導体回路をアンダーカット形状にすることなく、導体回路表面の全体に均一な粗さの凹凸を有する粗化面を形成することができる多層プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus and a plasma processing method by which a mirror processing can be applied on a silicon substrate without degrading the surface roughness of a silicon material when hydrogen gas is used as etching gas.例文帳に追加

水素ガスをエッチングガスとして用いた場合に、シリコン材料の表面粗さを悪化させることなく、シリコン基板を鏡面加工し得るプラズマ加工装置及びプラズマ加工方法を提供する。 - 特許庁

More specifically, the AC element is extracted from the detection signal of the acceleration sensor 22, the AC element is rectified, and the road surface roughness is detected from the voltage signal according to the amplitude of the signal.例文帳に追加

具体的には、加速度センサ２２の検出信号から交流成分を抽出し、この交流成分を整流した後、その信号の振幅に応じた電圧信号から路面粗さを検出する。 - 特許庁

To propose a polypropylene film for mold release desirably used in molding e.g., a thermosetting molding member by forming uniform surface roughness on a polypropylene film and reducing voids inside the film.例文帳に追加

ポリプロピレンフイルムに均一な表面粗さを設けかつフイル内ボイドを低減することにより、熱硬化性成形部材等の成形時に好ましく使用される離型用ポリプロピレンフイルムを提案する。 - 特許庁

When the sum total of the thickness of the second substrate 6 and the light absorption layer 12 is defined as D μm, the square average root surface roughness of the light absorption layer 12 is set to be about ≤D/100 μm.例文帳に追加

第２の基板６と光吸収層１２との厚みの和をＤμｍとしたとき、光吸収層１２の自乗平均平方根表面粗さを約Ｄ／１００μｍ以下に設定する。 - 特許庁