「target pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

A data storage control unit 121 determines whether or not a pixel input from an input terminal 21a is an access candidate constituting an access pattern AP from an input terminal 21c, and if determined that the pixel is not the access candidate, determines whether or not the number of pixels stored in a memory bank of a current storage target in a memory 31 exceeds the predetermined maximum number of storage pixels.例文帳に追加

データ格納制御部１２１は、入力端子２１ａから入力された画素が、入力端子２１ｃからのアクセスパターンＡＰを構成するアクセス候補であるか否かを判定し、アクセス候補ではないと判定した場合、メモリ３１における現在格納対象のメモリバンクに格納されている画素が、予め設定されている最大格納画素数を超えたか否かを判定する。 - 特許庁

A lithographic equipment includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁

The electron beam aligner comprises means 11 for making a decision whether a positional shift is generated or not between a target pattern position and an actual writing position on a writing substrate 14 between start and end of multiplex writing, and means 12 for performing a corrective operation of the writing position during remaining multiplex writing such that the positional shift is cancelled.例文帳に追加

多重描画の開始から終了までの間に発生した描画基板１４上での実際の描画位置と目標パターン位置との位置ずれ量の有無を判定する位置ずれ量判定手段１１と、位置ずれ量を打ち消すように、多重描画に含まれる残りの多重描画の間に描画位置の補正操作を行う補正操作手段１２とを設けた。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal component that can considerably shorten a cycle time of the whole laminating process while surely forming a resin layer in a desired form through resin application by applying optical resin in an optimal pattern for target resin layer formation in an extremely short time in forming a layer of the optical resin recently developed and announced.例文帳に追加

最近開発され発表された光学樹脂の層を形成するに際し、この光学樹脂を極めて短時間で目標とする樹脂層形成のための最適なパターンにて塗布できるようにし、その樹脂塗布を介して確実に望ましい形態の樹脂層を形成するとともに貼り合わせ工程全体のタクトタイムを大幅に短縮できる液晶部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

A display control board 32 forming a display control means of a game machine has an image ROM 46 holding the basic stationary image data showing basic pattern of an image, a video display processor(VDP) 45 having the function of reducing and enlarging image data in the x and y directions, a CPU 41 computing the y direction position of the image data and the target values of expansion and reduction ratios.例文帳に追加

遊技機の表示制御手段を構成する表示制御基板３２は、画像の基本姿態を表わした基本静止画像データを保持する画像ＲＯＭ４６と、画像データをｘｙ両方向に縮小及び拡大する機能を持つビデオディスプレイプロセッサ（ＶＤＰ）４５と、画像データのｙ方向位置及び拡縮倍率の目標値を演算するＣＰＵ４１とを備える。 - 特許庁

To provide a game machine capable of executing such continuous advance-notice presentation as to efficiently give a player a sense of expectancy for a jackpot without changing a variation pattern of a variable display game for a starting memory generated before the target starting memory for the advance-notice presentation in executing the continuous advance-notice presentation over a plurality of variable display game rounds.例文帳に追加

複数の変動表示ゲームにわたって連続予告演出を行う場合に、この予告演出の対象となる始動記憶よりも以前に発生していた始動記憶に対する変動表示ゲームの変動パターンを変更することなく、効率良く遊技者に大当りの期待感を抱かせる連続予告演出を実行することができる遊技機を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the circuit board, one or plural used lands 22 for bonding one or a plurality of electronic components 4 required for constituting one target electronic circuit, and a one or plural unused lands 20 for bonding one or plural electronic components to be required in the case of constituting the other electric circuit are formed on a conductive pattern 2.例文帳に追加

本発明に係る回路基板において、導体パターン２には、目的の１つの電子回路を構成するために必要な１或いは複数の電子部品４を接合すべき１或いは複数の使用ランド部22と、他の電子回路を構成する場合に必要となる１或いは複数の電子部品を接合するための１或いは複数の不使用ランド部20とが形成されている。 - 特許庁

The entire region of image data obtained by photographing a target electronically is stored; reference pixels are successively selected from the entire region of image data according to a prescribed pattern; the color information of the reference pixels is discriminated and prescribed statistical processing is executed; and the parameters of prescribed image processing are determined based on the result of statistical processing, thus performing image processing to the image data.例文帳に追加

対象物を電子撮影して得られた画像データの全域を記憶し、画像データの全域から所定のパターンに従って参照画素を逐次選択し、参照画素の色情報を判別して所定の統計処理を実施し、その後、統計処理の結果に基づいて、所定の画像処理のパラメータを決定して、画像データに画像処理を施すようにした。 - 特許庁

An information processor 10 composes a print target drawing wherein a drawing included in an area designated from the drawing data is converted into a magnification corresponding to a size of a designated printer sheet and a pattern image for specifying an optional position on the printer sheet to generate print information, and stores correspondence relation data representing a point on the drawing data to which each point on the printer sheet corresponds.例文帳に追加

情報処理装置１０は、製図データの中から指定された領域に含まれる図面を、指定された印刷用紙の大きさに応じた倍率に変換した印刷対象図面と、印刷用紙上の任意の位置を特定するためのパターン画像とを合成して印刷情報を生成し、印刷用紙上の各点が製図データ上の如何なる点に対応するかを表す対応関係データを記憶する。 - 特許庁

In the nano-pattern structure formed with the continuous ultrafine patterns 12 composed of the ultrafine particles 10, on the substrate 2, the ultrafine patterns 12 are formed of the ultrafine particles 10 composed of mask constitutive atoms or constitutive molecules detached by the oblique irradiation of high energy beams to a mask 4 arranged on the substrate 2 and formed of a target material with fine clearances 6 for providing the patterns.例文帳に追加

基板２上に超微粒子１０によって構成される連続的な超微細パターン１２を形成してなるナノパターン構造体において、かかる超微細パターン１２が、前記基板２上に配置された、該パターンを与える細隙６を有するターゲット材からなるマスク４への高エネルギービームの斜め照射によって離脱した、該マスクの構成原子又は構成分子からなる超微粒子１０により形成されるようにした。 - 特許庁

A projecting position for specifying an item to be a projection target acquired for each arrangement of an item constituting sequence data is associated with an item to be a basic point of the projection and stored, and an item specified by the projecting position stored while associated with the item is extracted from the sequence data with the last item among items in the sequence data corresponding to the sequence pattern as a basic point.例文帳に追加

系列データを構成するアイテムの配列毎に取得した射影の対象となるアイテムを特定するための射影位置を、当該射影の基点となるアイテムに関連付けて記憶し、系列パタンに対応する前記系列データでのアイテムのうち最後のアイテムを基点として、このアイテムに関連付けて記憶された前記射影位置により特定されるアイテムを前記系列データから抽出する。 - 特許庁

A test pattern generation part 110 in a debugging support host program 100 generates a status transition pass from a status transition table 1 and supposed events and unexpected events for respective states of the status transition pass as test patterns, and an event issue part 210 in a debugging support target program 200 issues all unexpected events in respective states of the status transition pass before the supposed events by using the test patterns.例文帳に追加

デバッグ支援ホストプログラム１００のテストパターン生成部１１０が状態遷移表１から状態遷移パスならびに状態遷移パスの各状態に対する想定内イベントおよび想定外イベントをテストパターンとして生成し、デバッグ支援ターゲットプログラム２００のイベント発行部２１０がテストパターンを用いて状態遷移パスの各状態の想定外イベントを想定内イベントの前に全て発行するよう構成する。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support formed to support a patterning device formed to impart a cross-sectional pattern to the radiation beam to form a patterned radiation beam; a substrate table formed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto an elongate target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、パターン化された放射ビームを形成するべく放射ビームに断面パターンを付与するように構築されたパターニング・デバイスを支持するように構築されたサポートと、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン化された放射ビームを基板の細長い目標部分に投射するようになされた投影システムとを備えている。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support formed to support a patterning device (formed to impart a cross-sectional pattern to the radiation beam to form a patterned radiation beam); a substrate table formed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、パターニング・デバイス（パターン化された放射ビームを形成するべく放射ビームに断面パターンを付与するように構築されている）を支持するように構築されたサポートと、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン化された放射ビームを基板の目標部分に投射するようになされた投影システムとを備えている。 - 特許庁

To provide a bonding film transfer device which can transfer a bonding film with a target pattern on a surface of an adherend regardless of its simple structure and which can efficiently bond the adherend and the other adherend via the transferred bonding film, and a bonding device which can efficiently bond the adherend to which the bonding film is transferred by the bonding film transfer device and the other adherend.例文帳に追加

簡単な構造にもかかわらず、被着体の表面に目的とするパターンの接合膜を転写し得る装置であって、この転写された接合膜を介して前記被着体と他の被着体とを効率よく接合することを可能にする接合膜転写装置、およびかかる接合膜転写装置により接合膜が転写された被着体と、前記他の被着体とを効率よく接合可能な接合装置を提供すること。 - 特許庁

A speech break detecting part 17 detects this speech break information, a speech segmenting part 16 sequentially segmenting the input speech from the microphone 21 separatively into large character levels and small character levels, and a reference part 18 compares each of the segmented speech per level with a plurality of comparison target pattern candidates of speech recognition dictionaries provided beforehand in accordance with each level and sequentially determines those with high matching degrees as recognition results.例文帳に追加

音声切れ目検出部１７は、この音声切れ目情報を検出し、音声切出し部１６は、該音声切れ目情報に基づきマイク２１から入力音声を大字レベルと小字レベル別に順次切出し、照合部１８は、この切出された各レベル毎の音声を、予め各レベルに対応して設けた音声認識辞書の複数の比較対象パターン候補と比較し一致度合いの高いものを順次認識結果とする。 - 特許庁

The lighting system of vehicles which lights forward a vehicle comprises a plurality of light sources each of which lights different area to form a predetermined light distribution pattern as a whole and a controller which figures out traffic scenes in which the vehicle runs and varies at least one of directions or intensity of the plural light sources independently to form target light distribution patterns preset dependently on the traffic scenes.例文帳に追加

車両の前方を照らす車両用照明システムは、それぞれが異なる照射領域を照らし、全体として所定の配光パターンを形成する複数の光源と、車両が走行する交通シーンを判断し、複数の光源の向き及び光量の少なくとも一方を光源毎に独立して変化させることにより、交通シーンごとに予め設定された目標の配光パターンを形成する制御部とを備える。 - 特許庁

This method for producing a monomolecular film 530 patterned on a substrate includes a step for adjusting an organic molecule having a self-organizing characteristic, a step for applying the organic molecule to an alignment surface 310, a step for applying the alignment surface 310 to a target substrate 570, a step for separating the alignment surface, and a step for leaving a pattern wherein the organic molecule is orientated on the substrate 570.例文帳に追加

基板上にパターニングされた単分子膜５３０を作製する方法であって、自己組織化する特性を有する有機分子を調製するステップと、該有機分子をアライメント用表面３１０に適用するステップと、アライメント用表面３１０をターゲット基板５７０に適用するステップと、前記アライメント用表面を分離するステップと、前記基板５７０上に前記有機分子の配向されたパターンを残すステップとを含む、基板上にパターニングされた単分子膜を作製する方法を提供する。 - 特許庁

The lithographic equipment has a radiation system for providing a projection beam of radiation, a support structure for supporting the patterning means that patterns the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, a projection system for projecting the patterned beam onto a target area on the substrate, and an interferometer system to help positioning an object in the equipment, wherein the interferometer system performs position measurement.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置であって、放射線の投影ビームを供給するための放射線システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化する働きをするパターニング手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影するための投影システムと、装置内での対象物の位置決めを助ける干渉計システムとを備えていて、干渉計システムが位置測定を行うように配置されているリソグラフィ投影装置。 - 特許庁