「target pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

A restored partial response target signal obtained from a restored data output signal and sampled partial response target data is filtered to generate a filtered output signal 51, and a threshold circuit presents a threshold with which this filtered output signal is compared, and a prescribed value 60 is added to the filtered output signal when a prescribed error event pattern caused by the medium noise or the like is generated in a restored data output signal 35.例文帳に追加

復元データ出力信号とサンプルしたパーシャル・レスポンス・ターゲット・データとから得た復元パーシャル・レスポンス・ターゲット信号をフィルタして、フィルタした出力信号（５１）を発生し、しきい値回路は、このフィルタした出力信号を比較するしきい値を提供し、そして所定の値６０は、メディア・ノイズ等に起因する所定のエラー・イベント・パターンが復元データ出力信号３５に発生したとき、フィルタした出力信号に加算する。 - 特許庁

The prior control means forms only one toner pattern for detection 9x on an intermediate transfer belt 5 by developing a bias decided by the last adhesive amount control, compares a detection value for prior control by an optical toner sensor 9 concerning the pattern 9X with a target detection value, obtains a difference between them, and variously sets a number of toner patterns for detection formed in the adhesive amount control based on the difference.例文帳に追加

該事前制御手段は、前回の付着量制御によって決定された現像バイアスによって、中間転写ベルト５上に検出用トナーパターン９Ｘを１個だけ形成し、パターン９Ｘについての光学式トナーセンサ９による事前制御用検出値を、目標検出値と比較して、その差異を求め、その差異に基づいて、付着量制御において形成する検出用トナーパターンの個数を種々設定する。 - 特許庁

This is the control method of the optical laser disk drive being characterized in that the laser diode is controlled such that a test pattern is recorded in at least one of a header and a tail of the recording unit block including data area having predetermined size, input/output characteristics of the laser diode are detected using the recorded test pattern, and target output is generated on the basis of the detected input/output characteristics.例文帳に追加

一定の大きさを有するデータ領域を含む記録単位ブロックの先端と後端のうち少なくとも一つにテストパターンを記録し、前記記録されたテストパターンを用いてレーザーダイオードの入出力特性を検出し、前記検出された入出力特性に基づいて前記レーザーダイオードが目的とする出力を発生させるように前記レーザーダイオードを制御することを特徴とする光ディスクドライブの制御方法を構成する。 - 特許庁

A lithography apparatus is equipped with a radiation system for providing projection radiation beam, a supporting structure for supporting a patterning means which functions to pattern the cross section of the projection beam, a substrate table for holding a substrate, and a projection system for projecting patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィック装置は、投影放射ビームを提供するための放射システムと、投影ビームの断面をパターン化するべく機能するパターン化手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムとを備えている。 - 特許庁

The lithograph projector comprises a mechanism for supplying a projection radiation beam, a structure supporting a member for patterning the projection beam according to a desired pattern, and a mechanism for projecting a patterned beam to a target part of a substrate.例文帳に追加

投影放射線ビームを供給するための放射線機構；前記投影ビームを希望のパターンに従いパターン化する働きをするパターン化部材を支持するための支持構造体；基体を支持するための基体テーブル；及び基体の目標部分にパターン化されたビームを投影するための投影機構；を具えたリトグラフ投影装置。 - 特許庁

The control circuit 8 adjusts and controls the level adjusting means 45 based on the operation result by the operation circuit 7, and therefore the receiving power level is corrected based on a beam pattern shape characteristic of the antenna 1, and the target reflected signal level can be captured in a dynamic range in a receiver and detected.例文帳に追加

制御回路８は、演算回路７による上記演算結果に基づき、レベル調整手段４５を調整制御するので、アンテナ１固有のビームパターン形状に基づき受信電力レベルが補正され、目標反射信号レベルを受信機におけるダイナミックレンジ内に捕らえて検出することができる。 - 特許庁

A pixel block determining means 31 sequentially extracts a pixel block of a prescribed size from a search target image, in accordance with a collation pattern; determines whether the extracted pixel block satisfies a prescribed determination condition; and sets a search basic pixel corresponding to each pixel block, in the case of satisfying the condition.例文帳に追加

画素ブロック判定手段３１が、照合パターンに従って所定サイズの画素ブロックを探索対象画像から順次抽出し、抽出した画素ブロックに対して所定の判定条件を満たすかどうかの判定を行い、条件を満たす場合に各画素ブロックに対応する探索基点画素を設定する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask blank capable of manufacturing a high-quality mask blank with a high yield, while suppressing generation of defects in a thin film for forming a mask pattern, to provide a method for manufacturing a transfer mask manufactured by patterning the thin film of the mask blank, and to provide a sputtering target that is used for manufacturing the mask blank.例文帳に追加

マスクパターンを形成するための薄膜の欠陥発生を抑えた高品質のマスクブランクを、高い歩留まりで製造することのできるマスクブランクの製造方法と、前記マスクブランクの薄膜をパターニングして製造する転写マスクの製造方法、並びに前記マスクブランクの製造に用いるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

This leakage sensing method of the injector for the LPI vehicle finally restrains injection with an integral frequency as a reference by integrating a counter one by one every time when starting required time exceeds target time in a starting delay by fuel leakage of an LPI engine and a reducing pattern of unburnt hydrocarbon HC.例文帳に追加

本発明のＬＰＩ車両用インジェクターの漏洩感知方法は、ＬＰＩエンジンの燃料漏洩による始動遅延及び未燃焼炭化水素（ＨＣ）の低減パターンに関し、始動所要時間が目標時間を超えるたびにカウンターを１ずつ積算し、結局積算回数を基準に噴射することを抑制するものである。 - 特許庁

Since the mold opening amount of the target trajectory can uniquely be set as a pattern wherein it gradually increases after starting the advance of the plunger while changing linearly to reach a maximum amount and after that, keeps the maximum, no complicated trial and error is needed to set he operational condition of the pressure plunger.例文帳に追加

型開量の目標軌跡は、加圧プランジャの前進開始から直線的な変化で漸増して最大型開量に達し、その後は最大型開量を保持するパターンとして一意的に設定することができるので、加圧プランジャの作動条件設定における煩雑な試行錯誤が不要となる。 - 特許庁

When the player presses a your technique level key 630 on a technique level guide image, this drum type game machine statistically processes the shift amount of the position of a target pattern and a valid line on which the patterns of a role should be arranged at the time of a reel stopping operation and displays the technique level 804 of the spot pushing of the player at a variable display device 609.例文帳に追加

回胴式遊技機は、遊技者が技術レベル案内画面であなたの技術レベルキー６３０を押すと、リール停止操作時における狙った図柄の位置と役の図柄を揃えるべき有効ラインとの偏移量を統計処理し、遊技者の目押しの技術レベル８０４を可変表示装置６０９に表示する。 - 特許庁

A lithographic apparatus includes a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting a radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate on a central area; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target part of the substrate in a first direction.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームの断面内にパターンを付与して、パターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持するようサポートと、基板をその中央領域上に保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを第１の方向で基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁

In case that the estimated traveling scene of the one's own vehicle is a traveling scene becoming a target to which effect sound is output, a sound processing device 20 outputs the effect sound of a pattern corresponding to the traveling scene from a speaker 2, at timing different from standard timing synchronizing with visual recognition by a direct view filed of the driver.例文帳に追加

そして、推定した自車の走行シーンが効果音を出力させる対象となる走行シーンである場合に、音処理装置２０が、当該走行シーンに対応したパターンの効果音を、運転者の直接視界による視覚認知と同期した基準タイミングとは異なるタイミングで、スピーカ２から出力させる。 - 特許庁

The data transmitting device of the receiving side transmits a "restart-channel" message to the data transmitting device of the transmitting side (S8) when the data of the prescribed pattern received through the excluded line is determined to be normal (S7), and the data transmitting device of the transmitting side adds the excluded line to the target of the multilink communication (S9).例文帳に追加

受信側のデータ伝送装置は、除外された回線を介して受信される所定パターンのデータが正常であると判定した場合（Ｓ７）に“Restart-Channel”メッセージを送信側のデータ伝送装置宛に送信し（Ｓ８）、送信側のデータ伝送装置は、除外した回線をマルチリンク通信の対象に付加する（Ｓ９）。 - 特許庁

The method for manufacturing a photomask blank having a thin film for forming at least a pattern on a transparent substrate is characterized in that the thin film is formed by sputtering a target facing the position to which the center axis of the substrate shifts while the substrate is rotated.例文帳に追加

透明基板上に少なくともパターンを形成するための薄膜を有するフォトマスクブランクの製造方法において、前記薄膜を、前記基板を回転させながら、前記基板の中心軸からその中心軸がずれた位置に対向するターゲットをスパッタリングすることによって成膜することを特徴とするフォトマスクブランクの製造方法。 - 特許庁

A second aspect is to acquire an optimal stigma value (astigmatism correction signal) by using the standard sample, to store the value as a default value, to have the default value superimposed in accordance with the height of an observation target sample pattern, and to perform an astigmatism correction on the basis of the stigma value with the default value superimposed.例文帳に追加

上記目的を達成するための第２の態様では、標準サンプルにて最適なスティグマ値（非点補正信号）を取得し、その値をデフォルト設定値として記憶させ、観察対象サンプルのパターン高さに応じて、デフォルト値を重畳し、当該デフォルト値が重畳されたスティグマ値に基づいて、非点補正を行う。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes: an illumination system for attaching conditions to radial beams; a support for supporting a patterning device capable of giving a pattern to a section of the radial beams to form the patterning radial beams; a substrate table for holding a substrate; and the projection system for projecting the patterning radial beams onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付ける照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することが可能なパターニングデバイスを支持するサポートと、基板を保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁

In this system 10, a first upper limit speed pattern in which speed is gradually reduced from a predetermined speed to a predetermined terminal speed in a section C1 to be controlled whose distance is a distance L1 from a position B1 where the train arrives after a predetermined time elapses from the start of YP signal reception to the target stop position S or less is used.例文帳に追加

このシステム１０では、ＹＰ信号受信開始から所定時間経過後に到達する位置Ｂ１から目標停止位置Ｓまでの距離Ｌ１以下の制御対象区間Ｃ１において所定速度から所定の終端速度まで漸減する第一の上限速度パターンが、用いられる。 - 特許庁

A plurality of model control points pa, pb, pc are set in a two-dimensional diagram pattern formed of a temperature deviation En between a target after-evaporator temperature TEO and after-evaporator temperature Te and of the deviation change rate Edot of the temperature deviation En, so that an actual control coordinate point px in a present input value is specified.例文帳に追加

目標蒸発器後温度ＴＥＯと蒸発器後温度Ｔｅとの温度偏差Ｅｎと、その温度偏差Ｅｎの偏差変化率Ｅｄｏｔとで形成された二次元線図パターンに多数のモデル制御点ｐａ、ｐｂ、ｐｃを設定し、現入力値における実制御座標点ｐｘを特定する。 - 特許庁

A comparison part 54 calculates a deviation ER between the heat generation rate ROHR calculated from the detected in-cylinder pressure PCYL and a heat generation rate ROHROBJ of the target variation pattern, and a correction part 55 corrects fuel injection timing, a fuel injection amount and an exhaust recirculation amount in accordance with the deviation ER.例文帳に追加

比較部５４は、検出筒内圧ＰＣＹＬから算出される熱発生率ＲＯＨＲと、目標変化パターンの熱発生率ＲＯＨＲＯＢＪとの偏差ＥＲを算出し、補正部５５は、偏差ＥＲに応じて燃料噴射時期、燃料噴射量び排気還流量の補正を行う。 - 特許庁

To provide a method for obtaining a number of amplification products of nucleic acids at one time from a pair of primer sets when a nucleic acid is amplified through applying the PCR method in a method for detecting nucleic acid mutation which detects the nucleic acid mutation from a dissociation curve of a target double strand nucleic acid to a single strand or a dissociation pattern.例文帳に追加

対象２本鎖核酸の１本鎖への解離曲線あるいは解離パターンから核酸変異を検出する核酸変異検出法において、ＰＣＲ法を応用して核酸増幅を行う場合に一対のプライマーセットから一度に数多くの核酸増幅産物を得る方法を提供する。 - 特許庁

When a transfer starting point T is set in the setting section H 2 according to the target accuracy of the pattern to be formed, the exposure can be performed efficiently, in such a way that the exposing area on the substrate P can be expanded, and so on, in the case where the mask M and substrate P are moved by prescribe number of strokes.例文帳に追加

このとき、形成するパターンの目標精度に応じて、転写開始点Ｔを整定区間Ｈ２に設定することにより、マスクＭ及び基板Ｐが所定のストロークで移動する場合、基板Ｐ上における露光領域を拡大することができるなど、露光処理を効率良く行うことができる。 - 特許庁

That same year, the following statement by a radical political activist appeared in the "Tokyo Nichinichi Shinbun" (the 'Tokyo Daily Newspaper'): "if you see the emerging pattern, that the target of the parties' pro-democracy political activists must not be limited to Inoue, and the current situation demands that all the mayor conservatives in the Diet deserve violent treatment, you should perceive that riot and strife of any imaginable scale could occur at any moment, and so on." 例文帳に追加

この年の『東京日日新聞』に「民党壮士が目指すものは独り井上に止まらず、温派議員の錚々たる者には総て乱暴を仕掛くべしとの模様も見ゆれば、今程は何れにても如何なる騒動の起り居るならんも知らずと云々」と過激な壮士の発言が掲載された。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

In a layer wherein bonding pad aluminum 21 is formed, the peripheral removal of an insulating film 17 and an insulating film 18 for pad formation for preventing peeling of the films is performed not over a wiring pattern portion (having residual Cu 16) that becomes a target of Cu removal in the layer of just lower copper wiring 14.例文帳に追加

ボンディングパッドアルミ２１を形成する層において、膜はがれ防止のために行う絶縁膜１７とパッド形成用絶縁膜１８の周辺除去を、すぐ下の銅配線１４の層においてＣｕ除去の対象となった配線パターン部（Ｃｕ残り１６のある箇所）を超えないように行う。 - 特許庁

A substrate processing apparatus includes a lithographic apparatus which comprises an illumination system for supplying a projection beam of radiation, an array of individually controllable elements serving to impart the projection beam with a pattern in its cross-section, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of a substrate.例文帳に追加

基板処理装置は、放射の投影ビームを供給するための照明システム、投影ビームの断面にパターンを付与するべく機能する個々に制御可能な複数のエレメントのアレイ、及びパターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムを備えたリソグラフィ装置を備えている。 - 特許庁

The film carrier tape for mounting electronic component 10 having a mounting unit where a wiring pattern 22 is formed on a substrate by etching and the final defect marking method of the film carrier tape for mounting electronic component are characterised in that the unit has a target mark 30 being a reference for positioning to perform final defect marking in the target position on the mounting unit by a marking means.例文帳に追加

基材上にエッチングにより配線パターン２２を形成した実装ユニットを有する、電子部品実装用フィルムキャリアテープ１０であって、前記実装ユニットは、前記エッチングにより前記基材上に形成したパターンとして、マーキング手段により前記実装ユニット上の目標位置に最終不良マーキングを行うための位置合わせの基準となるターゲットマーク３０を有することを特徴とする電子部品実装用フィルムキャリアテープ、および電子部品実装用フィルムキャリアテープの最終不良マーキング方法。 - 特許庁

To calibrate relative relationship of optical axis positions of two opposite imaging optical systems without removing a wafer from a wafer stage and moving a target pattern to an optical axis position of the optical system, and calibrate a size of one pixel of image data of the two optical systems and a mounting angle of a camera collectively.例文帳に追加

対向する2つの撮像光学系に対して、ウエハをウエハステージから取り外したり、ターゲットパターンを光学系の光軸位置に移動したりすることなく、2つの光学系の光軸位置の相対関係を高精度にキャリブレーションすることが可能となると同時に、2つの光学系の画像データ1画素の大きさ、カメラの取り付け角度も一括してキャリブレーションできる。 - 特許庁

A support vector machine and a neural network are used to automatically learn a customer purchase pattern by using an 'information input (explanatory variable) by a question' and an 'information input (target variable) by purchase merchandise' until a previous time point in order to understand a customer group image, and optimum advertisement display for the 'information input by the question' at the present time point is performed.例文帳に追加

顧客の群像を理解するため、前時点までの「質問による情報入力（説明変数）」と「購入商品による情報入力（目的変数）」をもちいて、サポートベクターマシンやニューラルネットワークを使って顧客の購買パターンを自動的に学習させて、現時点での「質問による情報入力」に対する最適な広告表示をおこなう。 - 特許庁

A target area is repeatedly imaged by constituting a three-dimensional space with the head/face part and an active optical device, assigning the position and posture of the head/face part based on physical anthropology standards, and geometrical-optically reassigning the position and posture of the head/face part based on a reflection pattern image of a structural light coaxially projected on the surface of the head/face part.例文帳に追加

頭顔部と能動光学装置を含んで３次元世界空間を構成し、頭顔部の位置と姿勢を自然人類学の基準に基づいて定位し、更に頭顔部表面に同軸投光した構造光の反射パタン画像に基づいて幾何光学的に再定位することにより、対象領域を繰り返し撮像する。 - 特許庁

The lithography apparatus includes a substrate table constructed, configured, and arranged so as to hold a plurality of substrates at each of a plurality of positions, where exposures can be made on the substrate, and a projection system constructed, configured, and arranged so as to project pattern-formed radiation beams onto the target portions of the plurality of substrates at positions where exposures can be made.例文帳に追加

本発明は、基板テーブル上の複数の個々の露光可能位置で複数の基板を保持するように構築され、配置構成された基板テーブルと、パターン形成した放射線ビームを露光可能な位置で複数の基板の目標部分に投影するように構築され、配置構成された投影システムとを含むリソグラフィ装置に関する。 - 特許庁

By using a sputtering target 14, containing silicon and having a hardness of 900 HV or more in Vickers' hardness, a thin film for forming the mask pattern on a substrate 1 is formed by sputtering, and the high-quality mask blank that suppresses generating of defects is manufactured; and further, the transfer mask is manufactured by patterning the thin film.例文帳に追加

シリコンを含有するスパッタリングターゲット１４であって、ターゲットの硬度が、ビッカース硬さで９００ＨＶ以上であるスパッタリングターゲットを用いて、基板１上にマスクパターンを形成するための薄膜をスパッタリング法で形成し、欠陥発生を抑えた高品位のマスクブランクを製造し、さらに、薄膜をパターニングすることで転写マスクを製造した。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises an illumination system for providing a projection radiation beam, a support structure for supporting a patterned device that functions to give a pattern on the sectional face of the projection beam, a substrate table for holding a substrate, and a projector for projecting a patterned beam on the target of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、投影放射ビームを提供するための照明システムと、投影ビーム中の放射を透過若しくは反射させ、投影ビームの断面にパターンを付与するように機能するパターン化デバイスを支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影装置とを備えている。 - 特許庁

A lithographic apparatus is provided which has an array of individually controllable elements to modulate a cross-section of a radiation beam, a substrate table to support a substrate, a projection system to project the modulated radiation beam onto a target portion of the substrate to apply a pattern, and a position encoder having a position sensor and a scale to determine a position of the substrate table.例文帳に追加

放射線ビームの断面を変調する個別制御可能な要素のアレイと、基板を支持する基板テーブルと、変調された放射線ビームを基板のターゲット部分に投影してパターンを適用する投影システムと、基板テーブルの位置を決定する位置センサおよびスケールを備えた位置エンコーダとを有するリソグラフィ装置が提供される。 - 特許庁

A lithographic projection apparatus is provided with a radiation system for supplying a radiation projection beam, a support structure for supporting a patterning means that submits the projection beam to patterning according to a designed pattern, a substrate table for retaining a substrate and a projection system for projecting the beam that has been submitted to patterning to a target part of the substrate.例文帳に追加

放射の投影ビームを供給するための放射システムと、設計されたパターンに従って、投影ビームをパターニングする働きをするパターニング手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、上記基板の目標部分にパターニングされたビームを投影するための投影システムとを備えるリソグラフィ投影装置。 - 特許庁

This game machine calculates ball entering rates of the respective ball entering holes based on past ball entering information of the respective ball entering holes 11, determines a completion role to be aimed based on the combination of tile symbols in hand by a completion pattern determination program, and extract the tile to be aimed next for satisfying a completion role to be aimed by a target tile extraction program.例文帳に追加

各入球口１１における過去の入球情報に基づき各入球口の入球率を算出しておき、上がりパターン判定プログラムによって手牌図柄の組合せに基づき狙うべき上がり役を判定し、目標牌抽出プログラムによって狙うべき上がり役を成立させるために次に狙うべき牌を抽出する。 - 特許庁

A charging rate target forming means 9 makes an estimated running pattern by considering an estimated route set in a navigation device 8, and jam information on a route acquired from a traffic center 10 by a traffic information input means 7, to prepare a charging/discharging schedule of a battery to minimize the overall amount of fuel consumption.例文帳に追加

充電率目標値作成手段９が、ナビゲーション装置８に設定された予定走行経路と、交通情報入力手段７が交通センタ１０から入手した経路上の混雑情報とを考慮して予測走行パターンを作成し、総合的な燃料消費量を最小化するようなバッテリの充放電スケジュールを作成する。 - 特許庁

In the stepwise movement of the substrate stage, the stand-by time from the time when the position change from the target position where the substrate stage should stop is in a predetermined tolerance, until the time when exposure of the mask pattern image onto each exposure region of the photosensitive substrate is started is controlled depending on the time for exposure onto each exposure region on the photosensitive substrate.例文帳に追加

基板ステージのステッピング移動において基板ステージの停止すべき目標位置からの位置変動が所定の許容範囲内に収まった時点から感光性基板上の各露光領域へのマスクのパターンの像の露光を開始する時点までの待機時間を感光性基板上の各露光領域への露光時間に基づいて制御する。 - 特許庁

Engine torque estimation is calculated from an engine torque characteristic in an engine torque estimation arithmetic means, by an engine torque estimated value correcting means and an engine torque estimated value learning means, accuracy of the engine torque estimated value is improved, a target torque pattern of an engine and a motor generator is generated in accordance with an operating condition of a hybrid vehicle based on the engine torque estimated value.例文帳に追加

エンジントルク推定演算手段でエンジントルク特性からエンジントルク推定を演算し、エンジントルク推定値補正手段、エンジントルク推定値学習手段により、前記エンジントルク推定値の精度を向上させ、前記エンジントルク推定値をもとにハイブリッド車両の運転状態に応じて、エンジン及び電動発電機の目標トルクパターンを発生する。 - 特許庁

To provide a genuine/counterfeit determination method and device for a coin using an acoustic property allowing clear comprehension of a pattern of collision sound without causing suppression of the collision sound emitted by the coin by another member by colliding the coin that is a determination target with a collision sound generation means without bringing the coin into contact with the other member.例文帳に追加

識別対象となる硬貨を他の部材に接触させることなく衝突音発生手段に衝突させることで、硬貨が発する衝突音が他の部材によって抑制されることがなく、衝突音のパターンを明瞭に把握することが可能な音響特性を用いた硬貨の真贋識別方法と装置を提供する。 - 特許庁

The target marks 30 are formed primarily to improve precision in printing a circuit pattern, and are detected by an image processor 25 to detect not only a shift in the position of the board body A but also a shift in the direction of the board body A from a specified direction, which results from the rotation of the board body A with respect to the diagonal intersection P0.例文帳に追加

これにより、本来、回路パターンの印刷精度を向上させるために設けられているターゲットマーク３０を画像処理装置２５で検知することにより、基板本体Ａの位置がずれている場合のみならず、平面対角線交点Ｐ０を中心として基板本体Ａが回転して向きが規定の向きからずれている場合も検知できる。 - 特許庁

To provide a rubber blanket for fine line patterning capable of printing a target pattern by a surface rubber of the rubber blanket having surface roughness within a prescribed range with respect to surface roughness of a surface of a printing body, and a method for manufacturing the rubber blanket having prescribed surface roughness.例文帳に追加

この発明は、細線パターニング用のゴムブランケットにおいて、ゴムブランケットの表面ゴムの表面粗さが、被印刷体の表面の表面粗さに対して所定の範囲にあることにより目的とするパターンの印刷が出来ることを見出したものであり、更に所定の表面粗さを持つゴムブランケットを製造する方法を明らかにしたものである。 - 特許庁

A lithography projection apparatus is provided with a substrate holder for supporting at least one substrate, a patternizing means for patterning a projection beam according to a desired pattern, and at least one vacuum chamber including a projection means for projecting the above patterned projection beam at the target portion of the above substrate.例文帳に追加

本発明は、さらに、少なくとも１つの基板を保持するための基板ホルダと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するためのパターン化手段と、前記パターン化された投影ビームを前記基板の目標部分に投影するための投影手段とを含む少なくとも１つの真空チャンバを備えるリソグラフィ投影装置を提供する。 - 特許庁

If the total target trade of raw materials is smaller than the total maximum loading amount by the extracted consecutive service vessels and trampers, the operational restriction including the pattern of the combination between the loading port and the unloading port including a set of preset dummy loading ports and dummy unloading ports is prepared for each of the extracted vessels.例文帳に追加

前記抽出した連続航海船及び不定期船での最大積載量の合計より原材料の総引取目標量の方が少ない場合は、前記抽出した各船舶について、予め設定された一組のダミー積港及びダミー揚港も含めて、積地と揚地との組み合わせのパターンを含む運航制約を作成する。 - 特許庁

To provide an internal combustion engine equipped with a scavenging control valve device capable of operating a scavenging control valve for controlling opening and closing a scavenging hole with small driving force, capable of being installed in a small installation space by miniaturizing the scavenging control valve, and capable of accurately controlling opening area variation of the scavenging hole to be in a target opening area pattern.例文帳に追加

掃気孔を開閉制御する掃気管制弁を小さい駆動力で作動可能とするとともに、該掃気管制弁を小型化して小さな設置スペースで以って装備可能とし、掃気孔の開口面積変化を目標とする開口面積パターンに正確に制御可能とする掃気管制弁装置を備えた内燃機関を提供する。 - 特許庁

A first dispenser head 12 incorporating a first nozzle 20, and a second dispenser head 14 incorporating a second nozzle 22 are provided, pattern of the bonding pad is recognized using an optical system 18, and then adhesive is dispensed onto a dispense target position in the same columnar section of the substrate by driving the first nozzle 20 and the second nozzle 22 simultaneously.例文帳に追加

第一ノズル２０を組み込んでいる第一ディスペンスヘッド１２と、第二ノズル２２を組み込んでいる第二ディスペンスヘッド１４とが設けられ、光学システム１８を用いて接合パッドのパターン認識を行い、第一ノズル２０及び第二ノズル２２を同時に駆動して基板の同一の列状セクションにおけるディスペンス目標位置上へ、接着剤をディスペンスする。 - 特許庁