「target pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

In order to recognize a target pattern from the photographed image including the random noise, the plurality of photographed images are acquired (1A-1L), the weighted average processing is executed to the matching candidate images 2A-2L of the images, and images 2' subjected to the weighted average processing and a template image 3 are pattern-matched.例文帳に追加

ランダムノイズが含まれる撮影画像の中から目的のパターンを認識するために、撮影画像を複数取得（１A-１L）して、その画像のマッチング候補像２A-2Lに加重平均処理を施し、加重平均処理された画像２´とテンプレート画像３とをパターンマッチングする。 - 特許庁

The signal pattern generation circuit 1-1 and the signal pattern validity confirmation circuit 1-2 are each configured by use of a flip-flop circuit (FF) 1-3 and a combination logic circuit 1-4, and the clock signal CLK that is the disturbance detection target is inputted to a clock terminal of each the flip-flop circuit (FF).例文帳に追加

信号パターン生成回路１−１及び信号パターン妥当性確認回路１−２は、それぞれフリップフロップ回路（ＦＦ）１−３と組み合わせ論理回路１−４を用いて構成され、各フリップフロップ回路（ＦＦ）のクロック端子に擾乱検出対象のクロック信号ＣＬＫを入力する。 - 特許庁

After a target object is particularized, a region dependent read pattern setting section 9 establishes a read pattern to each of regions S1, S2 so that the pixel density of reading the image signal in the region S1 is greater than the pixel density of reading the image signal in the region S2.例文帳に追加

領域毎読み出しパターン設定部９は、注目する被写体が特定された後、領域Ｓ１において画像信号を読み出す画素密度が、領域Ｓ２において画像信号を読み出す画素密度よりも大きくなるように、領域Ｓ１と領域Ｓ２の各々に読み出しパターンを設定する。 - 特許庁

The controller 10 on the train obtains stop pattern used in the control from among stop pattern information from the data management device 30 using the received stop target position block information and train position block information obtained from a position detection means of the own train to control a speed of the train 1.例文帳に追加

車上制御装置１０は受け取った停止目標位置ブロック情報と自列車の位置検出手段から得られる列車位置ブロック情報を用いて、データ管理装置３０からの停止パターン情報の中から制御に用いる停止パターンを求め、列車１の速度制御を行う。 - 特許庁

Only when the modulation pattern of the pulse laser beam outputted from the laser outgoing section 401 matches with the modulation pattern of the pulse laser beam received by a laser receiving section 402, a DSP 10 detects that an obstacle exists at the target position, and measures the distance between it and the obstacle.例文帳に追加

ＤＳＰ１０は、レーザ出射部４０１から出力したパルスレーザ光の変調パターンとレーザ受光部４０２によって受光したパルスレーザ光の変調パターンがマッチングしたときのみ目標位置に障害物が存在するとして検出し、障害物との距離を測定する。 - 特許庁

The lithographic projection apparatus comprises a radiation device for supplying a projection beam of radiation, a support structure for supporting a patterning means, the patterning means serving to pattern the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, and a projection device for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リトグラフ投影装置は、放射線の投影ビームを発生するための放射線装置、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するパターン化装置を支持する支持構造、基板を保持する基板テーブル、パターン化されたビームを基板のターゲット部分に投影するための投影装置を有する。 - 特許庁

A source image is rotated at an arbitrary rotating angle, the rotating angle of a detection target pattern is detected from the rotated image by various rotating angle detecting methods, and the rotating angle of the pattern of the source image with a detection error is calculated by subtracting the arbitrary rotating angle from the detected rotating angle.例文帳に追加

原画像を任意回転角度回転し、回転させた画像から種々の回転角度検出手法により検出対象パターンの回転角度を検出し、検出した回転角度から任意回転角度を差し引いて検出誤差を伴った原画像のパターンの回転角度を算出する。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes a radiation source for generating radiation, an illumination system for controlling radiation, a pattern applying device for applying a pattern to the controlled radiation, and a projection system for projecting the patterned radiation to a target portion of a substrate.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射線を発生するための放射線源と、放射線を調整するための照明システムと、調整された放射線にパターンを付与するためのパターン付与デバイスと、パターンが付与された放射線を基板のターゲット部分に投影するための投影システムとを含む。 - 特許庁

To reduce the number of extracted data extracted from a recognition target image when it is determined whether a pattern equal to that of dictionary data is included in the recognition target image or not by comparing candidate image data sequentially extracted from the recognition target image with one or more previously registered dictionary data for shortening an image processing time.例文帳に追加

認識対象画像から順次抽出した候補画像データと予め登録された１又は複数の辞書データとを比較することで、認識対象画像内に辞書データと同一のパターンが含まれるか否かを識別する際に、認識対象画像から抽出される抽出データ数を減少させることにより、画像処理時間を短縮することを可能にする。 - 特許庁

The fuel cell power generation system 1 makes hydrogen react with oxygen to generate power and supply heat based on a predetermined operation pattern, generates power within a first maximum operation time per unit time based on life prediction in a target life period, and calculates a difference between a target operation time within the life period and a target operation time until a predetermined period.例文帳に追加

水素と酸素を反応させ、所定の運転パターンに基づいて発電、熱供給を行う発電する燃料電池発電システム１において、目標とする寿命期間に対し、寿命予測に基づく単位時間あたりの第１の最大運転時間内で発電するものであり、寿命期間内の目標とする運転時間と所定期間までの運転時間の差を計算する。 - 特許庁

The radar apparatus sorts out Doppler signals observed by the radar for each target generating the identical Doppler frequency, prepares a correlation matrix having averaged reflected wave data at times of different relative positional relations between the radar and the target, and measures the orientation of the target by changing orientation angle dependance of a reception intensity pattern of a radar receiver, using the correlation matrix.例文帳に追加

レーダで観測されるドップラー信号を、同一のドップラー周波数を発生させるターゲットごとに分類し、レーダとターゲットとの相対的な位置関係が異なる時刻の反射波のデータを平均化した相関行列を作成し、前記相関行列を用いてレーダ受信器の受信強度パターンの方位角依存性を変化させることによって、ターゲットの方位を計測するレーダ装置。 - 特許庁

A catalyst that captures oxygen during the deoxygenation reaction of the GO target captures oxygen during the deoxygenation reaction of the GO target by exposing the GO target to light from a lithographic light source configured to pattern a thin film of graphene oxide having a wavelength between 200-400 nanometers by using the catalyst comprising one or more of nickel, copper, silicon, and magnesium.例文帳に追加

ＧＯ標的物の脱酸素反応中に酸素を捕捉する触媒が、ニッケル、銅、ケイ素およびマグネシウムの１種または複数である触媒を用いて、ＧＯ標的物を、２００ナノメートル〜４００ナノメートルの波長を有するグラフェン酸化物の薄膜をパターニングするように配置されたリソグラフィー光源からの光に暴露して、ＧＯ標的物の脱酸素反応中に酸素を捕捉する。 - 特許庁

To provide a sputtering target which can give an Ag alloy film pattern endowed with low resistance, higher heat resistance, and higher adhesion without detriment to reflectivity, to provide an Ag alloy film, and to provide a method for producing the film.例文帳に追加

反射率を損なうことなく、低抵抗で、より高い耐熱性及び密着性を有するＡｇ合金膜パターンを得ることができるスパッタリングターゲット、Ａｇ合金膜及びその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide an evaporation source which forms a highly precise pattern on a large or flexible deposition target without causing distortion of a mask, and a thin-film deposition system.例文帳に追加

マスクの歪みの問題を招くことなく大型の成膜対象物又は撓みやすい成膜対象物に対して高精度のパターンを形成しうる蒸発源及び薄膜形成装置を提供する。 - 特許庁

A multi-beam pattern definition device 300 for use in a particle-beam processing or inspection apparatus is configured to irradiate a beam of electrically charged particles, allow passage of the beam through a plurality of apertures, and then form beamlets which are imaged onto a target.例文帳に追加

粒子ビーム処理または検査装置用のマルチビームパターン定義装置３００は、荷電粒子ビームを発生し、複数のアパーチャを通過させた後に、ターゲット上に結像されるビームレットを形成する。 - 特許庁

To provide a transfer substrate and a transfer method using the same having excellent releasability between the transfer substrate and a transfer pattern and capable of remarkably improving a transfer rate between the transfer substrate and a target substrate.例文帳に追加

転写パターンとの間の剥離性に優れるとともに、ターゲット基板との間の転写率を大幅に向上させることを可能とした転写基板とそれを用いた転写方法を提供する。 - 特許庁

When the number of stripes is within the target number of stripes range A, the alignment processing is automatically moved to pattern analysis processing, and the interference patten is analyzed to digitize the aberration of analyte (step S203).例文帳に追加

縞本数が目標縞本数範囲Ａ内であった場合には、自動的にアライメント処理から縞解析処理に移行し、干渉縞を解析して被検体の収差が数値化される（ステップＳ２０３）。 - 特許庁

The vector information obtained on each image data is compared with a model pattern 10a prepared in advance, and a region of high evaluation value reflecting its similarity, is extracted as a target existence region.例文帳に追加

各画像データにつき得られたベクトル情報を予め用意したモデルパターン１０ａと比較し、その類似度を反映する評価値が高い領域を目標の存在領域として抽出する。 - 特許庁

For an image stabilizing process, first exposure intensity to the photoreceptor is set so that the density of a toner patch pattern in the regular image area matches preset target density (S2).例文帳に追加

画像安定化処理のために、通常の画像領域について第１のトナーパッチパターンの濃度が予め設定された目標濃度に一致するように感光体への第１の露光強度を設定する（Ｓ２）。 - 特許庁

Further, the control pattern is selected out of the plurality of control patterns, so disabled control or unstable control can surely be avoided unlike the case wherein the user optionally selects a target temperature.例文帳に追加

また、複数の制御パターンから選択する構成としたため、ユーザーが任意に目標温度を設定した場合のように制御不能あるいは制御が不安定となることが確実に回避できる。 - 特許庁

To provide a diffraction grating pattern which is made to closely resemble a target outline and in which the outline defining an external form is smooth and which lowers no chromaticity without causing large increase of production time and labor.例文帳に追加

作製時間と労力の大幅な増大を招くことなく、目標とする輪郭線に近似させて、外形を規定する輪郭線が滑らかであり、彩度が低下しない回折格子パターンを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a titanium stock for a target having both a microstructure with a fine and uniform grain size and a macrostructure of excellent surface properties of the titanium stock with no surface pattern.例文帳に追加

結晶粒度が微細で均一なミクロ組織と、チタン材の表面が無模様で表面性状に優れたマクロ組織とを兼ね備えたターゲット用チタン素材を製造する方法を提供する。 - 特許庁

The calculation includes adjusting the pattern so that focal plane can be shifted in response to a separation distance to be measured between the target and the focal plane of the projection optical system PS.例文帳に追加

この計算には、基板の目標部分と投影光学系ＰＳの焦平面との間で測定される離隔距離に応じて焦平面がシフトするようにパターンを調節することが含まれる。 - 特許庁

The overall width (A-A directional size) of the external layer material 20 is made smaller than the overall width of the internal layer material 11 to expose a target pattern when the external layer material 20 is laminated on the internal layer material 11.例文帳に追加

外層材２０の全幅（Ａ−Ａ方向のサイズ）を内層材１１の全幅より小さくしておき，内層材１１に外層材２０を積層したときにターゲットパターン１２が露出するようにする。 - 特許庁

A plurality of normalization images are captured, by using a reference plate at a plurality of different defocus positions, and proper normalization is subtracted from a measuring spectrum of the target pattern, thereby compensating defocus errors.例文帳に追加

複数の異なるデフォーカス位置で基準板を使用して複数の正規化用の像を取り込み、さらにターゲットパターンの測定スペクトルから適切な正規化を引くことによって、デフォーカスエラーは補償される。 - 特許庁

While, an output limiting value Pplimit of a hydraulic pump 3 is set in response to a work pattern of a plurality of hydraulic actuators 21 to 26, and a third target engine speed ncom3 corresponding to this value is set.例文帳に追加

一方で、複数の油圧アクチュエータ２１〜２６の作業パターンに応じて、油圧ポンプ３の出力制限値Ｐplimitが設定され、これに対応する第３のエンジン目標回転数ｎcom3が設定される。 - 特許庁

In DRC verification carried out following addition of a partial change to post-verification layout pattern data, a verification target portion of the DRC verification is identified from the changed portion by means of equipotential tracking.例文帳に追加

検証済のレイアウトパタンデータへ部分的に変更を加えた後で行うＤＲＣ検証において、変更箇所から等電位追跡を用いてＤＲＣ検証の検証対象箇所を特定する。 - 特許庁

Next, the specific signal pattern is recorded while suitably changing the power level P in the specific range including the target power level Ptarget', and a modulation degree mj of a signal recorded by each power level Pj.例文帳に追加

次に該ターゲットパワーレベルＰtarget’を含む所定の範囲でパワーレベルＰを適宜変化させてながら所定の信号パターンを記録し、各パワーレベルＰjで記録された信号の変調度ｍjを測定する。 - 特許庁

In this case, it is considered that a locus of a speed and an acceleration to be output from the vehicle model VM shows the actual behavior of the vehicle when setting target acceleration according to each pattern.例文帳に追加

この際、車両モデルＶＭから出力される車速及び加速度の描く軌跡は、各パターンに従って目標加速度を設定した場合の実際の車両の挙動を示すと考えられる。 - 特許庁

A central processing unit 17 determines a pattern of medium supply for each output set and achieves a desired appearance characteristic with respect to the print job related to the output set or the output target.例文帳に追加

中央処理ユニット１７は各出力セットのための媒体供給のパターンを特定し、出力セットまたは出力先に関連付けられた印刷ジョブに対する所望の外観特徴を達成する。 - 特許庁

The leg assisting orthosis drives the joint in a triangle-speed pattern of uniform acceleration and speed-reduction from the detected joint angle in the beginning to the predetermined target angle in the end.例文帳に追加

本発明の脚補助装具は、検出された初期ジョイント角から予め定められた最終目標角まで、等加速等減速の三角速度パターンでジョイントを駆動することを特徴とする。 - 特許庁

If the external infrared device is present, it is decided whether or not the external infrared device is the target external infrared device which outputs an infrared ray at a predetermined blinking pattern (S04).例文帳に追加

外部赤外線装置が存在する場合は、当該外部赤外線装置が、所定の点滅パターンで赤外線を出力する目的の外部赤外線装置であるか否かを判断する（Ｓ０４）。 - 特許庁

A drive torque computing means presumes the torque of the output shaft of an automatic transmission, from the engine torque characteristics or the characteristics of a torque converter, and on the basis of the presumed drive torque, a target torque pattern during shifting is generated.例文帳に追加

駆動トルク演算手段でエンジントルク特性又はトルクコンバータの特性から自動変速機の出力軸のトルクを推定し、この推定駆動トルクを基に変速中の目標トルクパターンを発生する。 - 特許庁

A calculation parameter used when a first target output value correction means calculates an image density control condition based on toner replacing amount is corrected based on a result obtained by detecting a toner pattern.例文帳に追加

第１の目標出力値補正手段がトナー入換え量に基づき画像濃度制御条件を算出するときに用いる算出パラメータを、トナーパターンの検出結果に基づき修正する。 - 特許庁

The locus whose deceleration does not excessivelly increases when the vehicle is stopped is selected from the locus to be output, and the target acceleration of the vehicle is adapted based on the input pattern at that time.例文帳に追加

これら出力される軌跡の中から、車両の停止に際しての減速度が過度に大きくならないものを選択し、そのときの入力パターンに基づき、車両の目標加速度を適合する。 - 特許庁

To provide an image processor capable of accurately obtaining a featured value of a target to be measured even when an area to be measured is not completely detected in a state that the accuracy of pattern matching is rough.例文帳に追加

パターンマッチングの精度がラフな状態で完全に測定対象領域を検出していなくとも、精度良く測定対象の特徴量を得ることができる画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a resin suitable for resist applications which allows an exposed part to be sufficiently cured even under a low-energy UV-irradiation condition and a target developed pattern to be obtained at a high speed.例文帳に追加

低エネルギーのＵＶ照射条件でも露光部が十分に硬化し目的とする現像パターンが高速で得られることを可能にするレジスト用途に優れた樹脂を提供することにある。 - 特許庁

As a result, the amount of deflection on the charged particle beam 9 changes so that radiation can take place on a position shifted by an offset of the wafer stage 2 and a reticle pattern image is transcribed onto a target position of wafer 1 by exposure.例文帳に追加

それにより、荷電粒子線９の偏向量が変化し、ウエハステージ２の位置ずれ分だけずれた位置に入射し、ウエハ１の目標とする位置に、レチクルのパターン像が露光転写される。 - 特許庁

A game machine is structured such that a target pressing auxiliary member 311 provided with a projection part 303 is locked at a position corresponding to a specified pattern among holes 302 provided at appropriate intervals on the side face of a reel 311a.例文帳に追加

リール３１１ａ側面に適当な間隔をおいて設けられた穴３０２のうち、特定図柄の対応する位置に、突起部３０３を有する目押し補助部材３１１を係止させる構造とする。 - 特許庁

The imaging controller which outputs to a display the image based on imaging by a camera controls the range of imaging by the camera, recognizes a specific pattern from the image captured by the camera, determines an imaging target based on the recognized specific pattern, while the camera is controlled, processes the image captured by the camera based on the position or the size of the determined imaging target.例文帳に追加

カメラによる撮影に基づく画像を表示器に出力する撮影制御装置は、カメラによる撮影の範囲を制御し、カメラにより撮影された画像から特定パターンを認識し、当該認識された特定パターンに基づいて撮影ターゲットを決定する決定し、カメラが制御されている間、当該決定された撮影ターゲットの位置又は大きさに基づいてカメラにより撮影される画像を処理する。 - 特許庁

A tape 10 is set in an exposure machine so that a wiring pattern 5 formed by exposing and etching one face turn downside: a registration position of its downside wiring pattern 5 is read by a photosensor 16, and the tape 10 is registered so that the read position agree with a predetermined target position for pattern exposure of the top face coated and prebaked with a photoresist 6 or 8.例文帳に追加

片面を露光・エッチングして形成した配線パターン５を下面側になるように露光機にセットし、その下面側の配線パターン５の合わせ位置を光センサ１６で読み取り、その読み取った位置が所定の目標位置に合致するようにテープ１０の位置決めを行い、予めフォトレジスト６又は８をコートしプリベークしてある上面に対するパターン露光を行う。 - 特許庁

The lithography device comprises a lighting system which supplies projection beams, a structure for supporting a pattern forming unit which is so constituted that the pattern forming device gives the section of a beam a pattern, a substrate table which retains a substrate, a projection system which projects a patterned beam to a target portion on the substrate, and an adjustment system which adjusts the substrate.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、パターン形成装置を支持する構造体であって、パターン形成装置がビームの断面にパターンを与えるように構成された構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターンの形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、基板を調節する調節システムとを含む。 - 特許庁

The character recognition device extracts a character pattern by using structure information of a character category to be a comparison classification target of an input character image in the case of recognizing and outputting the input character image, and outputs a character category with maximum similarity between the extracted character pattern and a character category corresponding to the character pattern as the recognition result of the input character image.例文帳に追加

文字認識装置は、入力された文字画像を認識して出力する場合に、入力された文字画像の比較分類対象となる文字カテゴリの構造情報を利用して文字パターンを抽出し、抽出された文字パターンと当該文字パターンに対応する文字カテゴリとの類似度が最大となる文字カテゴリを、入力された文字画像の認識結果として出力する。 - 特許庁

The lithography device comprises a lighting system which supplies projection beams, a structure for supporting a pattern forming unit which structure is so constructed that the pattern forming device gives the section of a beam a pattern, a substrate table which retains a substrate, a projection system which projects a patterned beam onto target portions on the substrate, and an adjustment system which adjusts the substrate.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、パターン形成装置を支持する構造体であって、パターン形成装置がビームの断面にパターンを与えるように構成された構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターンの形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、基板を調節する調節システムとを含む。 - 特許庁

A lithography apparatus of the present invention comprises: a lighting system which supplies projection beams; a structure for supporting a pattern forming device which is constituted so that the pattern forming device gives a section of a beam a pattern; a substrate table which retains a substrate; a projection system which projects a patterned beam to a target portion on the substrate; and an adjustment system which adjusts the substrate.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、パターン形成装置を支持する構造体であって、パターン形成装置がビームの断面にパターンを与えるように構成された構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターンの形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、基板を調節する調節システムとを含む。 - 特許庁