「target pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

When a trainee applies a load to a load application part 2 of a muscular strength training machine or the like by a muscular strength, a load following pattern output part gives the trainee a target of a periodic load application, and an additional following ability time-series data measuring part 3 measures the following load by the trainee to the target.例文帳に追加

被訓練者は筋力トレーニングマシン等の負荷印加部２に対して筋力によって負荷を印可するに際して、負荷追従パタン出力部から周期的な負荷印加の目標を与え、この目標に対する被訓練者による追従負荷を付加追従時系列データ計測部３で計測する。 - 特許庁

To provide a distribution analysis method and system for evaluating whether or not analysis target data having such a characteristic as distributed along a plane are similar to a specific distribution shape pattern, which can always provide a good accurate evaluation even when the analysis target data are varied by various factors.例文帳に追加

平面に沿って分布した特性をもつ解析対象データが特定の分布形状パターンに類似しているかどうかを評価する分布解析方法および装置であって、様々な要因によって解析対象データが変動したとしても、常に精度良く評価を行えるものを提供すること。 - 特許庁

To an editing tool, a brush tool, for example, various attributes such as color, thickness, pattern, form and type can be set and on the basis of these set attributes, processing is executed to the editing target object.例文帳に追加

編集ツールとして、例えばブラシツールには、色、太さ、模様、形状、タイプ等、様々な属性が設定可能であり、これら設定された属性に基づいて編集対象オブジェクトに対して処理が実行される。 - 特許庁

In step S104, information related to a surface structure of an intestinal tract or the like such as a gyrate pattern is decided based on the extracted luminance signal, and the possibility that the target pixel is the lesion part is evaluated.例文帳に追加

ステップＳ１０４において、脳回転状の模様など、腸管等における表面構造に関わる情報を抽出された輝度信号に基づき判定し、対象画素が病変部である可能性を評価する。 - 特許庁

(c) The incident position of the laser beam, or positional information on the linear pattern forward of the scanning direction is acquired, and the incident command value is calculated by correcting the target incident position based on the acquired positional information.例文帳に追加

（ｃ）レーザビームの入射位置、または走査方向前方の線状パターンの位置情報を取得し、取得された位置情報に基づいて、入射目標位置を補正することにより、入射指令値を算出する。 - 特許庁

An SSW as a method for writing a pattern onto a disk specifies a read/write offset (RWO) and calculates the target position at inner and outer circumferential sides of a magnetic disk 11 by different method and sequence, respectively.例文帳に追加

本発明の一形態のＳＳＷは、磁気ディスク１１の内周側と外周側において、それぞれ異なる方法及びシーケンスによってリード・ライト・オフセット（ＲＷＯ）の特定及びターゲット位置の算出を行う。 - 特許庁

A latest cycle is determined by the use of a regulation pattern in which data are received by an elastic interface, and all target cycles of the interface 108 are computed so as to match the latest cycle.例文帳に追加

本発明は、データがエラスティック・インタフェースに受信される調整パターンを用いて、最も遅いサイクルを決定し、この最も遅いサイクルにマッチングさせるため、全てのインタフェース１０８のターゲット・サイクルを計算する。 - 特許庁

The optimal correction pattern is used to compute a second load L2 corresponding to the target correction amount Tr of the deflection of the rotor 15 and apply a computed second load L2 to the rotor 15 from the load applying part 13.例文帳に追加

最適修正パターンを用いて、ロータ１５の目標となる振れ修正量Ｔｒに対応する第二荷重Ｌ２を算出し、算出された第二荷重Ｌ２を荷重印加部１３からロータ１５へ加える。 - 特許庁

To provide a technology for discriminating and highly accurately recognizing a vehicle, motorbike, and person (pedestrian) or the like based on the detection pattern of the reflection of an in-vehicle radar even when a distance between the vehicle and an object as the target of recognition changes.例文帳に追加

車両と認識対象である物体との距離が変化しても、車載レーダの反射の検出パターンから車両、モータバイク、人（歩行者）等を区別して精度よく認識することができる技術を提供する。 - 特許庁

Then, a position relation comparison part 53 compares the pen tip position information and the operation target position information, and outputs start information indicating a vibration pattern or a pulse shape to be transmitted to the pen tip based on a comparison result thereof.例文帳に追加

すると、位置関係比較部５３が、ペン先位置情報と操作対象位置情報とを比較し、この比較結果に基づいてペン先に伝えるパルス形状又は振動パターンを示す起動情報を出力する。 - 特許庁

To provide a mahjong ball game machine which allows a player to select the pattern of a tile to be aimed at and displays the aiming position target of hitting strength for making a game ball enter a ball entrance corresponding to the selected tile, and improves accuracy of the display.例文帳に追加

狙うべき牌の図柄を選定し、その牌に対応する入球口に遊技球を入球させるための打出し強さの狙い位置目標を表示させるものにあって、その表示の正確性を高める。 - 特許庁

A first proposed signal transmission line 102 and a second proposed signal transmission line 103 are formed according to the varied specifications such as a pattern width and the like, so as to enable a printed wiring board to have a target characteristic impedance when printed wiring boards are manufactured.例文帳に追加

印刷配線板製造の際に、第一の信号伝送路候補１０２及び第二の信号伝送路１０３をパターン幅などの条件を変え、特性インピーダンスの目標値を変えて作成する。 - 特許庁

A charged particle beam system is provided, wherein when a sample has repeated cells, a scale pattern corresponding to the cells is created and superimposed on an image of the iterative cells of the sample, thereby specifying a target cell.例文帳に追加

本発明の荷電粒子ビーム装置では、試料が繰り返しセルを有するとき、セルに対応したスケールパターンを生成し、それを試料の繰り返しセルの画像に重畳させることにより、目的セルを特定する。 - 特許庁

To allow a game player to easily perform a visual patter stop and to embody a target by himself/herself by direct approach to a stop object pattern which is intended by the player in a slot machine.例文帳に追加

スロットマシンにおいて、遊技者自身が考えている停止対象図柄に対して直接的にアプローチさせることによって、目押しタイミングを取り易くし、且つ、ターゲットを遊技者自身で具体化できるようにすること。 - 特許庁

In this method, a disease, cell type, tissue and/or stage specific protein and nucleic acid are identified in relation to development pattern and corresponding nucleic acid is analyzed as a candidate of the attack target of DNAzyme or siRNA.例文帳に追加

疾患、細胞タイプ、組織および／またはステージ特異的なタンパク質および核酸を発現パターンに関して同定し、対応する核酸をＤＮＡｚｙｍｅまたはｓｉＲＮＡの攻撃対象候補として解析する。 - 特許庁

A substrate 2 comprises a first silicon layer 3 and a target layer 1 made of a silicon-germanium alloy-base material forming a three-dimensional pattern including first and second securing areas and at least one connecting area.例文帳に追加

基板２は、第１シリコン層３と、第１及び第２固定領域と少なくとも１つの接続領域を含む３次元パターンを形成するシリコンゲルマニウム合金系材料からなるターゲット層１を備える。 - 特許庁

The operation system 4 positions the substrate 1 relatively to the projection system 3, projects the patterning radiation beam on a target portion of the substrate 1, and adjusts pattern data based upon the detection result to perform temperature compensation.例文帳に追加

作動システム４により基板１を投影システム３に対して位置決めし、パターン化放射線ビームを基板１の目標部分上に投影し、検出結果に基づいてパターンデータを調整して温度補償する。 - 特許庁

To perform evaluation of high precision in a distribution analyzing method for evaluating whether analyzing target data having characteristics distributed along a plane is similar to a specific distribution shape pattern.例文帳に追加

平面に沿って分布した特性をもつ解析対象データが特定の分布形状パターンに類似しているかどうかを評価する分布解析方法であって、精度良く評価を行えるものを提供すること。 - 特許庁

To change the timing to mix a specimen in an examination target acceptor with a reagent, without changing a rotation pattern for examination of a centrifugal force application device and without requiring any other device than the centrifugal force application device.例文帳に追加

遠心力付与装置の検査用回転パターンを変えることなく、かつ遠心力付与装置以外の装置を必要とすることなく、検査対象受体内の検体と試薬とが混合するタイミングを変えることができる。 - 特許庁

To provide a navigation controlling method of a small-sized and inexpensive underwater vehicle and an underwater vehicle, capable of simplifying mounting equipment and control, though a sailing pattern is limited in a circulating sailing around a target object.例文帳に追加

航走パターンは目標物回りの周回航走に限定されるが、搭載機器や制御を簡略化できて、小型で安価の水中航走体の航走制御方法及び水中航走体を提供する。 - 特許庁

Therefore, a target exothermic temperature of the heating unit 11 corresponding to the suitable temperature of the hair treatment by the rod 3 can be set from the correlation between the calorific value of the resistance pattern material 33 and the heat release of the sheet 31.例文帳に追加

従って、抵抗パターン材３３の発熱量とシート３１の放熱量との相対関係からロッド３の頭髪処理に適した温度に応じた発熱体１１の目標発熱温度を設定することができる。 - 特許庁

A CPU (Central Processing Unit) 11 calculates a difference between a target position and a position of a start point of the graphic image, and a shift circuit F outputs a pixel value of a position distant from a position of each pattern bit value of the memory H by the calculated difference.例文帳に追加

ＣＰＵ１１は、目標位置と図形画像の始点の位置との差分を算出し、シフト回路Ｆは、メモリＨの各パターンビット値の位置から、算出された差分だけ離れた位置の画素値を出力する。 - 特許庁

To provide a recognition system, a recognition method, and a recognition program for identifying target data from two-dimensional distribution data that contain noise for identifying shapes, or the like, by utilizing a learning-type pattern recognition method, and to provide a recognition method and a recognition program.例文帳に追加

学習型パターン認識手法を利用して、ノイズを含む２次元分布データから、目的とするデータを識別し、その形状等を特定する認識システム、認識方法、および認識プログラムを提供する。 - 特許庁

To make it possible to prepare inexpensively and in a short period of time on a target compound color screen density setting technique relevant to the controlling of the color tone of the pattern of a printing machine and to control to a desired color tone with an IRGB densitometer.例文帳に追加

印刷機の絵柄色調制御に関連する目標混色網濃度設定技術に関し、低コストで短時間に準備をできてＩＲＧＢ濃度計を用いて好みの色調に制御できるようにする。 - 特許庁

An execution result of simulation is graphically displayed time-serially, and a portion where a difference between the simulation execution result and a performance target exceeds an allowance range is displayed with a display pattern different from those in portions other than it.例文帳に追加

シミュレーション実行結果を時系列的にグラフ表示し、シミュレーションの実行結果と性能目標との差分が許容範囲を超えた箇所についてはそれ以外の箇所とは異なる表示パターンとする。 - 特許庁

The automatic transmission is in off-line, the learn mode is executed in which the range changeover is implemented automatically in accordance with the specified pattern, and when the range is to be changed over by the learn mode, the target angle for each range is learnt.例文帳に追加

自動変速機のオフライン時に、所定パターンに従ってレンジ切換えを自動的に行う学習モードを実行させ、該学習モードによりレンジが切換えられるときに、各レンジの目標角度を学習させる。 - 特許庁

The method further includes: patterning the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; and projecting the patterned radiation beam onto a target portion of a substrate.例文帳に追加

この方法はさらに、放射ビームの断面がパターンを有するように放射ビームをパターニングして、パターニングされた放射ビームを形成すること、および、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上へ投影することを含む。 - 特許庁

A pick up device 50 on the train 14 generates an allowable speed pattern up to a target stop position A2 based on the information received from the signal supply system 30 and the transponder pick up on ground 40.例文帳に追加

列車１４上の車上装置５０は、これら信号供給システム３０およびトランスポンダ地上子４０から受信した情報に基づいて目標停止位置Ａ２までの許容速度パターンを生成する。 - 特許庁

In an apparatus for language analysis, a CPU detects a state of paragraph of surface layer case in an analysis-target language when executing a program for language analysis so as to correct an analysis result of modifications based on the case pattern indicated by the state.例文帳に追加

ＣＰＵ１０は言語解析プログラムを実行する際に、解析対象の言語の中の表層格の文節の状態を調べ、その状態が示す格パターンに基づいて、係り受けの解析結果を修正する。 - 特許庁

The camera module 40 picks up the image of a test pattern on a test target 86 and the focusing accuracy is determined from the image forming state and the microcontroller 82 judges whether a barrel 40 is extended or not.例文帳に追加

カメラモジュール４０がテストターゲット８６上のテストパターンの画像を撮像し、その画像結像状態から焦点調節精度が求められて、マイクロコントローラ８２はバレル４０を繰り出すか繰り込むかを判定する。 - 特許庁

The module may further include an aiming system having an aiming light source, an aperture for stopping light from the aiming light source, and an optical element for projecting an aiming pattern into target area.例文帳に追加

前記モジュールは、照準光源と、前記照準光源からの光を絞るための開口と、対象領域に照準パターンを投影するための光学素子とを有する照準システムをさらに具備することができる。 - 特許庁

Since an attitude is corrected by the calculated ZMP converted value and the compensated target upper body position, the generated gait pattern can accurately meet the requirements of the dynamic equilibrium at all times.例文帳に追加

この算出されたＺＭＰ換算値および補正目標上体位置によって姿勢が修正されることから、生成された歩容は動力学的平衡条件を常に精度良く満足させることができる。 - 特許庁

Notch forming projections 3A as dividing notch forming portions for transferring division notches 13A to the points corresponding to divisions of a transfer-target substrate 10 are formed on the nano-imprint-pattern forming metal mold 1A.例文帳に追加

ナノインプリントパターン形成用金型１Ａには、被転写基板１０の分割相当箇所に分割切れ込み部１３Ａを転写するための分割用切れ込み形成部としてのノッチ形成用凸部３Ａが形成されている。 - 特許庁

When DC erase processing is started, a system controller 111 controls each part of an optical head part 116, or the like, so as to write a predetermined pattern in a processing target RUB (recording unit block) with predetermined peak power in step S131.例文帳に追加

DCイレース処理を開始すると、システムコントローラ１１１は、ステップＳ１３１において、光学ヘッド部１１６等の各部を制御して、処理対象RUBに所定のパターンを所定のピークパワーで書き込み（ライト）させる。 - 特許庁

In the method of calculating pattern dimensions, an image processing section calculates a region, where contour data of the patterns to be inspected overlap with rectangular data for measuring length, and calculates target dimension values from the area of the overlapping region.例文帳に追加

このパターン寸法算出方法では、画像処理部が、対象検査パターンの輪郭データと測長用矩形データとの重なり領域を算出し、重なり領域の面積から対象寸法値を算出する。 - 特許庁

To provide a visual acuity amelioration training device and a visual acuity amelioration training control program, capable of recognizing moving of a pattern serving as a target for a training person, and capable of conducting effective training.例文帳に追加

訓練者に標的となる図形が移動していることを認識させることができ、さらに効果的な訓練を行うことが可能な視力改善訓練装置および視力改善訓練制御プログラムを提供する。 - 特許庁

To allow a vehicle to automatically travel in accordance with a traveling environment in a process for allowing the vehicle to arrive at a prescribed position at target time by generating a vehicle speed pattern on the basis of an upper limit speed pattern corresponding to the traveling environment.例文帳に追加

本発明は、車両の自動走行制御方法および自動走行制御装置に関し、走行環境に対応した上限速度パターンに基づいて車両の速度パターンを生成することにより、車両を、所定位置に目標時刻に到達させる過程で走行環境に従って走行させることを目的とする。 - 特許庁

The lithographic projection apparatus comprises a radiation system for providing a projection beam of radiation having a wavelength λ_1 smaller than 50 nm, a support structure for supporting the patterning means that serves to pattern the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

５０ｎｍ未満の波長λ_1を有する放射線の投影ビームを提供する放射システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するパターン化手段を支持する支持構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターン化したビームを基板の目標部分に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁

The lithographic apparatus is comprised of a radiation system for providing a projection beam of radiation, a first support structure for supporting patterning means which serves to pattern the projection beam according to a desired pattern, a second support structure for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ機器は、放射投影ビームを提供する放射システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化する働きをするパターン化手段を支持する第１支持構造と、基板を支持する第２支持構造と、基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影する投影システムとを備える。 - 特許庁

An image P5 with a stripe pattern 5 reflected on an inspection target surface SP is photographed at a shallow angle, and an image P5a with one or more continuous unit stripes 5a reflected on is specified from among the stripe pattern-reflected images P5 existing in a predetermined distance range counted from the edge in a closer side to a workpiece W.例文帳に追加

縞パターン５が検査対象面ＳＰに写り込んだ画像Ｐ５を浅い角度で撮像するとともに、ワークＷに近い側の端縁から数えて所定距離の範囲にある縞パターン写り込み画像Ｐ５の中から１又は連続する複数の単位縞５ａの写り込み画像Ｐ５ａを特定する。 - 特許庁

In the marker beam irradiating unit 16, a laser diode 33 as a light beam source, a condensing lens for condensing laser 34 beams of the laser diode 33, a pattern forming lens 35 for forming a pattern of the maker beam, an image forming lens 36 for forming the marker beam on the reading target and a diaphragm 37 are directed toward the front and arranged in this order.例文帳に追加

マーカ光照射部１６を光源としてのレーザダイオード３３、そのレーザ光を集光する集光用レンズ３４、マーカ光のパターンを形成するパターン形成用レンズ３５、マーカ光を読取対象上に結像させる結像用レンズ３６及び絞り３７を先方に向けてその順に配置する。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illumination system which forms a beam of radiation, the pattern grant equipment which is supported by a support structure and gives a desired pattern to a cross section of the beam of radiation, a substrate holder which holds the substrate, a projection system which projects the patterned beam of radiation onto a target portion of the substrate, and a conditioned chamber.例文帳に追加

リトグラフ装置が、放射ビームを形成する照射系と、支持構造体により支持され、放射ビームの横断面に所望パターンを付与するパターン付与装置と、基板を保持する基板保持具と、パターン付与された放射ビームを基板のターゲット箇所に投影する投影系と、調整室とを含む。 - 特許庁

The apparatus comprises a beam generating system constituted so that it can project a pattern forming beam to a target portion of a substrate by providing a projection beam of radiation and by forming the pattern in the beam, and a supporting table for supporting the item so that the flat surface of the item may be placed the predetermined surface crossing a beam propagation direction.例文帳に追加

装置は、放射線の投影ビームを提供し、ビームにパターンを形成して、パターン形成したビームを基板の目標部分に投影するように構成されたビーム生成システム、および品目の平面が投影ビームの伝搬方向を横切る所定の面にあるように、品目を支持する支持テーブルを含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor includes steps of: supervising the variation of the pattern dimension whenever the pattern forming is performed to a plurality of wafers 14, measuring the light exposure/focal permission region from the monitor result, and sequentially updating the center of its light exposure/focal permission region as a new target value over the light exposure and the focus.例文帳に追加

複数枚のウェーハ１４に対するパターン形成が実行されるごとにパターン寸法の変動を監視し、その監視結果から露光量・フォーカス許容領域を求め、その露光量・フォーカス許容領域の中心を露光量およびフォーカスに対する新たな目標値として逐次に更新していく。 - 特許庁

Lithographic equipment is provided with an illumination system for supplying a radiation beam, a pattern applying device integrated with the array of respectively controllable elements for applying a pattern to a beam cross-section, a substrate table for supporting a substrate and a projection system integrated with a micro-lens array for projecting a beam to the target of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ機器は、放射ビームを供給する照明系と、ビーム断面にパターンを付与する個々に制御可能な素子の配列の組み込まれたパターン付与装置と、基板を支持する基板テーブルと、基板の目標部分にビームを投影する微小レンズ配列の組み込まれた投影系とを備える。 - 特許庁