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third layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2440件
The solid lubricant 410 includes, in order from a surface 414, or one surface of the rectangular parallelepiped, towards the opposite-side surface, a first layer 411, a second layer 412, and a third layer 413 which have different PTFE dispersion amounts (weight ratios) respectively.例文帳に追加
固形潤滑剤410は、直方体の一面である面414からその反対側の面に向かって順番に、PTFEの分散量(重量比)がそれぞれ異なる第1の層411、第2の層412、第3の層413を有する。 - 特許庁
The first seed layer, the second seed layer and the third seed layer preferably contain 30 to 60at% Ti, 30 to 60at% Cr and 30 to 60at% Nb, respectively.例文帳に追加
第1シード層はTiを30原子%以上、60原子%以下含有し、第2シード層はCrを30原子%以上、60原子%以下含有し、第3シード層はNbを30原子%以上、60原子%以下含有することが好ましい。 - 特許庁
A third conductive layer having an extension part extending along a first principal surface of the first conductive layer on the side opposite to the second semiconductor layer and containing at least one of aluminum, argentine and rhodium is formed by processing the highly-reflective conductive film.例文帳に追加
高反射導電膜を加工して、第1導電層の第2半導体層とは反対の側の第1主面に沿って延在する延在部を有し、アルミニウム、銀及びロジウムの少なくともいずれかを含む第3導電層を形成する。 - 特許庁
Next, a third coating liquid essentially including an organic silicon compound is applied on the low-refractive index layer by wet process, and a second high-refractive index layer is formed by heat treatment, whereby a mirror coat layer having a surface peak reflectance of 7% or higher is formed.例文帳に追加
次いで低屈折率層上に有機ケイ素化合物を主成分とした第3の塗布液を湿式法によって塗布し加熱処理をし第2の高屈折率層を形成させ、表面ピーク反射率が7%以上のミラーコート層を形成させる。 - 特許庁
Then, a second laminate ST2 in which at least a first conductive type third cladding layer 49, a second active layer 50, and a second conductive type fourth cladding layer 51 are laminated is formed on the first laminate ST1 by the epitaxial growth method.例文帳に追加
次に、第1積層体ST1上に、エピタキシャル成長法により、少なくとも第1導電型第3クラッド層49、第2活性層50および第2導電型第4クラッド層51を積層させた第2積層体ST2を形成する。 - 特許庁
The light emitting element comprises a sapphire substrate 1, an oxygen-containing layer 4 made of an oxygen-containing nitride located on the sapphire substrate 1 and a third buffer layer 5 made of a nitride semiconductor located on the oxygen-containing layer 4.例文帳に追加
サファイア基板1と、前記サファイア基板1上に位置するとともに酸素が含有された窒化物からなる酸素含有層4と、前記酸素含有層4上に位置する窒化物系半導体からなる第3バッファ層5とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁
In this case, the third semiconductor materials and the thickness of the quantum well layer are selected, so that the difference between the energy level of the lower part of the conductive band of the carrier closed layer and the base level of electrons in the quantum well layer can be set, so that is not less than 100 meV.例文帳に追加
キャリア閉込層の伝導帯下端のエネルギ準位と、量子井戸層内の電子の基底準位との差が100meV以上になるように、第3の半導体材料、及び量子井戸層の厚さが選択されている。 - 特許庁
When the bat fiber is a polyamide fiber, absolute viscosity of the sulfuric acid solution viscosity (0.25g/50 ml in JIS first class 95% sulfuric acid) of the polyamide fiber at 25°C is preferably 60-70 mPa×S in the case of bat fiber in the first layer and preferably ≥80 mPa×S in bat fibers in the cases of the second layer and the third layer.例文帳に追加
バット繊維がポリアミド繊維である場合、その硫酸溶液粘度(O.25g/50m1,JIS一級95%硫酸)の25℃における絶対粘度が、第1層のバット繊維は、60〜70mPa・S、第2層及び第3層のバット繊維は80mPa・S以上であることが好ましい。 - 特許庁
A first base sheet 1 having a thermal coloring layer on the surface and a carbon ink coating layer on the rear, a second base sheet 4 and a tack sheet 8 constituted of a third base sheet having a pressure-sensitive adhesive layer and release paper on the rear, are provided.例文帳に追加
表面に感熱発色層を、裏面にカーボンインクコーティング層を有する第1の基材シート1と、第2の基材シート4と、裏面に感圧接着剤層及び剥離紙を有備えた第3の基材シートからなるタックシート8とを備える。 - 特許庁
Two outer fabric layers 16, 17 of the panel are connected to each other via an intermediate layer or third layers 18, 19 and ranges from a first region joined to a first outer layer to a second region joined to a second outer layer 17.例文帳に追加
このパネルが有する二つのアウター織物層16,17は、中間層又は第3の層18,19により連結され、第1のアウター層16に合流する第1の領域から、第2のアウター層17に合流する第2の領域へ達している。 - 特許庁
In such a pressure sensitive copy sheet, the agent layer can be provided on a rear surface of the third part of the base material, the developer layer can be provided on the rear surface of the second part of the base material, and further the transferable developing layer can be provided.例文帳に追加
このような感圧複写用紙は、発色剤層を基材の第3の部分裏面に、顕色剤層を基材の第2の部分裏面にも設け、さらに第2の特色発色剤層、転移性顕色剤層を設けた構成とすることもできる。 - 特許庁
The fourth metallic layer 105c is used to constitute a matching circuit and a transmission line, and the third metallic layer 105b and the fourth metallic layer 105c constitute a parallel plane plate type capacity 103 having BCB thin films as an insulating material.例文帳に追加
4層目の金属層105cを用いて整合回路と伝送線路が構成されており、3層目の金属層105bと4層目の金属層105cとで、BCB薄膜を絶縁体とした平行平板型容量103を構成している。 - 特許庁
There are also provided a first layer 2 arranged on a smooth surface 32 side and transmitting the incident and reflected light, a second layer 3 having the weight 31 and the beam 36, and a third layer 4 arranged on the reverse side of the smooth surface 32.例文帳に追加
また、上記平滑面32側に配置され、入射光及び反射光を通す第1層2と、前記錘り部31と梁部36とを有する第2層3と、上記平滑面32の裏面側に配置された第3層4とを備える。 - 特許庁
For this reason, heat from a heater 72 is conducted in a third substrate layer 3 and the first solid electrolyte layer 4 in this order, and heat is conducted from the heater 72 to the reference electrode 42 and the measuring electrode 44 via the same first solid electrolyte layer 4.例文帳に追加
このため、ヒータ72からの熱は第3基板層3,第1固体電解質層4をこの順に伝導し、共に同じ第1固体電解質層4を介してヒータ72から基準電極42及び測定電極44へ熱が伝導する。 - 特許庁
Thereby, the MR element 5 and the pair of bias layers 6 can be sufficiently surely insulated from the second magnetic shield layer 12 even if the first insulating layer 4 and the third insulating layer 10 are thinly formed.例文帳に追加
これにより、第1の絶縁層4及び第3の絶縁層10の厚さを薄く形成した場合でも、MR素子5及び一対のバイアス層6と、第2の磁気シールド層12との絶縁性を十分に且つ確実に確保することができる。 - 特許庁
A resonator structure for resonating light emitted from a light-emitting layer between a light reflecting layer and a semi-transmission reflecting layer is formed on each of the sub-pixels 2r, 2g, and 2b and each of the first-third zones 3r, 3g, and 3b of the sub-pixel 2w.例文帳に追加
サブ画素2r,2g,2bの各々と、サブ画素2wの第1〜第3領域3r,3g,3bの各々には、発光層からの出射光を光反射層と半透過反射層との間で共振させる共振器構造が形成される。 - 特許庁
When a menu image is moved from first layer to a second layer or a third layer, boundary lines B1 and B2 set close to each other while avoiding mutual contact are displayed on a display screen 21 for forming divided three areas R1, R2, and R3.例文帳に追加
第1の階層から第2の階層、第3の階層へとメニュー画像を移行させた場合、表示画面21上に、互いに接触しない程度に近接した境界線B1,B2を表示して3つの領域R1,R2,R3に分ける。 - 特許庁
A third adhesive layer 13 is provided by leaving a part to which no heat sensitive adhesive is applied between each of a first adhesive layer 11 and a second adhesive layer 12 provided by applying heat sensitive adhesive on both edges of a label base.例文帳に追加
ラベル基材の両端に感熱性接着剤を塗工して設けた第1接着剤層11及び第2接着剤層12の、それぞれとの間に、感熱性接着剤を塗工していない部分を残して第3接着剤層13を設ける。 - 特許庁
A first layer 211 for emitting light corresponding to the intensity of entering radiation, a second layer 212 for converting light outputted from the first layer 211 into electric energy, and a third layer 213 for outputting a signal based on accumulation of the electric energy acquired by the second layer 212 and the accumulated electric energy are formed on a fourth layer 214 constituted from a resin.例文帳に追加
入射した放射線の強度に応じた発光を行う第1層211と、第1層211から出力された光を電気エネルギーに変換する第2層212と、第2層212で得られた電気エネルギーの蓄積および蓄積された電気エネルギーに基づく信号を出力する第3層213を樹脂で構成した第4層214上に形成する。 - 特許庁
An organic light emitting element includes: a substrate; a first electrode; a second electrode; and an organic layer including an emission layer between the first electrode and the second electrode, and includes: a first intermediate layer including a first host and a first dopant; a second intermediate layer including the first dopant; and a third intermediate layer including a second host and the first dopant interposed between the first electrode and the emission layer.例文帳に追加
基板と、第1電極と、第2電極と、第1電極と第2電極との間に備えられ、発光層を備える有機層と、を備え、第1電極と発光層との間に第1ホストと第1ドーパントとを備える第1中間層、第1ドーパントを備える第2中間層、及び第2ホストと第1ドーパントとを備える第3中間層が介在された有機発光素子である。 - 特許庁
The thread is obtained by forming an obverse metal thin film layer and an obverse colored resin layer in the same pattern on an obverse side of a substrate and a reverse metal thin film layer and a reverse colored thin film layer in the same pattern on a reverse side of the substrate and forming a third metal thin film layer and a colorless resin layer in the same pattern on any of the obverse and reverse of the substrate.例文帳に追加
基材の表側の面に、表側金属薄膜層、及び、表側着色樹脂層を同一パターン状に形成し、前記基材の裏側の面に、裏側金属薄膜層、及び、裏側着色樹脂層を同一パターン状に形成し、基材の表裏のいずれかの面に、第3金属薄膜層、及び、無色樹脂層を、同一パターン状に形成したスレッドとする。 - 特許庁
The co-extruded film has at least the first polymer layer as the outermost surface film layer containing an alicyclic polyester, an aromatic polyester or its blend, the second polymer layer as a thermoformable auxiliary layer containing a polyolefin and the third polymer layer as the innermost surface film layer containing a heat-sealable polyolefin material.例文帳に追加
少なくとも、第一ポリマー層であり、最も外側の表面フィルム層として作用し、環状脂肪族ポリエステル、芳香族ポリエステル又はそのブレンドを含有する層; 第二ポリマー層であり、熱成形-補助層として作用し、ポリオレフィンを含有する層;並びに第三ポリマー層であり、最も内側の表面フィルム層として作用し、熱シールポリオレフィン性材料を含有する層、を有する共押出フィルム。 - 特許庁
The optical information recording medium has at least a first dielectric layer, a recording layer, a second dielectric layer, a metal-base translucent heat releasing layer, a third dielectric layer and a translucent reflecting layer in this order, A multilayered optical information recording medium including the optical information recording medium having ≥20% transmittance is provided.例文帳に追加
少なくとも、第1誘電体層、記録層、第2誘電体層、金属を主成分とする半透明放熱層、第3誘電体層、及び半透明反射層をこの順に有する光学的情報記録用媒体、並びに該光学的情報記録用媒体であって、且つその透過率が20%以上である記録媒体を含む多層化光学的情報記録用媒体。 - 特許庁
An optical filter 103 is formed by combining a first semiconductor layer 107 which selectively absorbs only a short wavelength, a second semiconductor layer 108 which absorbs light which is emitted and recombined by the first semiconductor layer 107, and the third semiconductor layer 109 for emitting and extinguishing a carrier generated by the first semiconductor layer 107 and the second semiconductor layer 108.例文帳に追加
短波長光のみを選択的に吸収する第1半導体層107と、当該第1半導体層107で発光再結合した光を吸収する第2半導体層108と、第1半導体層107及び第2半導体層108で発生したキャリアを発光させて消滅させるための第3半導体層109とを組合せた光フィルタ103を形成している。 - 特許庁
The leg wiping drying mat has an upper layer mat (a surface layer mat) constituted by weaving constituting yarns of antibacterial synthetic fiber with high water repellency into a predetermined shape and an under mat (an under layer mat) comprising a laminated structure of three kinds of polyurethane porous materials with different densities forming the first layer mat, the second layer mat, and the third layer mat from above.例文帳に追加
抗菌加工を施し撥水性の高い合成繊維の構成糸を使用して所定形状に織布してなる上層マット(表層マット)と、上方から一層目マット、二層目マット、三層目マットを形成する3種類の密度の異なるポリウレタン多孔質体の積層構造からなる下敷きマット(下層マット)と、を具備することを特徴とする足拭き乾燥マットである。 - 特許庁
In configuring the lower electrode 13x of the non-linear element 10x and a tantalum wiring 13y thereof, a second tantalum layer 132x and an intermediate tantalum layer 132y which contain no nitrogen are laminated over a first tantalum layer 131x and a lower tantalum layer 131y which contain nitrogen, and a nitrogen-containing third tantalum layer 133x and a lower tantalum layer 133y are formed thereon.例文帳に追加
非線形素子10xの下電極13xおよびタンタル配線13yを構成するにあたって、窒素含有の第1タンタル層131xおよび下層タンタル層131yの上層に、窒素を含有しない第2タンタル層132xおよび中間タンタル層132yを積層し、その上層に窒素含有の第3タンタル層133xおよび下層タンタル層133yを形成する。 - 特許庁
The catalyst is manufactured by laminating on a carrier three layers of the first layer which is formed as the lowest layer, does not contain the noble metal substantially but contains a first refractory inorganic oxide, the second layer which is formed on the first layer and contains a first noble metal and a rare-earth metal oxide and the third layer which is formed on the second layer and contains a second noble metal.例文帳に追加
担体に積層した触媒であって、最下層に実質的に貴金属を含まない第1の耐火性無機酸化物を含有する第一層、該第一層の上層に第1の貴金属及び希土類酸化物を含む第二層、さらに該第二層の上層に第2の貴金属を含む第三層を有することを特徴とする排気ガス浄化用触媒及びその製造方法。 - 特許庁
The element part 20 comprises: a light emitting layer 80 for generating light by electroluminescence; a first electrode 30a and a second electrode 30b for injecting charge into the light emitting layer 80; a third electrode 40a disposed via a first insulation layer 61 to the light emitting layer 80; and a fourth electrode 40b disposed via a second insulation layer 62 to the light emitting layer 80.例文帳に追加
発光素子部70は、エレクトロルミネッセンスによって光を発生する発光層80と、発光層80に電荷を注入するための第1電極30aおよび第2電極30bと、発光層80に対して第1絶縁層61を介して配置された第3電極40aと、発光層80に対して第2絶縁層62を介して配置された第4電極40bとを含む。 - 特許庁
A field-effect transistor is formed on a substrate 101 by sequentially stacking a first nitride semiconductor layer 102 serving as a nucleation layer, a second nitride semiconductor layer 103 having a larger electron affinity than the first nitride semiconductor layer 102, and a third nitride semiconductor layer 104 having a smaller electron affinity than the second nitride semiconductor layer 103.例文帳に追加
電界効果型トランジスタは、基板101上に、核形成層として機能する第一の窒化物半導体層102と、第一の窒化物半導体層102よりも電子親和力の大きい第二の窒化物半導体層103と、第二の窒化物半導体層103よりも電子親和力の小さい第三の窒化物半導体層104とを順に積層して形成されている。 - 特許庁
The organic light emitting layer 43 placed on the first electrode 41 includes a first organic light emitting layer 431 disposed on the first sub pixel region 411 and second sub pixel region 413, a second organic light emitting layer 433 disposed on the second sub pixel region 413, and a third organic light emitting layer 437 disposed on the second sub pixel region 413 and a third pixel region 415.例文帳に追加
有機発光層43は、第1の電極41上に配置され、第1のサブ画素領域411及び第2のサブ画素領域413の上に配置された第1の有機発光層431と、第2のサブ画素領域413上に配置された第2の有機発光層433と、第2のサブ画素領域413及び第3のサブ画素領域415の上に配置された第3の有機発光層437と、を有する。 - 特許庁
According to one embodiment, a perpendicular magnetic recording medium includes: a first granular recording layer having magnetic anisotropy Ku_1; a second granular recording layer having magnetic anisotropy Ku_2 situated on the first granular recording layer; and a third granular recording layer having magnetic anisotropy Ku_3 situated on the second granular recording layer; where a relation of Ku_3<Ku_2>Ku_1 applies.例文帳に追加
一実施形態によれば、垂直磁気記録媒体は、磁気異方性Ku_1を特徴とする第1粒状記録層と、磁気異方性Ku_2を特徴とする第1粒状記録層上方の第2粒状記録層と、磁気異方性Ku_3を特徴とする第2粒状記録層上方の第3粒状記録層と、を含み、Ku_3<Ku_2>Ku_1である。 - 特許庁
After a conductive pattern layer 11A is formed by etching the first conductive film 11, the third conductive film 13 is subjected to over-etching through the conductive pattern layer 11A as a mask to form an anchor part 15, and a sealing resin layer 22 and the conductive pattern layer 11A are firmly joined together as the sealing resin layer 22 is made to bite into the anchor part 15.例文帳に追加
第1の導電膜11をエッチングすることにより導電パターン層11Aを形成した後に、導電パターン層11Aをマスクとして第3の導電膜13をオーバーエッチングしてアンカー部15を作り、アンカー部15に封止樹脂層22を食い込ませて封止樹脂層22と導電パターン層11Aの結合を強くする。 - 特許庁
This nitride semiconductor device is constituted by laminating a first nitride semiconductor layer and a second nitride semiconductor layer constituted of a group III-V nitride semiconductor layer on a substrate, and an element separation region is packed with a third nitride semiconductor layer constituted of a group III-V nitride semiconductor layer with a microcrystal structure grown in a low temperature.例文帳に追加
基板上にIII−V族窒化物半導体層からなる第1の窒化物半導体層と第2の窒化物半導体層とが積層した窒化物半導体装置であって、素子分離領域を、低温で成長させた微結晶構造のIII−V族窒化物半導体層からなる第3の窒化物半導体層で充填する構造とする。 - 特許庁
The semiconductor device comprises at least a first semiconductor layer 101 being a p-type without using magnesium as dopant, a second semiconductor layer 102 that is formed on the first semiconductor layer 101 and composed of a first nitride semiconductor of undoped, and a third semiconductor layer 103 that is formed on the second semiconductor layer 102 and composed of a second nitride semiconductor.例文帳に追加
ドーパントとしてマグネシウムを用いることなくp型とされた第1半導体層101と、第1半導体層101の上に形成されたアンドープの第1窒化物半導体からなる第2半導体層102と、第2半導体層102の上に接して形成された第2窒化物半導体からなる第3半導体層103とを少なくとも備える。 - 特許庁
Further as shown in (c), the substrate 20 is subjected to proximity exposure one time to expose a third layer 83 on the first layer 81 in the first nondisplay area 51, to expose a fourth layer 84 on the second layer 82 in the second nondisplay area 52 and to simultaneously expose a layer 92 in a display area 40.例文帳に追加
更に、(c)に示すように、基板20に対して1回のプロキシミティ露光を行うことにより、第1の非表示領域51内の第1のレイヤー81上に第3のレイヤー83を露光し、第2の非表示領域52内の第2のレイヤー82上に第4のレイヤー84を露光すると同時に、表示領域40にレイヤー92を露光する。 - 特許庁
The resin interlayer 18 is arranged in between a first layer 15 contacting with the first glass plate 12 and a second layer 16 contacting with the second glass plate 14 and includes a third layer 17 of which the Shore harness measured with a durometer at 20°C or higher but 40°C or lower is lower than those of the first layer 15 and the second layer 16.例文帳に追加
樹脂中間膜18は、第1ガラス板12に接する第1層15と、第2ガラス板14に接する第2層16と、第1層15と第2層16との間に配置され、かつ20℃以上40℃以下でのデュロメータ測定によるショア硬度が第1層15および第2層16よりも小さい第3層17とを含む。 - 特許庁
This device has a heterostructure composed of a first nonmagnetic barrier layer 2, a first ferromagnetic quantum well layer 4, a second nonmagnetic barrier layer 6, a second ferromagnetic quantum well layer 8, a third nonmagnetic barrier layer 10 laminated one above another.例文帳に追加
非磁性体の第1障壁層2と、強磁性体の第1量子井戸層4と、非磁性体の第2障壁層6と、強磁性体の第2量子井戸層8と、非磁性体の第3障壁層10とが積層されたヘテロ構造を有し、強磁性体の第1量子井戸層4及び第2量子井戸層8は伝導を担うキャリアのドブロイ波長より十分薄い層である。 - 特許庁
The p type cladding layer 20 has a first part 2 consisting of an AlGaInP layer doped with Mg with high concentration when it grows; a second part 3 consisting of an AlGaInP layer doped with Zn with low concentration when it grows; and a third part 4 consisting of an AlGaInP layer doped with Mg with high concentration when it grows from the side of the active layer 1.例文帳に追加
p型クラッド層20が、活性層1側から、成長時にMgが高濃度にドープされたAlGaInP層から成る第一部分2と、成長時にZnが低濃度にドープされたAlGaInP層から成る第二部分3と、成長時にMgが高濃度にドープされたAlGaInP層から成る第三部分4とを有する構造とする。 - 特許庁
The forming method of an alpha aluminum oxide layer, along with a manufacturing method of a memory element which utilizes the same, includes a first step for forming an amorphous aluminum oxide layer on a lower part film, a second step for forming a crystalline auxiliary layer on the amorphous aluminum oxide layer, and a third step for crystallizing the amorphous aluminum oxide layer.例文帳に追加
下部膜上に非晶質アルミニウム酸化物層を形成する第1ステップと、非晶質アルミニウム酸化物層上に結晶質補助層を形成する第2ステップと、非晶質アルミニウム酸化物層を結晶化する第3ステップと、を含むことを特徴とするアルファアルミニウム酸化物層の形成方法及びそれを利用したメモリ素子の製造方法である。 - 特許庁
A crystalline silicon film used as the active layer, a first silicon oxide film, a second silicon oxide film, a third silicon oxide film overlying them, further a silicon nitride film overlying the third silicon oxide film, and the silicon nitride film are covered by a resin film in the semiconductor device.例文帳に追加
活性層となる結晶性珪素膜を、第1の酸化珪素膜、第2の酸化珪素膜、それらを覆う第3の酸化珪素膜と、さらに第3の酸化珪素膜を覆う窒化珪素膜、前記窒化珪素膜を樹脂膜で覆う。 - 特許庁
A third and fourth seal segments are connected along their respective peripheral edges to form a second seal layer having a seam defined by the seam edge of the third seal segment and the seam edge of the fourth seal segment.例文帳に追加
第3および第4シールセグメントが各々の外側の周縁エッジに沿って結合され、第3シールセグメントの継ぎ目エッジおよび第4シールセグメントの継ぎ目エッジによって画定された継ぎ目を備えた第2シール層を形成する。 - 特許庁
The third and fourth internal electrodes 21 and 25 and intermediate internal electrode 30 are disposed with an insulator layer 9 therebetween so as to form a plurality of electrostatic capacity components between the third and fourth internal electrodes 21 and 25.例文帳に追加
第3及び第4の内部電極21,25並びに中間内部電極30は、第3及び第4の内部電極21,25の間に複数の静電容量成分が形成されるように、絶縁体層9を挟んで配置されている。 - 特許庁
In addition, the wiring grooves are formed into the fourth insulating film 7 and, at the same time, connection holes are formed in the second insulating film 5 by performing etching from the above of the third and second mask layers 10 and 9, and the third mask layer 10 is etched off.例文帳に追加
第3マスク層10および第2マスク層9上からのエッチングにより、第4絶縁膜7に配線溝を形成すると共に第2絶縁膜5に接続孔を形成し、第3マスク層10をエッチング除去する。 - 特許庁
An outer peripheral surface of the first and third metallic layers 221 and 223 retreats from an outer peripheral surface (an outer peripheral surface of the second metallic layer 222) of the escape wheel 200.例文帳に追加
第1及び第3の金属層221、223の外周面は、がんぎ車200の外周面(第2の金属層222の外周面)から後退している。 - 特許庁
Third wiring 33 is extended vertically to the first wiring 31 in the upper layer of a region where the first and second internal power source lines exist.例文帳に追加
第3の配線33は、第1および第2の内部電源線が存在する領域の上層において、第1の配線31に対して垂直方向に延びる。 - 特許庁
The pneumatic tire further comprises an under tread 21 which extends between the tread rubber 10 and the belt layer 7 and which is brought into contact with the cushion rubber 13 at a third contact part Y3.例文帳に追加
トレッドゴム10とベルト層7との間を通りかつクッションゴム13とは第3の接触部Y3で接触するアンダートレッド21を設ける。 - 特許庁
The sinusoidal wave function is used as an activation function of q pieces of neurons 31-3q structuring a third neuron group N3 included in an intermediate layer 3.例文帳に追加
また中間層3に含まれる第3のニューロン群N3を構成するq個のニューロン31〜3qの活性化関数として正弦波関数を用いる。 - 特許庁
A belt layer 7 comprises a first ply 7A having a code angle α1 of 30-70° and second and third plies 7B, 7C having code angles α2, α3 of 13-23°.例文帳に追加
ベルト層7は、コード角度α1が30〜70°の第1のプライ7Aと、コード角度α2,α3が13〜23°の第2、3のプライ7B、7Cとからなる。 - 特許庁
In the reflective region of the second transparent substrate 20, a third transparent electrode layer 24 is formed opposing to the first transparent substrate 10.例文帳に追加
また、第2の透明基板20の反射領域には、第1の透明基板10と対向して、第3の透明電極層24が形成されている。 - 特許庁
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