| 意味 | 例文 |
upper- layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 11093件
A plurality of stages of the terminals 8b, 89 are disposed, the terminal of the lower stage is connected to the wiring module 52 of a narrow lower layer, and the terminal of the upper stage is connected to the wiring module 56 of a wide upper layer.例文帳に追加
端子8b,89を複数段に配置し、下段の端子を幅狭な下層の配線モジュール52に接続し、上段の端子を幅広な上層の配線モジュール56に接続する。 - 特許庁
When the minimum pitch of upper and lower layer via plug is 0.4 μm, upper layer via plug density per unit area having one side of 50-100 μm is set to ≤60%.例文帳に追加
上下層ビアプラグの最小ピッチが0.4μmである場合に、一辺が50〜100μmの大きさの単位面積あたりの上層ビアプラグ密度を60%以下に設定する。 - 特許庁
A moisture-permeable waterproof sheet 3 is provided on the upper side of a roof heat insulating layer 1, and a galvanized sheet 5 is provided on the upper side of the moisture-permeable waterproof sheet 3 through a first venting layer 6.例文帳に追加
屋根断熱層1の上側に透湿防水シート3が設けられ、該透湿防水シート3の上側に第1通気層6を介して亜鉛鉄板5が設けられている。 - 特許庁
For example, a circuit part 39 for heat generation is connected to an upper electrode layer 34 and a current is applied to the upper electrode layer 34, resulting in heat generation using Joule heat.例文帳に追加
例えば、上部電極層34に発熱用の回路部39を接続し、上部電極層34に電流を流すことで、ジュール熱により発熱させることが可能である。 - 特許庁
A wiring layer 21 part of which is cut resulting in forming a discontinuous parts 21a that exist on an upper face of a ceramic substrate 2 and a wiring layer 26 metalize-formed in a frame form exists on an upper face outer circumference.例文帳に追加
セラミック基板2上面には、一部が切断されて不連続部21aとなっている配線層21、上面外周には、枠状にメタライズ形成された配線層26がある。 - 特許庁
An adhesion layer 5 is deposited on the upper electrode 4 and the lower electrode 2, the capacitive insulating film 3, the upper electrode 4 and the adhesion layer 5 are covered by an insulating film 6.例文帳に追加
上部電極4の上には密着層5が堆積されており、下部電極2、容量絶縁膜3、上部電極4及び密着層5は絶縁膜6により覆われている。 - 特許庁
The upper laminate 112 includes an occupied area along lamination planes thereof smaller than that of the lower laminate 111, and the upper laminate includes a free layer 40, a cap layer 38 and a hard mask 39 in order.例文帳に追加
上部積層体112は、積層面に沿った占有面積が下部積層体111よりも小さく、フリー層40、キャップ層38、ハードマスク39を順に含むものである。 - 特許庁
At this time, portions of the upper-side bonding layer 5 are extruded in the externally side direction of the semiconductor chip 4 to dispose the extruded portions of the upper-side bonding layer 5 on the lower-side bonding layers 2.例文帳に追加
このとき、上側接着層5の一部が半導体チップ4の外部側方に押し出され、この押し出された上側接着層5の一部が下側接着層2上に配置される。 - 特許庁
Small cavities 4 continuous with an upper part surface layer are formed, large cavities 4 continuous with a lower layer are formed, and upper and lower cavities are formed into a continuous condition as a whole.例文帳に追加
上部表層に連続する小空隙4を形成するとともに、下層に連続する大空隙4を形成し、上下の空隙が全体として連続状態に形成した。 - 特許庁
A supporting plate 51 is mounted on an inner wall in the vicinity of upper and lower end parts of the main body outer layer part 30, and an L-shaped plate 52 is mounted on upper and lower end parts of the main body inner layer part 40.例文帳に追加
本体外層部30の上下端部付近の内壁には、支持プレート51が取り付けられ、本体内層部40の上下端部には、L字プレート52が取り付けられる。 - 特許庁
A large number of upper layer liquid chambers 14 are formed by providing a large number of sheets of upper layer barrier wall 12 at a specified pitch p on a nozzle channel plate 11 and placing a diaphragm 13 thereon.例文帳に追加
ノズル流路板11の上面側に、多数枚の上層隔壁12を所定ピッチpで設け、その上に振動板13を設けることにより、上層液室14を多数形成する。 - 特許庁
A claw-like member 34' of a lower side frame 32', into which a solar battery panel P' of an upper layer is fitted, is pushed into a gap of a locking member 37 which is fixed onto an upper side frame 33 of a lower layer.例文帳に追加
上層の太陽電池パネルP’を嵌合した下部側フレーム32’の爪状部材34’を下層の上部側フレーム33上に固定した係止部材37の間隙に押し込む。 - 特許庁
This cover sheet for a medical treatment machine includes: an upper sheet where a resin layer is stacked on the back and a lower sheet where a raising or resin layer is stacked on the surface thereof, wherein the upper and lower sheets are superposed to freely slide.例文帳に追加
裏側に樹脂層が積層された上側シートと表側が起毛もしくは樹脂層が積層された下側シートとの2枚の布帛を滑動自在に重合して用いる。 - 特許庁
This oxide layer 14 has an upper surface 14a, that inclines toward directly above the channel stopper region 4 and a flat upper surface above the embedded oxide layer 2.例文帳に追加
この酸化物層14は、チャネルストッパ領域4の直上に傾斜した上面14aを有しており、埋込酸化物層2の上方に平坦な上面14bを有している。 - 特許庁
Since the receiver informs the upper layer of the frame, only when the history information storage section 16 is not registered with a received frame, receiver informing the upper layer about a redundant frame is avoided.例文帳に追加
受信したフレームが履歴情報記憶部16に登録されていないときにのみフレームを上位層に通知するから、冗長したフレームが上位層に通知されることが回避される。 - 特許庁
The organic EL layer 20 is formed on the upper surface of the first electrode 16 by evaporation, and a second electrode 21 is formed on the upper surface of the organic EL layer 20 by evaporation.例文帳に追加
前記第1電極16の上面に対し有機EL層20を蒸着により形成して、有機EL層20の上面に第2電極21を蒸着により形成する。 - 特許庁
In a manufacturing method of a semiconductor device according to an embodiment, an upper layer insulating film is formed on a semiconductor substrate, and an amorphous film including Si is formed on the upper layer insulating film.例文帳に追加
実施形態の半導体装置の製造方法では、半導体基板上に上層絶縁膜が形成され、前記上層絶縁膜上にSiを含む非晶質膜が形成される。 - 特許庁
Then, the second precision relative time information about the VOP of the upper layer is reset on the basis of the difference between the display times of adjacent VOPs of the upper layer in a display order.例文帳に追加
そして、上位レイヤの、表示順で隣接するVOPどうしの表示時刻の差に基づいて、上位レイヤのVOPについての秒精度相対時刻情報がリセットされる。 - 特許庁
The semiconductor device comprises a first GaAs layer 4 formed on the upper surface of an epitaxial substrate layer 1, a first diode electrode 8 formed on the upper surface side thereof, and an FET gate electrode 5.例文帳に追加
エピタキシャル基板層1の上面側に、第1GaAs層4と、それの上面側に形成される第1ダイオード電極8と、FETゲート電極5とから形成されている。 - 特許庁
The display substrate 10 as an embodiment of the present invention has an upper insulating layer 30 laminated on pixel wirings 18 and also has pixel electrodes 20 formed on the upper insulating layer 30.例文帳に追加
本実施例のディスプレイ基板10によれば、上側絶縁層30が画素配線18上に積層され、その上側絶縁層30上に画素電極20が形成される。 - 特許庁
To provide a process for producing a metal multilayer film where the upper surface of a metal film (e.g. a Cu film) at a lower layer portion is covered with a metal film (e.g. a Cr film) at an upper layer portion neither too much nor too less.例文帳に追加
下層部の金属膜(例えば、Cu膜)の上面が上層部の金属膜(例えば、Cr膜)によって過不足無く覆われた金属多層膜の製造方法を提供する。 - 特許庁
A reference mark 1 consists of an L-shaped lower reference pattern 11 formed on a lower reference layer 32, and an L-shaped upper reference pattern 12 formed on an upper reference layer 33.例文帳に追加
基準マーク1は、下側基準層32に形成されたL字状の下側基準パターン11と、上側基準層33に形成されたL字状の上側基準パターン12とからなる。 - 特許庁
After removing the vermicular pattern forming member, a spraying material for forming the upper spraying layer is moved almost in the extending direction of a hole 31 formed after removing the vermicular pattern forming member 22, and an upper surface of the upper spraying layer is leveled.例文帳に追加
虫喰い模様形成用部材を除去した後、上吹き層を形成する吹き付け材を、虫喰い模様形成用部材22を除去した後に形成される穴31の延びる方向にほぼ沿って移動させ、上吹層の上面を均す。 - 特許庁
An upper structure 2 has in a top position an energy absorbing part 3 composed of an energy absorbing layer 3a and a weight body 3b arranged in the upper part of the energy absorbing layer 3a, and is extended in the upper part of an existing lower structure 1.例文帳に追加
エネルギー吸収層3aと当該エネルギー吸収層3aの上部に設置した錘体3bとからなるエネルギー吸収部3を頂部の位置に有した上部構造2を既存の下部構造1の上部に増築する。 - 特許庁
An upper surface 10a of the metal conductor portion 10 and an upper surface 20s of the translucent conductor layer 20 are arranged practically equidistant from the supporting body 30 and the upper surface of the translucent conductor layer 20 is formed almost smoothly.例文帳に追加
金属導電部10の上面10sと、透光性導電層20の上面20sとは、支持体30から実質的に等距離にあり、透光性導電層20の上面20sが略平滑に形成されている。 - 特許庁
The non-volatile memory device in which the inter-polysilicon/blocking dielectric 41, 42 comprises a layer in the silicon oxide consuming material, DyScO, on top of the upper layer of the layer 3 where charge is stored, and the silicon oxide consuming material consumes at least a part of the upper layer, is disclosed.例文帳に追加
また、ポリシリコン間/ブロッキング誘電体41,42が、電荷が蓄積される層3の上部層の上に、DyScOのシリコン酸化物消費材料の層を含み、シリコン酸化物消費材料が上部層の少なくとも一部を消費した不揮発性メモリデバイス。 - 特許庁
To provide an etching method by which upper layer aluminum based films can be etched in good shape, and lower layer silicon base films can be etched with good controllability, in the etching of a laminated structure constituted of the upper layer aluminum based films an the lower layer silicon based films.例文帳に追加
上層のAl系膜と下層のSi系膜との積層構造をエッチングするにあたり、形状性よく上層のAl系膜をエッチングすることができ、さらに下層のSi系膜を制御性よくエッチングすることができるエッチング方法を提供すること。 - 特許庁
To prevent falling of collapsed debris of the upper layer part onto the discharge cell, while securing the partition function of a bulkhead in the PDP which has a double layer structure of a bulkhead made of a lower layer part having large compression breaking strength and an upper layer part having small compression breaking strength.例文帳に追加
隔壁を圧縮破壊強度の大なる下層部と、圧縮破壊強度の小なる上層部とからなる2層構造にしたPDPにおいて、隔壁の仕切り機能を確保しつつ、上層部の崩落砕片が放電セル内に落下するのを防ぐ。 - 特許庁
The separate-type liquid seasoning contains an O/W-type emulsion as a lower layer and an oil phase as an upper layer positioned on the lower layer, wherein the oil phase of the upper layer contains an oil-and-fat containing ≥15 mass% of a diacylglycerol, and a flavor component.例文帳に追加
水中油型の乳化物を下層とし、上層として油相を積層した分離型液体調味料であって、上層の油相がジアシルグリセロールを15質量%以上含む油脂、及び香気成分を含有する分離型液体調味料。 - 特許庁
The via connection region 122 is connected to the lower layer 131 of the wiring layer metal 13, or the lower electrode of the capacitance element C1, and the via connection region 162 is connected to the upper layer 132 of the one-wiring layer metal 13, or an upper electrode of the capacitance element C1.例文帳に追加
ビア接続領域122は配線層メタル13の下部層131、すなわち容量素子C1の下部電極と接続され、ビア接続領域162は容量素子C1の上部電極である一配線層メタル13の上部層132と接続されている。 - 特許庁
An upper surface of an element isolation layer 23B in the second region is higher than that of an element isolation layer 23A in the first region, and the curvature radius of an upper corner of a charge storage layer 32B in the second region is larger than that of a charge storage layer 43 in the third region.例文帳に追加
第2の領域の素子分離層23Bの上面は、第1の領域の素子分離層23Aの上面より高く、第2の領域の電荷蓄積層32Bは、上部の角の曲率半径が、第3の領域の電荷蓄積層43よりも大きい。 - 特許庁
Each of a lower-layer coil conductor part 11U and an upper-layer coil conductor 11S is approximately rectangular and eddy-shaped and by making an inner terminal of the lower-layer coil conductor 11U and an inner terminal of the upper-layer coil conductor 11S conductive, both the conductors are connected in series.例文帳に追加
下層コイル導体部11Uと上層コイル導体部11Sはそれぞれほぼ矩形の渦巻き状であり、下層コイル導体部11Uの内側の端部と上層コイル導体部11Sの内側の端部とが導通することにより両者は直列接続される。 - 特許庁
The chip resistor includes cuts 100a, 100b, 100c and 100d provided in the resistor layer 12 and the cuts 100a or the like are coated with the upper surface electrode layer 14 when the resistor layer 12 is formed at a correct position with respect to the upper surface electrode layer 14.例文帳に追加
抵抗層12に切欠部100a、100b、100c、100dを設け、抵抗層12が上面電極層14に対して正しい位置に形成されている場合には、該切欠部100a等が上面電極層14に被覆されるようにする。 - 特許庁
Since the dielectric breakdown proofness of the lower insulating layer 30 and the upper insulating layer 33 increases, by making thin the thickness of the lower insulating layer 30 or the upper insulating layer 33, it becomes possible to narrow a shielding space K2, without causing dielectric breakdown.例文帳に追加
下部絶縁層30および上部絶縁層33の耐絶縁破壊性が向上するため、絶縁破壊を生じさせることなく下部絶縁層30や上部絶縁層33の厚みを薄くすることにより、シールド間隔K2を狭小化することが可能となる。 - 特許庁
Total thickness X of a fourth upper cladding layer 26 and a second contact layer 27 of the second semiconductor laser 29 is set smaller than the total thickness Y of a second upper cladding layer 16 and a first contact layer 17 of the first semiconductor laser 19.例文帳に追加
第2の半導体レーザ29の第4の上クラッド層26と第2のコンタクト層27を合わせた膜厚Xが第1の半導体レーザ19の第2の上クラッド層16と第1のコンタクト層17を合わせた膜厚Yよりも薄くなるようにする。 - 特許庁
The semiconductor laser element 100 includes an active layer 5 made of a nitride-based semiconductor, an upper clad layer 8 formed on the active layer 5, and a ridge portion 11 formed by dry-etching the upper clad layer 8 up to a halfway depth.例文帳に追加
この半導体レーザ素子100は、窒化物系半導体からなる活性層5と、活性層5上に形成された上部クラッド層8と、上部クラッド層8の途中の深さまでドライエッチングされることによって形成されたリッジ部11とを備えている。 - 特許庁
The power semiconductor module 1 includes an insulating substrate 8 where an upper electrode layer 3 and a lower electrode layer 4 are formed, a power semiconductor device 2 stacked on the upper electrode layer 3, and a heatsink 7 stacked on the lower electrode layer 4.例文帳に追加
本発明のパワー半導体モジュール1は、上部電極層3および下部電極層4が形成された絶縁基板8と、前記上部電極層3に積層されたパワー半導体デバイス2と、前記下部電極層4に積層された放熱板7を備える。 - 特許庁
The semiconductor device 10 is provided with: a semiconductor lower layer 30 made of gallium nitride; a semiconductor upper layer 40 made of gallium nitride aluminum and provided on the surface of the semiconductor lower layer 30; and an insulating gate portion 55 provided on the surface of the semiconductor upper layer 40.例文帳に追加
半導体装置10は、窒化ガリウムの半導体下層30と、半導体下層30の表面に設けられている窒化ガリウムアルミニウムの半導体上層40と、半導体上層40の表面に設けられている絶縁ゲート部55を備えている。 - 特許庁
In a single-electron tunnel element where a lower electrode, a lower insulating thin-film layer, an intermediate electrode layer, an upper insulating thin-film layer and an upper electrode are laminated in the order on a substrate, the intermediate electrode layer is constituted of an insulating thin film, into which dendrimer molecules are inserted.例文帳に追加
基板上に下部電極、下部絶縁性薄膜層、中間電極層、上部絶縁性薄膜層、上部電極を順次積層した単一電子トンネル素子において、中間電極層をデンドリマー分子を挿入した絶縁性薄膜により構成する。 - 特許庁
By turning on/off a hub device 18 for a lower layer relay and a hub device 19 for an upper layer relay, an elevator 11g capable of servicing at all floors is connected with a group-control device 13 for a lower layer or a group-control device 14 for an upper layer.例文帳に追加
低層中継用ハブ装置18と高層中継用ハブ装置19の電源をON/OFFすることで、全階床サービス可能なエレベータ11gを低層用群管理制御装置13または高層用群管理制御装置14に接続する。 - 特許庁
A first conductivity-type lower clad layer 103, an active layer 104, a second conductivity-type first upper clad layer 105, and a second conductivity-type second upper clad layer 107 having a ridge shape, are formed on a first conductivity-type semiconductor substrate 101.例文帳に追加
第1導電型の半導体基板101上に、第1導電型の下部クラッド層103、活性層104、第2導電型の第1上部クラッド層105、およびリッジ形状を有する第2導電型の第2上部クラッド層107が形成される。 - 特許庁
To provide, in stacking semiconductor devices on top of another, a lower-layer semiconductor device and a stacked semiconductor device, in which the lower-layer semiconductor device is easily producible and has high reliability of jointing with the upper layer, even if a semiconductor mounted on the upper layer has a connection terminal that is small in height.例文帳に追加
半導体装置同士を積層するにあたり、上段に搭載する半導体装置の接続端子高さが低くても上段との接合信頼性が高く、かつ容易に製造可能な下段の半導体装置および積層型半導体装置を提供する。 - 特許庁
A region where the isolation layer 44 is present and a region where the layer 44 is not present are formed on the spacer layer 24 in a view vertical to the upper surface of the fixed layer 23.例文帳に追加
固定層23の上面に対して垂直な方向から見たときに、スペーサ層24には、絶縁層44が存在している領域と絶縁層44が存在していない領域とが形成されている。 - 特許庁
On the other hand, a proton or the like is injected to the isolation region so as to reach the board 11 through the core layer 13 and the lower side clad layer 12 from the upper side clad layer 14 to form an insulation layer 17.例文帳に追加
一方、分離領域は、上側クラッド層14からコア層13及び下側クラッド層12を通して基板11に達するようにプロトン等を注入し、絶縁層17を形成する。 - 特許庁
In the sheet 1, both upper and lower surface layers are made of a thin-film reinforcing layer which is cured similar to rubber, an unvulcanized compound layer is provided in the inner layer, and the inner layer is so flexible that it extends outward.例文帳に追加
放熱シート1は上下両面表層部がゴム状に硬化させた薄膜補強層であり、内層に未加硫のコンパウンド層が存在し、前記内層は外側にはみ出す程度に流動性がある。 - 特許庁
The resin-coated metal sheet has a resin layer of a double-layer structure comprising a lower layer having a composite resin of acrylic and polyester as a principal component, and an upper layer having polyester resin as a principal component, on at least one surface.例文帳に追加
アクリルおよびポリエステルの複合樹脂を主成分とする下層とポリエステル樹脂を主成分とする上層からなる複層構造の樹脂層を少なくとも一方の面に有する。 - 特許庁
An upper DBR mirror 42 with a low refractive point layer and a high refractive point layer alternately laminated thereon is divided into a primary region 44 located near an active layer, and a secondary region 46 located far from the active layer.例文帳に追加
低屈折率層及び高屈折率層が交互に積層された上部DBRミラー42を、活性層近傍の第1の領域44と、活性層から遠い第2の領域46とに分ける。 - 特許庁
At least one blind hole 302 is formed in the second conductive layer 330 and the insulating layer 320 to expose the upper surface of the bump 314a through the second conductive layer 330 and the insulating layer 320.例文帳に追加
少なくとも一つのブラインドホール302を第2導電層330と絶縁層320に形成し、第2導電層330と絶縁層320を通り抜けてバンプ314aの上面を露出する。 - 特許庁
In this circuit device, a wiring layer 18 is formed on the upper surface of a circuit board 12, and a first grounding layer 26 and a second grounding layer 28 are formed between the wiring layer 18 and the circuit board 12.例文帳に追加
本発明では、回路基板12の上面に配線層18を設け、更に、配線層18と回路基板12との間に第1接地層26および第2接地層28を設けている。 - 特許庁
The optical waveguide has a stress relief layer 12 consisting of a polymer material and a lower clad layer 13 formed on a substrate 11 and has an upper clad layer 15 which covers a core part 14 formed on the lower clad layer 13.例文帳に追加
基板11上に高分子材料からなる応力緩和層12および下部クラッド層13を形成し、その上に形成されたコア部14を覆う上部クラッド層15から構成されている。 - 特許庁
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