A mask alignment sensor attached on the fine-adjustment top table observes a mask mark and the reference mark simultaneously.例文帳に追加

微動トップテーブルに取り付けられたマスクアライメントセンサが、マスクマークと基準マークとを同時に観測する。 - 特許庁

An adjustment quantity calculation section 270 calculates an adjustment quantity instructed with the adjustment quantity instruction mark detected by the adjustment quantity instruction detection section 260.例文帳に追加

調整量算出部２７０は、調整量指示検出部２６０によって検出された調整量指示マークで示されている調整量を算出する。 - 特許庁

An adjustment quantity instruction detection section 260 analyzes image data of a sheet for picture quality adjustment read by a scanner and detects an adjustment quantity instruction mark which is included in a sheet image for picture quality adjustment and entered by a user.例文帳に追加

調整量指示検出部２６０は、スキャナ部によって読み取られた画質調整用シートの画像データを解析して、画質調整用シート画像に含まれるユーザによって記入された調整量指示マークを検出する。 - 特許庁

An MFP (Multi Function Peripheral) 100 forms a mark for image adjustment in a region 7E outside paper of a conveying belt 7, and executes an acquiring processing for acquiring a correction value for image adjustment based on a measurement result of the mark.例文帳に追加

ＭＦＰ１００は，搬送ベルト７の用紙外領域７Ｅに画調整用のマークを形成し，そのマークの測定結果に基づいて画調整用の補正値を取得する取得処理を実行する。 - 特許庁

In this state, dummy printing is performed on the adjustment substrate AW from the printing plate 17 to transfer the plate-side mark.例文帳に追加

この状態で印刷版１７から調整用基板ＡＷにダミー印刷を行い、版側マークを転写する。 - 特許庁

To provide an image formation device and an image formation system which suppress wasteful consumption of consumables by reducing occasions of forming a mark for image adjustment.例文帳に追加

画調整用のマークを形成する機会を減らし，消耗品の無駄な消費を抑える画像形成装置および画像形成システムを提供すること。 - 特許庁

To provide a method for adjusting a recording, highly accurately controlling the edge position of a mark in adjustment of recording conditions corresponding to a high density recording.例文帳に追加

高密度記録に対応する記録条件の調整に関して、マークのエッジ位置を高精度に制御可能な記録調整方法を提供する。 - 特許庁

Thus, even under the condition that a recording pulse adjustment unit is 1/16 of a channel bit cycle, the rear edge position of the mark is highly accurately controlled.例文帳に追加

これにより、記録パルス調整単位がチャネルビット周期の１／１６である条件においても，マークの後エッジ位置を高精度に制御できる。 - 特許庁

ALIGNMENT ADJUSTMENT METHOD, METHOD FOR FORMING ALIGNMENT MARK, BASE MATERIAL, AND METHOD FOR MANUFACTURING TRANSMISSIVE OPTICAL ELEMENT例文帳に追加

アライメント調整方法、アライメントマークの形成方法、基材、及び透過型光学素子の製造方法 - 特許庁

A deviation amount from an ideal state of the reference mark 116 is measured from the image, and is corrected by adjustment of a primary electron optical system 108 and the like.例文帳に追加

この画像から、基準マーク116の理想状態からのずれ量を計測し、一次電子光学系108他の調整によって補正する。 - 特許庁

When adjustment of the registration is carried out, a register mark 24 for adjusting the registration is printed on a recording paper 11 by each color.例文帳に追加

レジずれ調整時に、記録紙１１にレジずれ調整用のレジスタマーク２４を各色毎に印画させる。 - 特許庁

Next, with each standard mark as reference, the fine adjustment of the substrate is performed so as to be controller within a prescribed error, and the substrate is arranged.例文帳に追加

次いで、各基準印を基準として所定誤差内に収まるよう基板の微調整を行い配置する。 - 特許庁

A trimming adjustment section 46 then adjusts the trimming region so as to reproduce the trimming mark information.例文帳に追加

そして、トリミング調整部４６が、トリミング目印情報が再現されるようにトリミング領域を調整する。 - 特許庁

To control the generation of a phenomenon deteriorating printing quality such as a gear mark and banding even when the backlash adjustment of a gear is not done corresponding to the thickness of a printing medium.例文帳に追加

印刷媒体の厚みに応じてギヤのバックラッシュ量を調整する必要があり、その調整作業が面倒である。 - 特許庁

To provide a mark position detecting apparatus for surely reducing an error TIS caused by the apparatus by improving the adjustment sensitivity of an illumination optical system.例文帳に追加

照明光学系の調整感度を向上させることにより装置起因の誤差ＴＩＳを確実に低減できるマーク位置検出装置を提供する。 - 特許庁

When a compound-eye photographic instrument, having a left optical unit 4 and a right optical unit 5, is adjusted, a target mark Tg for adjustment is arranged to be shifted slightly rearward from a position for photographing an object and then the target mark Tg for adjustment is photographed by means of each optical unit 4, 5.例文帳に追加

複眼撮影装置は、左側光学ユニット４と、右側光学ユニット５とを有する調整時には、被写体を撮影すべき被写体位置よりも少し後方にずらして調整用ターゲットマークＴｇを配置し、その調整用ターゲットマークＴｇを各光学ユニット４，５で撮影する。 - 特許庁

A CCD camera 7 is provided above the upper platen 1, and the distance 8 between the substrates is directly measured from difference of a focus adjustment amount for the upper substrate mark 5 and a focus adjustment amount for the lower substrate mark 6.例文帳に追加

上定盤１の上方にはＣＣＤカメラ７が設けられており、このＣＣＤカメラによる上基板マーク５に対するピント調整量と下基板マーク６に対するピント調整量との差分から基板の間隔８を直接計測する。 - 特許庁

The amount of shift between the position of the plate-side mark PPM transferred to the adjustment substrate AW and the position of the substrate-side mark WM is measured to calculate an alignment correction amount of the adjustment substrate AW relative to the printing plate on the basis of the amount of shift.例文帳に追加

調整用基板ＡＷに転写された版側マークＰＰＭの位置と基板側マークＷＭの位置とのずれ量を測定し、そのずれ量に基づいて印刷版に対する調整用基板ＡＷの位置調整補正量を算出する。 - 特許庁

First, alignment is performed so that a plate-side mark formed on a printing plate aligns with a substrate-side mark WM formed on an adjustment substrate AW.例文帳に追加

最初に、印刷版に形成された版側マークと調整用基板ＡＷに形成された基板側マークＷＭとが一致するように位置合わせを行う。 - 特許庁

Thereafter, the adjustment substrate AW is replaced with a substrate to be processed for performing the transfer of the pattern, and the alignment is performed so that the plate-side mark of the printing plate aligns with the substrate-side mark of the substrate to be processed.例文帳に追加

その後、調整用基板ＡＷをパターンの転写を行うべき処理対象基板に置き換え、印刷版の版側マークと処理対象基板の基板側マークとが一致するように位置合わせを行う。 - 特許庁

Excellent adjustment can be realized stably at all times independently of the photographing object by locating the mark to a corner of the stand so as to avoid the object from being overlapped on the mark.例文帳に追加

マークを台の隅に配置し、被写体がマークにかぶさらないようにすることで、撮像物の有無にかかわらず、常に安定して良好な調整を実現することができる。 - 特許庁

A mark suitable for adjustment of positioning by the pixel shift method is fixed to a stand on which a photographing object is placed, a shift amount of a relative position between an incident light and a solid-state imaging device is measured by using the mark and the positioning is adjusted.例文帳に追加

撮影対象物を置く台に画素ずらし法の位置決めの調整に適したマークを固定し、このマークを用いて入射光と固体撮像デバイスとの相対位置の移動量を測定し、位置決めの調整をする。 - 特許庁

The device is provided with means 15 to 17 for forming and detecting a mark for detection of misalignment and a mark for adjustment of image density in a same sequence when a demand for image density control and a demand for position aligning are received simultaneously.例文帳に追加

この発明は、画像濃度制御要求と位置合わせ要求が同時になされた際に同一シーケンスにて位置ずれ検知用マーク及び画像濃度調整用マークの形成及び検知を行う手段１５〜１７を備えたものである。 - 特許庁

To propose a laser device which can project a visually recognizable spot mark and line mark using a simple and reliable means at a low cost with the need for as minimum adjustment as possible.例文帳に追加

簡単かつ確実な手段により，良好に視認可能なスポットマーク及びラインマークを低コストで，しかも可能な限り調整不要として投射可能としたレーザ装置を提案する。 - 特許庁

The optical axis adjustment device can change the target value to a value desired by an operator and is provided with a display part, which expresses and displays in obvious way as to whether the adjustment state is within standards by color sorting and/or by mark expression.例文帳に追加

目標値が操作者の所望の値に変更可能であり、また、調整状態が規格内にあるかないかを、色分け及び／又は記号で表現して一目瞭然に表示する表示部を備える光軸調整装置を提供する。 - 特許庁

Position adjustment of a camera body 2 is performed by a position adjustment mechanism 4 with reference to a position relationship of a mark given to a bottom surface part 2a of the camera body 2 and a slit formed on a bottom surface part 3a of a bracket 3.例文帳に追加

カメラ本体２の底面部２ａに付与されたマークとブラケット３の底面部３ａに形成されたスリットの位置関係を参照して、位置調整機構４によりカメラ本体２の位置調整を行う。 - 特許庁

As a result, the gap between the photomask 102 and the substrate 101 can be accurately adjusted to a specified value by a gap adjustment device, based on the relation on the relative position between the mark 103 for measuring the gap and the projected mark 103a for measuring the gap.例文帳に追加

その結果、間隙測定用マーク１０３と投影間隔測定用マーク１０３ａとの相対的位置関係に基づいて、間隔調整装置によりフォトマスク１０２と基板１０１との間隔を所定の値に正確に調節する。 - 特許庁

Thus the mark-off line 18a of the quartz plate 18 can be precisely photographed by the camera 27 without causing a focal point deviation and thereby, an adjustment operation to reduce to nil the displacement of the mark-off line 18a of the quartz plate 18 to an edge 24a of a blade 24, can be properly carried out.例文帳に追加

カメラ２７により水晶板１８の罫書筋１８ａが焦点ズレを起こすことなく精度よく撮像され、ブレード２４の刃先２４ａに対する水晶板１８の罫書筋１８ａの変位量が零となるように調整する作業が適正に行われる。 - 特許庁

To provide a color value acquisition method, an image processing method, a color value acquisition device, an image processing device, and a program, that are capable of reducing an influence degree of a visual effect caused by a difference in a shape of a target mark and improving a working efficiency in color adjustment even when the target mark has a complicated shape.例文帳に追加

対象マークが複雑な形状を有する場合であっても、前記対象マークの形状の違いによる視覚的効果の影響度を低減し、色調整の作業効率を向上可能である色値取得方法、画像処理方法、色値取得装置、画像処理装置及びプログラムを提供する。 - 特許庁

A substrate 2 onto which an alignment mark 3 is put is moved from a carry-in position toward a processing position by a moving stage 5, and a first region of the substrate 2 including the alignment mark 3 is imaged at a first magnification by each imaging section 6 for rough adjustment.例文帳に追加

移動ステージ５によって、アライメントマーク３が形成された基板２を、搬入位置から処理位置へ向かって移動させるとともに、各粗調用撮像部６によって、基板２のアライメントマーク３を含む第１領域を、第１倍率で撮像する。 - 特許庁

An adjustment quantity mark 26 for displaying the number of spacers 25 for inter-object-image distance adjustment of the condenser lens body 15 interposed between the unit frame 11 and circuit board 22 is provided on an outer circumferential surface of the condenser lens body 15.例文帳に追加

ユニットフレーム１１と回路基板２２との間に介装される集光レンズ体１５における物像間距離調整用のスペーサ２５の枚数を表示するための調整量マーク２６が、集光レンズ体１５の外周面に備えられる。 - 特許庁

The device is provided with an image pickup means imaging an alignment mark with at least two or more kinds of optical power and is constructed so as to accurately position the glass substrate by combining coarse adjustment operation with the lower optical power and fine adjustment operation with the higher optical power.例文帳に追加

少なくとも２種類以上の光学倍率にてアライメントマークを撮像する撮像手段を備え、低光学倍率による粗調整動作と高光学倍率による微調整動作の組み合わせによって、ガラス基板の正確な位置決めを行う事をできるよう構成した。 - 特許庁

To provide a recording apparatus capable of recording without shift in a ruled mark or color shift, which reduces influences on detection accuracy and adjustment accuracy of an impact position and improves impact accuracy even when a disturbance is superimposed on a detection result of a registration adjustment pattern.例文帳に追加

レジスト調整パターンの検出結果に外乱が重畳された状態においても、検出精度ひいては着弾位置調整精度への影響を減少させ、着弾精度を向上し、罫線ずれや色味ずれのない記録が可能な記録装置を実現すること。 - 特許庁

In the recording condition adjusting method, the procedure is divided into a plurality of adjustment stages, wherein recording quality sequentially improves in accordance with the result of adjustment, which is checked in accordance with the lapse of time, and the adjustment of the recording condition is finished at a stage where the quality of recorded mark and space signals gets superior to the previously set quality level.例文帳に追加

記録条件調整方法では、調整の結果に応じて記録品質が順序を追って向上する複数の調整段階に切り分けられており、調整の結果を時間経過に対応して確認し、記録されたマーク、スペース信号の品質が予め設定された品質を超えた段階で、記録条件調整を終了させる。 - 特許庁

To provide technique by which recording mark length is adjusted and recorded at higher precision than in adjustment only by recording pulse width in optical disk recording.例文帳に追加

光ディスク記録において、記録パルス幅のみによる調整より高精度に記録マーク長を調整して記録することができる手法を提供する。 - 特許庁

After the substrate 2 arrives at the processing position, each imaging section 7 for fine adjustment images a second region of the substrate 2 including the alignment mark 3 and narrower than the first region at a second magnification higher than the first magnification.例文帳に追加

基板２が処理位置に到達した後、各微調用撮像部７によって、基板２のアライメントマーク３を含み、かつ第１領域よりも狭い第２領域を、第１倍率よりも高い第２倍率で撮像する。 - 特許庁

To provide a target mark member, having micromarks used for focus adjustment or measurement of the shape of the beam, in an electron beam processing system.例文帳に追加

電子ビーム処理装置において電子ビームの焦点調整又はビーム形状の測定に用いられる、微細なマークを有するターゲットマーク部材を提供する。 - 特許庁

The mask 10' is moved so that a mark 101 for lighting beam adjustment is positioned in a target lighting position of the lighting beam IB, and irradiation of the electron beam IB is performed to the mask 10'.例文帳に追加

照明ビームＩＢの目標照明位置に照明ビーム調整用マーク１０１が位置するようにマスク１０´を移動し、マスク１０´に電子線ＩＢを照射する。 - 特許庁

Next, the alignment mark (40) is optically read by using alignment light (Pa)(in other words, is detected), and thereby the alignment (i.e. position adjustment) of a photomask (200b) for blue and the mother substrate (10m) is performed.例文帳に追加

次に、アライメントマーク（４０）をアライメント光（Ｐａ）を用いて光学的に読み取る（言い換えれば、検出する）ことで、青用のフォトマスク（２００ｂ）とマザー基板（１０ｍ）とのアライメント（即ち、位置合わせ）を行う。 - 特許庁

An operator matches the split image S for a focus adjustment while observing the image on the television monitor 23, matches the alignment mark A with the pupil, and adjusts the operating distance based on the focus of a pupil image.例文帳に追加

テレビモニタ２３の映像を見ながらスプリット像Ｓを合わせてフォーカス調整を行い、アライメントマークＡに瞳孔を合わせ、瞳孔像のピントを基に作動距離合わせを行う。 - 特許庁

The optimum adjustment state of the plurality of recording edge positions is calculated on the assumption that the q types of recording edge positions and the q or more types of mark edge position errors have a linear relationship.例文帳に追加

このとき、上記ｑ種類の記録エッジ位置と上記ｑ種類以上のマークエッジ位置誤差との関係が線形であると仮定して、複数の記録エッジ位置の最適な調整状態を算出する。 - 特許庁

When the color image is detected (S104:YES), prior to the color image printing, a mark for image adjustment is formed, as necessary (S106).例文帳に追加

そして，カラー画像が検知されれば（Ｓ１０４：ＹＥＳ），そのカラー画像の印刷を行う前に，必要に応じて画調整のためのマークを形成する（Ｓ１０６）。 - 特許庁

The MFP 100 prepares a plurality of kinds of marks for image adjustment and selects a mark formable in the region 7E outside paper in executing the acquiring processing (S103).例文帳に追加

そして，ＭＦＰ１００は，画調整用のマークを複数種類用意し，取得処理を実行するに際し，用紙外領域７Ｅ内に形成可能なマークを選択する（Ｓ１０３）。 - 特許庁

To prevent deterioration of recording quality in an adjusting section by achieving walking write strategy which considers the influence of recording edge adjustment on the position of another mark edge.例文帳に追加

或る記録エッジの調整が他のマークエッジ位置に与える影響を考慮したウォーキングライトストラテジ調整を実現しつつ、調整区間での記録品質の悪化の防止が図られるようにする。 - 特許庁