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"Development Process"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 347件
To form an image with demanding a low energy in an image formation process but without removing a material and make a development process unnecessary after an infrared ray exposing process.例文帳に追加
画像形成工程において低エネルギーを要求し、材料を除去することなく、画像を形成し、かつIR線暴露工程後に現像処理が不要である、感熱性組成物を提供する。 - 特許庁
A dummy substrate used for alignment process for adjusting the exposure position of a pattern image in an oil immersion-compliant exposure unit are conveyed to a substrate processing apparatus, for performing a resist coating process and a development process before and after the exposure.例文帳に追加
液浸露光対応の露光ユニットにおいてパターン像の露光位置を調整するアライメント処理に使用するダミー基板を露光前後のレジスト塗布処理および現像処理を行う基板処理装置に搬送する。 - 特許庁
A development process sheet 81 time-sequentially displaying the developing process for the internal panel of an automobile of a project P300 is presented from a management computer through a communication network to the terminal of a user so as to be displayed.例文帳に追加
開発プロセスシート81は、プロジェクトP300の自動車のインパネ開発のプロセスを時系列に表示するものであり、管理コンピュータから通信ネットワークを介してユーザの端末に表示可能に提供される。 - 特許庁
In this case, the substrate 10 is located so that the one side with the pattern formed thereon is directed downward for example between the development process and the heating process, and the substrate 10 is heated while the one side is directed downward.例文帳に追加
このとき、たとえば、現像工程と、加熱工程との間にパターンが形成された一方の面が下側を向くように基板10を配置し、一方の面が下側を向いている状態で基板10を加熱する。 - 特許庁
A process of selecting printing heads corresponding to colors and a process of selecting whether or not printing is to be executed again by changing conditions after finishing printing are added to a printing data development process part.例文帳に追加
上記課題を解決するために、プリントデータ展開処理部には、色に対応したプリントヘッドを選択する処理及び印刷終了後に条件を変えて再度印刷を実行するか否かを選択する処理を付加する。 - 特許庁
To provide a processing method which controls film thickness by improving distortion of an emulsion layer which is caused by drying and shrinkage after the development process of a silver halide emulsion sheet for recording the tracks of charged elementary particles.例文帳に追加
荷電素粒子の飛跡を記録するためのハロゲン化銀乳剤シートにおける現像処理後の乾燥収縮によって生ずる乳剤層の歪みを改良し、膜厚をコントロールしうる処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of forming a photolithographic pattern using a negative tone development process particularly applicable in the manufacture of electronic devices, and coated substrates and electronic devices formed by the methods.例文帳に追加
電子デバイス製造に特別な適用可能性が見いだされるネガ現像プロセスを用いてフォトリソグラフィパターンを形成する方法の提供、及びこの方法によって形成されるコーティングされた基体および電子デバイスの提供。 - 特許庁
To provide a coloring composition for a color filter, which is high in heat resistance, light fastness, and exposure sensitivity in an exposure/development process, and is excellent in development solubility, and to provide a color filter and a display device using the coloring composition.例文帳に追加
耐熱性、耐光性が高く、露光・現像プロセス時の露光感度が高く現像溶解性に優れたカラーフィルター用着色組成物、それを用いたカラーフィルター及び表示装置を提供することである。 - 特許庁
To provide a device for managing deliverables in development for utilizing knowledge in a different task domain, and for classifying and organizing deliverables, and for managing them without increasing costs in a development process.例文帳に追加
開発プロセスの遂行に際して、コストの増大を招くことなく、異なる業務ドメインでの知識を活用して、開発成果物の分類および整理を行い、それらを維持管理できる開発成果物管理装置を提供する。 - 特許庁
To provide an image forming method by which an image can be formed without passing through a liquid development process after image exposure and by which a lithographic printing plate excellent in printing durability can be obtained, and to provide an image exposure apparatus suitable for the method.例文帳に追加
画像露光後に、液体現像処理工程を経ることなく画像形成で、且つ、耐刷性に優れた平版印刷版を得ることができる画像形成方法、および、それに適した画像露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide an imaging method which enables an image to be formed without passing through a liquid development process after image exposure and gives a lithographic printing plate with outstanding resistance to plate wear, and an image exposure device best-suited for this method.例文帳に追加
画像露光後に、液体現像処理工程を経ることなく画像形成でき、耐刷性に優れた平版印刷版を得ることができる画像形成方法、および、それに適した画像露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide a substrate processing method capable of forming an organic film pattern after an development process in the intended dimension and shape, even though the initial organic film pattern is damaged by an etching or exposed.例文帳に追加
当初の有機膜パターンがエッチングによるダメージや露光を受けていたりするような場合であっても、現像処理の後の有機膜パターンを所望の寸法・形状にすることが可能な基板処理方法を提供する。 - 特許庁
Does the Board of Directors revise the policy development process in a timely manner by reviewing its effectiveness based on reports and findings on the status of Finance Facilitation Management periodically or on an as needed basis? 例文帳に追加
取締役会は、定期的に又は必要に応じて随時、金融円滑化管理の状況に関する報告・調査結果等を踏まえ、方針策定のプロセスの有効性を検証し、適時に見直しているか。 - 金融庁
Does the Board of Directors revise the policy development process in a timely manner by reviewing its effectiveness based on reports and findings on the status of legal compliance in a regular and timely manner or on an as needed basis? 例文帳に追加
取締役会は、定期的に又は必要に応じて随時、法令等遵守の状況に関する報告・調査結果等を踏まえ、方針策定のプロセスの有効性を検証し、適時に見直しているか。 - 金融庁
Does the Board of Directors revise the policy development process in a timely manner by reviewing its effectiveness based on reports and findings on the status of Customer Protection Management in a regular and timely manner or on an as needed basis? 例文帳に追加
取締役会は、定期的に又は必要に応じて随時、顧客保護等管理の状況に関する報告・調査結果等を踏まえ、方針策定のプロセスの有効性を検証し、適時に見直しているか。 - 金融庁
Does the Board of Directors revise the policy development process in a timely manner by reviewing its effectiveness based on reports and findings of various investigations on the status of comprehensive risk management in a regular and timely manner or on an as needed basis? 例文帳に追加
取締役会は、定期的に又は必要に応じて随時、統合的リスク管理の状況に関する報告・調査結果等を踏まえ、方針策定のプロセスの有効性を検証し、適時に見直しているか。 - 金融庁
Does the Board of Directors revise the policy development process in a timely manner by reviewing its effectiveness based on reports and findings on the status of credit risk management in a regular and timely manner or on an as needed basis? 例文帳に追加
取締役会は、定期的に又は必要に応じて随時、信用リスク管理の状況に関する報告・調査結果等を踏まえ、方針策定のプロセスの有効性を検証し、適時に見直しているか。 - 金融庁
Does the Board of Directors revise the policy development process in a timely manner by reviewing its effectiveness based on reports and findings on the status of market risk management in a regular and timely manner or on an as needed basis? 例文帳に追加
取締役会は、定期的に又は必要に応じて随時、市場リスク管理の状況に関する報告・調査結果等を踏まえ、方針策定のプロセスの有効性を検証し、適時に見直しているか。 - 金融庁
Does the Board of Directors revise the policy development process in a timely manner by reviewing its effectiveness based on reports and findings on the status of liquidity risk management in a regular and timely manner or on an as needed basis? 例文帳に追加
取締役会は、定期的に又は必要に応じて随時、流動性リスク管理の状況に関する報告・調査結果等を踏まえ、方針策定のプロセスの有効性を検証し、適時に見直しているか。 - 金融庁
Does the Board of Directors revise the policy development process in a timely manner by reviewing its effectiveness based on reports and findings on the status of liquidity risk management in a regular and timely manner or on an as needed basis? 例文帳に追加
取締役会は、定期的に又は必要に応じて随時、流動性リスク管理の状況に関する報告・調査結果等を踏まえ、方針策定のプロセスの有効性を検証し、適時に見直しているか - 金融庁
Does the Board of Directors or equivalent organization to the Board of Directors revise the policy development process in a timely manner by reviewing its effectiveness based on reports and findings on the status of administrative risk management in a regular and timely manner or on an as needed basis? 例文帳に追加
取締役会は、定期的に又は必要に応じて随時、事務リスク管理の状況に関する報告・調査結果等を踏まえ、方針策定のプロセスの有効性を検証し、適時に見直しているか。 - 金融庁
Does the Board of Directors revise the policy development process in a timely manner by reviewing its effectiveness based on reports and findings on the status of information technology risk management in a regular and timely manner or on an as needed basis? 例文帳に追加
取締役会は、定期的に又は必要に応じて随時、システムリスク管理の状況に関する報告・調査結果等を踏まえ、方針策定のプロセスの有効性を検証し、適時に見直しているか。 - 金融庁
To provide a resist composition for supercritical development process which suppresses pattern deformation due to swelling and pattern collapse and can obtain a pattern having a high aspect ratio, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加
パターンの膨潤による変形及びパターン倒れを抑制するとともに、高アスペクト比のパターンを得ることのできる超臨界現像プロセス用レジスト組成物及び当該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a black-and-white silver halide photographic sensitive material which can be treated by color development process, showing good neutrality in black-and-white images and a good whiteness degree even in running treatment.例文帳に追加
カラー処理可能な白黒ハロゲン化銀写真感光材料であって、ランニング処理しても白黒画像のニュートラリティー性および白色度が良好なカラー処理可能な白黒用ハロゲン化銀写真感光材料を提供する。 - 特許庁
To provide an original plate for a lithographic printing plate which enables image recording by using infrared laser beam, has high print resistance and good stain resistance, and enables development process with alkali developer or on-press development.例文帳に追加
赤外レーザー光を用いて画像記録が可能であり、高耐刷かつ耐汚れ性良好であり、アルカリ現像液により現像処理が可能であるか、又は機上現像可能な平版印刷版原版を提供する。 - 特許庁
To provide a method for calculating spatial and temporal variations of a toner concentration in accordance with an advection diffusion equation in the case that a spatial distribution of developer mass density is not uniform in an electrophotographic development process with a two-component developer.例文帳に追加
電子写真における二成分現像プロセスにおいて、現像剤質量密度の空間分布が一様ではない場合に、トナー濃度の空間時間変化を移流拡散方程式で計算する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a registration system of software products capable of deciding the quality of the products designed as input/output of every job item constituting a development process impartially in term of scale on a design stage.例文帳に追加
開発プロセスを構成する作業項目毎の入出力として設計された成果物の品質を、設計段階で、規模的な観点から公平に判定することのできるソフトウェア成果物の登録システムを提供する。 - 特許庁
What concerns us recently is that, due to the lack of sufficient consideration to vulnerability to natural disasters during the development process, damages caused by natural disasters tend to be more serious in those countries which have made progress in development. 例文帳に追加
近年、自然災害予防を無視した開発が災害への脆弱性を生むことにより、ある程度開発の進んだ国々で自然災害による被害が増大する傾向が見られており、懸念されます。 - 財務省
The gas inspecting method includes an adhering step for making the gas-sensing material adhere to the surface of an inspection object; and a heat developing step in which the gas-sensing material is subjected to a heat development process.例文帳に追加
前記ガス検出用材料を被検査対象物表面に付着させる付着工程と、該ガス検出用材料を熱現像処理する熱現像工程とを含むことを特徴とするガス検査方法である。 - 特許庁
To provide an image forming method which enables an image to be formed without going through a liquid development process, after image exposure, and which enables a planographic printing plate excellent in print wear, and an image exposing apparatus suitable for the image forming method.例文帳に追加
画像露光後に、液体現像処理工程を経ることなく画像形成で、且つ、耐刷性に優れた平版印刷版を得ることができる画像形成方法、および、それに適した画像露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide an imaging method which can form an image without passing through a liquid development process after image exposure and can obtain a lithographic printing plate with outstanding resistance to plate wear, and an image exposure device best-suited for this method.例文帳に追加
画像露光後に、液体現像処理工程を経ることなく画像形成で、且つ、耐刷性に優れた平版印刷版を得ることができる画像形成方法、および、それに適した画像露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a stamper capable of simplifying a manufacturing process by mainly eliminating a development process, and a manufacturing method of an optical information recording medium using the stamper.例文帳に追加
本発明は、主に、現像工程を無くすことで製造工程を簡易化することができるスタンパの製造方法およびスタンパを用いた光情報記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide an imaging method which enables an image to be formed without passing through a liquid development process after image exposure and can give a lithographic printing plate with outstanding resistance to plate wear, and an image exposure device best-suited for this method.例文帳に追加
画像露光後に、液体現像処理工程を経ることなく画像形成でき、耐刷性に優れた平版印刷版を得ることができる画像形成方法、および、それに適した画像露光装置を提供する。 - 特許庁
When the process code of a preceding event is not recorded in an event management record in a schedule development process, a control part 21 of a due date management support server 20 computes the process due date based on the process scheduled day.例文帳に追加
そして、スケジュール展開処理において、イベント管理レコードに先行イベントの処理コードが記録されていない場合、期日管理支援サーバ20の制御部21は、処理予定日に基づいて処理期日を算出する。 - 特許庁
A development process (d) is carried out to a photosensitive paste layer 12 of a height of about 13 μm under a condition that exposure is repeated twice, a baking process (e) is finished after that, and a circuit pattern 20 is formed.例文帳に追加
露光を2回繰り返した状態にて、図1(d)において、高さ13μm程度の感光性ペーストの層12に対して現像工程を実施し、その後焼成工程を終え、配線パターン20を形成する。 - 特許庁
When a plot command for a character a font data of which is not prepared to a printer apparatus 2 is generated at a host apparatus 1, a font development process part 131A generates an abstract plot data corresponding to the character.例文帳に追加
フォント展開処理部131Aは、プリンタ装置2に書体データが装備されていない文字の描画指示がホスト装置1側に発生した場合に、当該文字に対応した抽象化描画データを生成する。 - 特許庁
The planar development nozzle, used in a resist development process of photomask manufacturing, comprises unit nozzles of development liquid arrayed in two dimensions on a plane on a photomask substrate side which is to be developed.例文帳に追加
フォトマスク作製におけるレジスト現像工程で使用する平面状の現像ノズルであって、現像液の単位ノズルが被現像物であるフォトマスク基板側の平面に2次元配列されている現像ノズルとする。 - 特許庁
Strategic efforts to create innovative medical technologies are already being taken in the United States and Europe, and infrastructure development to enable clinical research to be conducted quickly and safely at an earlier stage in the development process is underway.例文帳に追加
既に欧米においては、革新的医療技術の創出に戦略的な取り組みがなされており、開発段階のより早期の臨床研究が迅速かつ安全に行える基盤整備が進んでいる。 - 厚生労働省
To provide a photosensitive transfer material having excellent followability to a photosensitive resin layer to be transferred to an uneven shape of the surface to be transferred and permits uniform development even in one-time development process when forming a resin pattern.例文帳に追加
転写される感光性樹脂層の、被転写面の凹凸形状への追随性に優れ、樹脂パターンを形成する際、1回の現像工程でも均一性よく現像できる感光性転写材料を提供する。 - 特許庁
The method of developing the resist film by exposing the resist film formed on a substrate to a predetermined pattern and then performing a development using a developer includes a first development process of contacting a first developer with the resist film, and a second development process of contacting a second developer with the resist film, wherein the second developer has a lower concentration compared with the first developer.例文帳に追加
本発明は、基板上に形成されたレジスト膜を所定パターンに露光した後、現像液を用いて現像を行なうレジスト膜現像方法において、第1の現像液がレジスト膜に接する第1現像工程と、第2の現像液がレジスト膜に接する第2現像工程と、を備え、前記第2の現像液は、前記第1の現像液と比較して低濃度の現像液であることを特徴とするレジスト膜現像方法である。 - 特許庁
In the method for manufacturing the color filter, after a development process, a process for irradiating the whole surface of an image recording material with ultraviolet ray is provided before a peeling process, and the peeling of a positive type photoresist in the peeling process is performed by using an alkali aqueous solution.例文帳に追加
現像工程後であって剥離工程前に、画像記録材料の全面に紫外線を照射する工程を有すると共に、剥離工程におけるポジ型フォトレジストの剥離をアルカリ水溶液を用いて行なう。 - 特許庁
Further, the method includes a process 46 of reducing in-wafer variation in critical dimension by changing at least one parameter of a process module configured to execute a step of the lithography process, for example, a development process 36.例文帳に追加
本方法はまた、リソグラフィ・プロセスのステップを実行するように構成されたプロセス・モジュール、例えば現像工程36の少なくとも1つのパラメータを変更し、クリティカルディメンジョンのウェハ内変動を低減する工程46を含む。 - 特許庁
To provide a method of forming a resist pattern, capable of forming a fine resist pattern with good lithography characteristics by a negative development process using a developer containing an organic solvent, and a resist composition for negative development used in the method.例文帳に追加
有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像プロセスにより、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジストパターン形成方法、該方法に用いられるネガ型現像用レジスト組成物の提供。 - 特許庁
Work items ((1) preceding check) indicating works necessary for the development process, arrows indicating the work periods, and the indirect display of instructions as information accessory to works are recorded so as to be associated with each other.例文帳に追加
開発プロセスに必要な作業を示す作業項目((1)先行調査)、その作業期間を示す矢印、及び、作業付帯情報としての解説書についての間接的表示が、それぞれ関連付けられて記録されている。 - 特許庁
To provide an airbag device capable of easily realizing the desired development characteristic, easily suppressing the impact and the pressure of an airbag in the development process of the airbag to an adequate level, and preventing a space for a peripheral equipment from being compressed.例文帳に追加
所望の展開特性を容易に実現でき、エアバッグの展開過程におけるエアバッグの衝撃や圧力を適切な水準まで容易に抑制できると共に、周辺機器のためのスペースを圧迫しないエアバッグ装置を提供する。 - 特許庁
To provide a packaging progress measuring apparatus capable of calculating a percentage of completion less in error from a practical packaged state in order to manage the progress of packaging in a software development project adopting a repetitive development process.例文帳に追加
反復型の開発プロセスを採用しているソフトウェア開発プロジェクトにおいて、実装の進捗を管理するため、実際の実装状態からの誤差の小さい完成度を算出することのできる実装進捗計測装置を提供する。 - 特許庁
Does the Board of Directors or organization equivalent to the Board of Directors revise the development process of internal rules and organizational frameworks in a timely manner by reviewing its effectiveness based on reports and findings on the status of legal compliance in a regular and timely manner or on an as needed basis? 例文帳に追加
取締役会等は、定期的に又は必要に応じて随時、法令等遵守の状況に関する報告・調査結果等を踏まえ、内部規程・組織体制の整備プロセスの有効性を検証し、適時に見直しているか。 - 金融庁
Does the Board of Directors or equivalent organization to the Board of Directors revise the development process of internal rules and organizational frameworks in a timely manner by reviewing their effectiveness based on reports and findings on the status of capital management in a regular and timely manner or on an as needed basis? 例文帳に追加
取締役会等は、定期的に又は必要に応じて随時、自己資本管理の状況に関する報告・調査結果等を踏まえ、内部規程・組織体制の整備プロセスの有効性を検証し、適時に見直しているか。 - 金融庁
Does the Board of Directors or organization equivalent to the Board of Directors revise the development process of internal rules and organizational frameworks in a timely manner by reviewing their effectiveness based on reports and findings on the status of credit risk management in a regular and timely manner or on an as needed basis? 例文帳に追加
取締役会等は、定期的に又は必要に応じて随時、信用リスク管理の状況に関する報告・調査結果等を踏まえ、内部規程・組織体制の整備プロセスの有効性を検証し、適時に見直しているか。 - 金融庁
Does the Board of Directors or equivalent organization to the Board of Directors revise the development process of internal rules and organizational frameworks in a timely manner by reviewing their effectiveness based on reports and findings on the status of market risk management in a regular and timely manner or on an as needed basis? 例文帳に追加
取締役会等は、定期的に又は必要に応じて随時、市場リスク管理の状況に関する報告・調査結果等を踏まえ、内部規程・組織体制の整備プロセスの有効性を検証し、適時に見直しているか。 - 金融庁
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