「よどまりします」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

これらの手段により、レジスト型遮光膜マスクにおいても低コストで歩留まり良く、所望の短寸法精度でマスク製作が可能となった。例文帳に追加

By using the above mentioned means, the mask can be manufactured at low cost, in satisfactory yield and with desirable short dimensional precision even in the resist type light shielding film mask. - 特許庁

反射型露光用マスクブランクに形成された反射型露光用マスクを用いたＥＵＶＬにおいて、歩留まりを向上させる。例文帳に追加

To improve a yield in EUVL using a reflective exposure mask formed on a reflective exposure mask blank. - 特許庁

フォトマスクの製造歩留まりを向上し、検査コストを抑制することができるフォトマスク欠陥判定方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for determining a photomask defect for improving the production yield of photomasks and suppressing the cost of an inspection. - 特許庁

これにより、共通のマスクを使用して個々の素子の特性のばらつきを補正し、精度の高い素子を良好な歩留まりで作製することが可能になる。例文帳に追加

Thus, it becomes possible to correct dispersion of individual elements using a common mask and to manufacture highly accurate elements with a good yield. - 特許庁

ブロック単位でデータの読み出しを行う読み出し専用のマスクＲＯＭの不良品を救済して製造歩留まりを向上する。例文帳に追加

To increase manufacturing yields by saving defective mask ROMs used exclusively for reading data in block units. - 特許庁

マスク数を可及的に減らし、製造歩留まり及びＴＦＴの信頼性の低下が抑制されれた薄膜トランジスタ基板を提供する。例文帳に追加

To provide a thin film transistor substrate which restrains deterioration of manufacturing yield and reliability of a TFT by minimizing the number of masks. - 特許庁

製造時に必要なマスク数を減らして製造工程を簡略化し、製造歩留まりを向上させたマトリクスアレイ基板を提供する。例文帳に追加

To provide a matrix array substrate improved in a manufacturing yield by reducing the necessary number of masks required for manufacture and simplifying the manufacturing process. - 特許庁

高価な装置を必要とせず、製造歩留まりや品質が高く、製造が容易な多階調露光マスクを提供すること。例文帳に追加

To provide a multi-tone exposure mask, which is high in production yield or quality and easy to manufacture without needing an expensive device. - 特許庁

の商品化に成功すれば、今後ますますの超微細化が進み歩留りの低下が予想される半導体エッチング装置に革新をもたらすことが期待されている。例文帳に追加

There are hopes that successful commercialization of this equipment will bring about innovation to semiconductor etching equipment, for which a drop in the yield rate is expected as a result of a further advance of miniaturization. - 経済産業省

本装置の商品化に成功すれば、今後ますますの超微細化が進み歩留りの低下が予想される半導体エッチング装置に革新をもたらすことが期待されている。例文帳に追加

There are hopes that successful commercialization of this equipment will bring about innovation to semiconductor etching equipment, for which a drop in the yield rate is expected as a result of a further advance of miniaturization. - 経済産業省

バイオマスを使用することで、コークス性状に影響を与えずにコークス歩留まりを向上させる方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for improving the yield of a coke without affecting the performances by using a biomass. - 特許庁

バイオマスを使用することで、コークス性状に影響を与えずにコークス歩留まりを向上させる方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a method for improving the yield of a coke without affecting the performances by using a biomass. - 特許庁

製造歩留りを向上させることができる位相シフトマスク用ブランクスの製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a blank for a phase shift mask which is capable of improving the yield of production. - 特許庁

主マスクＭＭは必ずしも全ての分割マスクＭＤＭが欠陥のない分割マスクで構成される必要はなく、露光用マスクの実質的な製造歩留りを向上し、露光用マスクの作製時間の短縮を可能にして低コスト化が実現できる。例文帳に追加

In the main mask MM, it is not necessarily needed that all the split masks MDM are respectively constituted of a split mask having no defect, the substantial yield of the manufacture of the exposure mask is raised, a shortening of the forming time of the exposure mask is enabled and a reduction in the cost of the exposure mask can be realized. - 特許庁

マスク基板を移動する位置やビームを偏向する方位に誤差が生じても、製造歩留まりを向上し、スループットを向上するマスク描画方法及びマスク描画装置を提供する。例文帳に追加

To provide a mask drawing method and a mask drawing device which improves a production yield to improve a throughput even if an error occurs in a position which a mask substrate is moved to, or in a direction where a beam is deflected. - 特許庁

デュアルフォトマスクは、従来の技術の場合のような２つのマスクを使用することによるパターン転写の位置ずれの欠点をなくすことができ、更に、歩留りが向上し、ウエハ製造のコストを減少することを可能にする。例文帳に追加

By this photomask 10, a defect such as the positional deviation of pattern transfer occurring because two masks are used in the case of the conventional technique is eliminated, further yield is improved and the production cost of the wafer is reduced. - 特許庁

目視検査によらず自動的に高精度に検査して、検査性能の低下やバラツキをなくし、マスク製造の歩留りを向上することができる荷電粒子線露光用マスクの異物検査装置及びその検査方法を提供する。例文帳に追加

To provide a foreign substance inspection apparatus of a charged particle beam exposure mask for automatically and accurately inspecting the mask without a visual inspection, eliminating a degradation and a dispersion in an inspection performance, and improving a yield of a mask production, and its inspection method. - 特許庁

現下の貸金業者の経営環境に関しては、利息収入の減少や過払金返還請求の高止まりなどによって、厳しい状況にあるというふうに認識しております。例文帳に追加

I recognize that the current business environment for money lenders is severe, as interest income has declined and the number of requests for the refunding of (interest) overcharges remains high.  - 金融庁

保護層とレジストマスクの密着性を向上させ、レジストマスクの剥がれを抑制し、これにより安定した高歩留まりを得ることが可能なサーマルヘッドの製造方法及びサーマルヘッドを提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a thermal head which allows to improve the adhesion between a protective layer and a resist mask, to suppress the peeling of a resist mask, and to thereby obtain a stable high yield, and to provide a thermal head manufactured by using the method. - 特許庁

食料価格は、ピーク時よりは下落しつつあるものの、依然として高止まりを続けており、引き続き途上国の貧困層に多大な影響を与えることが予想されます。例文帳に追加

While having fallen back from their peaks, food prices are still hovering at a high level and are expected to continuously cause serious damages to the poor in developing countries.  - 財務省

ステンシルマスクのメンブレン形状の検査をシステム化して自動で行うため、ステンシルマスクの品質、信頼性が向上し、歩留り向上ができるステンシルマスクのメンブレン形状の検査方法及びステンシルマスクのメンブレン形状の検査装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an inspection method for the membrane shape of a stencil mask and an inspection apparatus for the membrane shape of a stencil mask, in which qualities and reliability of a stencil mask can be improved and the yield can be improved as inspection of the membrane shape of the stencil mask is systematically and automatically carried out. - 特許庁

歩留りや信頼性が低下するのを抑制することが可能となるフォトマスクおよびその製造方法ならびに該フォトマスクを用いた電子デバイスの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a photomask which can suppress the decrease in the yield or reliability, to provide its manufacturing method, and to provide a method for manufacturing an electronic device by using the photomask. - 特許庁

基板表面の欠点の検出限界と、ＥＵＶマスクブランクの欠点数に関する要求とのずれによる歩留りの低下を解消することができるマスクブランクの製造方法。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a reflection type mask blank that can eliminate a decrease in yield due to discrepancy between the detection limit of a defect on a substrate surface and a demand for the number of defects of an EUV mask blank. - 特許庁

既存の８マスク工程を６マスク工程に減らして製造費用を低減し、製造工程で発生する不良の確率を小さくして製品歩留りを向上させる。例文帳に追加

To reduce manufacturing costs by reducing conventional eight masking steps to six masking steps, and to improve a product yield by reducing the probability of a failure occurring in a manufacturing process. - 特許庁

スジムラの生じないシャドウマスクを、連続鋳造スラブから歩留まり良く製造することのできる、シャドウマスク用Ｆｅ−Ｎｉ合金素材の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing an Fe-Ni alloy stock for a shadow mask by which a shadow mask which has no generation of unevenness in stripes can be produced from a continuously cast slab at a high yield. - 特許庁

ウェハ露光装置のマスクステージにマスク基板をチャックすることによりマスク基板の平坦度が悪化することに起因する、製品歩留まりの低下の問題を解決するために有効なマスク基板の平坦度シミュレーションシステムを実現すること。例文帳に追加

To realize a flatness simulation system for a mask substrate effective for solving the problem of lowering in the yield of products due to degradation in the flatness of the mask substrate by chucking the mask substrate to a mask stage of a water exposing device. - 特許庁

設計データ又はマスクデータの補正方法および補正システム、設計データ又はマスクデータの検証方法および検証システム、半導体集積回路の歩留まり予測方法、デザインルールの改善方法、マスクの製造方法、並びに、半導体集積回路の製造方法例文帳に追加

CORRECTION METHOD AND CORRECTION SYSTEM FOR DESIGN DATA OR MASK DATA, VALIDATION METHOD AND VALIDATION SYSTEM FOR DESIGN DATA OR MASK DATA, YIELD ESTIMATION METHOD FOR SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, METHOD FOR IMPROVING DESIGN RULE, METHOD FOR PRODUCING MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT - 特許庁

本発明は、フォトマスク製造に際して所定処理後に加熱し、冷却するフォトマスク製造用加熱冷却方法および加熱冷却システムに関し、加熱冷却におけるマスク基板上の温度均一性の向上を図り、ひいては品質向上、歩留りの向上を図ることを目的とする。例文帳に追加

To improve temperature uniformity on a mask substrate in heating and cooling in relation to a heating and cooling method for manufacturing a photomask and a heating and cooling system, in which the mask substrate is heated and cooled after predetermined treatment in the manufacture of the photomask. - 特許庁

透明基板上に成膜された光学膜の欠陥発生（フォトマスクブランクの不良率）を抑制してフォトマスクブランクの製造歩留まりを高めること。例文帳に追加

To prevent the occurrence of defects in an optical film formed on a transparent substrate (a defective fraction of a photomask blank) and to improve the production yield of a photomask blank. - 特許庁

低コストで製造可能な検査装置を用いて、低メンテナンスコスト及び低検査コストで、マスクブランク用基板の内部欠陥（光学的不均一部分)を検出して、微細なパターニングに適応した基板、マスクブランク及び転写用マスクを高い歩留まりで製造する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a substrate adaptable to a fine patterning, a mask blank and a transfer mask at a high yield, by detecting an internal defect (an optically non-uniform part) of a substrate for a mask blank at low maintenance cost and at a low inspection cost using an inspection device manufactured at low cost. - 特許庁

マスクの合わせずれに起因する支柱の位置ずれを無くすことにより、共振周波数の変動を防止し、歩留まりの向上を図った電気機械素子及びその製造方法、さらに電気機械素子による共振器を提供する。例文帳に追加

To provide an electromechanical device which prevents a fluctuation in a resonance frequency and improves a yield by eliminating positional deviation of supports resulting from a deviation in adapting a mask, its manufacturing method and a resonator by the electromechanical device. - 特許庁

十分な膜強度を有するとともに、露光時の真空密着不良を解消することができ、結果として、シャドウマスクの生産歩留まり及び生産性を良好にし得るシヤドウマスク用ハードマスクを提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a hard mask for a shadow mask, having a sufficient film strength, capable of eliminating vacuum contact failure at the time of exposure, and resultantly capable of improving the production yield and productivity of a shadow mask. - 特許庁

誘電体膜およびマスクの側壁への導電性材料の堆積による信頼性および歩留りの低下が防止された誘電体素子の製造方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a dielectric element, prevented from the degradation of the reliability and yield, due to the deposition of conductive material onto a dielectric film and the sidewalls of a mask. - 特許庁

マスキングが不要で、歩留まりの悪化や大きな温度変化の繰り返しによる塗料やハードコート剤の割れや剥がれを防止すると共に、防水性の向上を図った車両用周辺視認装置を提供する。例文帳に追加

To provide a peripheral area visually acknowledging device for a vehicle capable of eliminating the use of masking, preventing deterioration of the yield and coatings and/or a hard coat material from cracking or exfoliating, and an enhancing waterproofness. - 特許庁

基板に製膜する際、マスク等に製膜された物質の脱落による基板の品質の低下および歩留まり低下を解消するための、基板表面の製膜装置およびその製膜装置を用いた製膜方法を提供する。例文帳に追加

To provide a film-forming apparatus for forming a film on a substrate surface, whick resolves lowering of the substrate quality and the yield resulting from exfoliation of a material formed on a mask or the like during film-forming on the substrate, and to provide a film-forming method using the film-forming device. - 特許庁

信号に応じた凹凸パターンを表面に有する磁気転写用マスター担体を用いた磁気転写により、良好な再生信号を得ることができる記録媒体を歩留まりよく作製する。例文帳に追加

To manufacture a recording medium which obtains a satisfactory reproducing signal with satisfactory yield, by performing magnetic transfer using a master carrier for magnetic transfer having a projecting and recessed pattern corresponding to the signal on the surface thereof. - 特許庁

欠陥冗長性を考慮したパターン分割を行うことによって、欠陥検査のスループット低下を招くことなく、しかもマスク歩留まりや転写パターンの寸法制御性等を従来よりも向上させる。例文帳に追加

To eliminate the reduction of the throughput of defect inspection, and further, obtain a more improved mask yield and the more improved dimension-controllability of a transcription-pattern, etc., than conventional ones, by performing the division of the pattern in consideration of its defect redundancy. - 特許庁

その中で先ほども申し上げましたように、過払い金返還請求の高止まり等の要因もあって、貸金業者の経営が全般的に苦しくなっているということはあろうかと思いますが、先ほど申し上げましたように貸金業者を通じた金融仲介というものができるだけ弊害が生じないような形での姿に近づくように努力していくということだと思います。例文帳に追加

As I said earlier, the management condition of money lenders may be generally becoming severe due to such factors as the continued high number of requests for the refunding of overcharges. However, as I said earlier, I think it is necessary to make efforts to shift financial intermediation by money lenders to such a state that harmful effects that it may generate would be minimized.  - 金融庁

中間配線層までの配線が行われているマスターウェーハを使用しても、最終製品の歩留りを高い精度で予測することができる半導体装置およびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device and a method of manufacturing the semiconductor device such that even when a master wafer having wired up to an intermediate wiring layer is used, a yield of final products can be predicted with high precision. - 特許庁

本発明は、細かい欠陥を高スループット、高信頼性で検査を行う手段を提供し、そのような装置でマスク検査を行う事によりデバイス製造の歩留りを向上させるデバイス製造方法を提供する事を目的とする。例文帳に追加

To provide a means of inspecting fine defects with high throughput and high reliability, and provide a device manufacturing method with an improved yield of device manufacturing by processing a mask inspection with such a device. - 特許庁

レジストを遮光体として用いるレジストマスクでは、他の装置等との接触により異物が発生し、パターン転写の欠陥となり、製造するデバイスの歩留まりが低下するという問題が生じる。例文帳に追加

To improve breakage rate of a device or a photomask itself during a manufacturing process by preventing a resist from contacting with other devices or the like and reducing generation of foreign matters. - 特許庁

アクティブマトリックス基板におけるコンタクトホール及び凹凸パターンの形成方法のフォトリソ工程を１回とし、マスク増、工程増、材料増によるコスト増、ダストによる歩留まりロス等の低減を図る。例文帳に追加

To reduce the increase of costs caused by the increase of masks, the increase of stages and the increase of materials and to reduce yield loss caused by dust and the like by attaining the formation of a contact hole and rugged pattern in an active matrix substrate in one photolithographic stage. - 特許庁

粘着層とマスクの粘着に伴う印刷不良を抑制し、しかも、部品実装の歩留まり低下や電子部品の損傷を防ぐことのできる電子部品保持具及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an electronic component holder which can suppress a printing defect due to adhesion of an adhesion layer and a mask and also prevent a decrease in yield of component mounting and damage to an electronic component, and a manufacturing method thereof. - 特許庁

拡散マスクを使用せず、工程数を最小限に低減することにより歩留りを高め、製造コストを最小化するツェナーダイオード及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a Zener diode and a method for manufacturing the same capable of increasing the yield and minimizing the production cost by not using a diffusion mask and minimizing the number of processes. - 特許庁

感度、解像度、密着性に優れ、サンドブラスト用のマスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まりよく加工できる感光性樹脂積層体、及びそれを用いたサンドブラスト表面加工方法を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin laminate which excels in sensitivity, resolution and adhesion and makes it possible to form fine patterns on a substrate to be processed in a good yield as a mask material for sandblasting, and to provide a surface sandblasting method using the same. - 特許庁