「レーザ系」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

レーザ装置１０において、固体レーザ発振器１１から出力されたレーザ光は、入射光学系１２の折り返しミラー１３および集光レンズ１４を介して光ファイバ１５の入射端面に集光される。例文帳に追加

In the laser device 10, laser rays outputted from a solid laser oscillator 11 are converged on the incident face of an optical fiber 15 through a returning mirror 13 and a condenser 14. - 特許庁

レーザ源からのＹＡＧレーザ光１６は、光ファイバ４を経てレンズ集光光学系８に導かれ、ステンレス鋼薄板５に照射され、レーザ溶接が行われる。例文帳に追加

A YAG laser beam 16 emitted from a laser beam source is led to the lens condensing optical system 8 via an optical fiber 4, a thin stainless steel plate 5 is irradiated with the laser beam and a laser beam welding is performed. - 特許庁

光回路等の導波系に最小限の調整だけでレーザビームを効率良く入射させ、かつ半導体レーザバーを効率的に冷却可能なレーザ集光機用保持具を提供する。例文帳に追加

To provide a holder for a laser light collector which can highly efficiently make a laser beam incident on a waveguide system of an optical circuit, etc., only through irreducible adjustments and efficiently cool a semiconductor laser bar. - 特許庁

レーザ発振器を本体に備え、かつパンチング加工時の振動がレーザ発振器、ビーム伝送用光学系に及ばないレーザ・パンチ複合加工機の提供。例文帳に追加

To provide a laser-punch complex processing machine equipped with a laser oscillator in its main body for preventing the laser oscillator and a laser transmission optical system from being affected by oscillation at the time of punching. - 特許庁

レーザ発生装置から出射したレーザ光を加工の影響なく同じものとして加工位置まで分岐導入すると共にレーザ発生装置の交換に伴う光学系の調整を容易に行なえるようにする。例文帳に追加

To allow laser beam irradiated from a laser generation device to be branched and introduced to a machining position as the same thing without influence of machining and to easily carry out adjustment of an optical system caused by the replacement of the laser generation device. - 特許庁

レーザヘッド40とレーザ光学系ケース40ａは回転駆動機構と上下動駆動機構によって回転または上下動されて溶接部49に位置決めされ、レーザ光を溶接部49に照射する。例文帳に追加

The laser head 40 and the laser optical system case 40a are rotated or moved up and down by a rotational drive mechanism and a vertical drive mechanism, positioned in the welding part 49 and a laser light is cast on the welding part 49. - 特許庁

単位面積当たり加工に寄与できるレーザパルスのエネルギーが限られていても、レーザ発振器の効力を十分に活用できる光学系及びレーザ加工装置を提供できる。例文帳に追加

To provide an optical system and a laser beam machining apparatus that can make full use of effect of a laser oscillator, even if energy of a laser pulse contributing to machining per unit area, is limited. - 特許庁

レーザ光吸収性よりもレーザ光反射性が勝る白色系の第２の樹脂材２の表面２１に対しパルスレーザ光Ｒｐを照射して焦げ部分を吸収部２２として形成する（吸収部形成工程ＰＡ１）。例文帳に追加

A burned part is formed as an absorbing part 22 by irradiating a surface 21 of a second white resin material 2 in which laser beam reflecting property wins laser beam absorbing property (an absorbing part forming step PA1) with a pulse laser beam Rp. - 特許庁

レーザ発振機１からエキシマレーザ光が光学系２を介し照射されるプロセスチャンバ３と、このプロセスチャンバ３内の絶縁性基板５にエキシマレーザ光を導くウインド４とを備える。例文帳に追加

A process chamber 3 to which an excimer laser light is projected from a laser oscillator 1 through an optical system 2, and a window 4 for guiding the excimer laser light to an insulating substrate 5 in the process chamber 3, are provided. - 特許庁

レーザ走査光学系２は赤外線レーザ発振器１からのレーザビームを目標板８上に垂直方向が長手方向となるような矩形ビームの形にして照射するとともに、水平方向に繰返し走査されている。例文帳に追加

A laser scanning optical system 2 is allowed to irradiate a target plate in a shape of rectangular beam wherein a vertical direction becomes a longitudinal direction and repeatedly scanned in a horizontal direction. - 特許庁

軸Ｘ沿いにレーザ光源１１０から随時出射されるパルス状レーザビーム光ＬＢ１をレーザ光走査機構１２０に設けた光学系（１２３，１２５，１２７）によって経路ＳＰと交差する方向に転向させる。例文帳に追加

Laser beam in pulses LB1 emitted as needed from a laser beam source 110 along the axis X is redirected in a direction intersecting with the scan path SP by means of optical systems (123, 125, 127) provided in a laser beam scanning mechanism 120. - 特許庁

固体レーザ媒質３のレーザ光入射面位置は、集光光学系６，７によるレーザ光の集光位置から光軸方向に沿ってずれている。例文帳に追加

Position of the laser light incident plane of a solid state laser medium 3 is shifted from the laser light condensing position of condensing optical systems 6 and 7 in the direction of optical axis. - 特許庁

ビームエキスパンダー光学系を介して被照射物にレーザー光の照射を行う場合に、被照射物へのレーザー光の照射位置の誤差を低減するレーザー光照射装置およびレーザー光の照射方法の提供を目的とする。例文帳に追加

To provide a laser light irradiation apparatus and method which can reduce errors in the irradiation position of laser light on an object to be irradiated with laser light, when irradiating laser light on the object to be irradiated with laser light via a beam expander optical system. - 特許庁

円形ビームを発振するレーザー発振器と、発振されたレーザービームを拡大するビームエキスパンダーと、拡大された円形ビームを矩形に整形する矩形マスクと、矩形にしたレーザービームを縮小する光学系とから成るレーザー露光装置。例文帳に追加

The laser exposure device consists of a laser oscillator which oscillates a circular beam, a beam expander which expands the oscillated laser beam, a rectangular mask which shapes the expanded circular beam to a rectangular shape and an optical system which reduces the laser beam shaped to the rectangular shape. - 特許庁

レーザースリット装置は、シート４０を走行Ｔさせるための手段、レーザー発振器１０、レーザービームＢを所定の断面矩形形状に整形するためのビーム整形手段２０、レーザービームＤをシートに照射させるための光学系３０から構成される。例文帳に追加

A laser beam slit device comprises a means to travel T a sheet 40, a laser beam oscillator 10, a laser beam shaping means 20 to shape the laser beam into a shape of the specified rectangular section, and an optical system 30 to irradiate the laser beam D on the sheet. - 特許庁

青色波長用の半導体レーザと、赤色／赤外波長用の半導体レーザの２つの半導体レーザを用いる光ピックアップ装置において、簡単な構成にて円滑に、赤外波長のレーザ光を対物レンズに対して有限系にて入射させ得る光ピックアップ装置を提供する。例文帳に追加

To provide an optical pickup device using two semiconductor lasers of a semiconductor laser for a blue wavelength and a semiconductor laser for a red/IR wavelength, which has simple constitution and enables a laser beam having an IR wavelength to be smoothly made incident on an objective lens in a finite system. - 特許庁

半導体レーザー１から射出されたレーザー光２を光ファイバー４へ入射させる構成において、レーザー光２を集光させる光学系３内に配置された１／２波長板５を回転させる事により、レーザー光２の偏光方向を調整する構成とする。例文帳に追加

In the structure in which the laser beam 2 emitted from a semiconductor laser 1 is made incident on an optical fiber 4, the polarizing direction of the laser beam 2 is adjusted by rotating a 1/2 wavelength plate 5 that is arranged in an optical system 3 for converging the laser beam 2. - 特許庁

本レーザー加工用積層体は、エチレン系共重合体を含む重合体組成物を架橋してなるレーザー加工用重合体層と、レーザー加工用重合体層の一面に積層された基材層を備え、レーザー加工用重合体層と基材層とを界面剥離することができる。例文帳に追加

The laminate for laser processing is provided with a polymer layer for laser processing composed by crosslinking a polymer composition containing an ethylene copolymer, and a base layer laminated on one face of the polymer layer for laser processing, wherein the polymer layer and the base layer can be peeled on an interface. - 特許庁

ブロードエリア型の半導体レーザから出射されるレーザ光を光学系により微小スポット光に集束する構成において、大形化することなく半導体レーザからのレーザ光を確実に微小スポット光に集束できるようにする。例文帳に追加

To surely converge the laser light from a semiconductor laser into fine spot light without making large-size the constitution which converges the laser light emitted by a broad-area type semiconductor laser into fine spot light by an optical system. - 特許庁

光学系は、第１のレーザビームを透過し、第２のレーザビームを反射する偏光ビームスプリッタを含んでおり、偏光ビームスプリッタを透過した第１のレーザビーム及び偏光ビームスプリッタで反射された第２のレーザビームは集光器により半導体ウエーハ上に集光される。例文帳に追加

The optical system includes a polarizing beam splitter passing the first laser beam and reflecting the second laser beam, and the first laser beam passed through the polarizing beam splitter and the second laser beam reflected by the polarizing beam splitter are condensed onto a semiconductor wafer by the condenser. - 特許庁

半導体レーザ素子と、光ファイバと、半導体レーザ素子から出射されたレーザビームを集光し光ファイバの入射端面に集光させる集光光学系とを備えてなるレーザモジュールを長期信頼性のあるものとすると共に安価に構成する。例文帳に追加

To provide a laser module with long term reliability and constitute it inexpensively, the laser module provided with a semiconductor laser element, an optical fiber, and a condensing optical system for condensing the laser beam emitted from the semiconductor laser element on the incident end face of the optical fiber. - 特許庁

シリコンを含むウエハ１をレーザー２により加工するウエハ加工方法において、ウエハ１にレーザー２を照射して加工するレーザー加工工程と、フッ素系ガスを含む大気圧プラズマ５をレーザー２による加工部位に照射するプラズマ照射工程とを有している。例文帳に追加

The wafer machining method for machining a wafer 1 containing silicon by laser beams 2 comprises a laser beam machining step of machining the wafer 1 by applying the laser beams 2 to the wafer, and a plasma applying step of applying atmospheric plasma 5 containing fluorine-based gas to a part to be machined by the laser beams 2. - 特許庁

本発明の液晶表示装置の製造装置は、レーザと、このレーザからのレーザ光を集光する集光レンズ系と、集光されたレーザ光を液晶表示装置の所定の一表示画素に走査して照射する手段とを含むことを特徴とする。例文帳に追加

The manufacturing device for a liquid crystal display device contains a laser, a condenser lens system to condense the laser beam from the laser, and a means to scan and illuminate a specified display pixel of the liquid crystal display device with the condensed laser beam. - 特許庁

この半導体レーザ装置は、窒化物系化合物半導体からなる半導体レーザチップ１００と、半導体レーザチップ１００がマウントされるヒートシンク２００と、半導体レーザチップ１００を支持するステム３００とを備えている。例文帳に追加

This semiconductor laser device includes: a semiconductor laser chip 100 made of a nitride-based compound semiconductor; a heat sink 200 on which the semiconductor laser chip 100 is mounted; and a stem 300 which supports the semiconductor laser chip 100. - 特許庁

レーザ素子の温度変化によりレーザ光の波長が変動した場合にも、回折素子とレーザ素子との距離にかかわらず、レーザ光の回折角度が変動するのを抑制することが可能な光学系、光学装置、光ピックアップおよび光ディスク装置を提供する。例文帳に追加

To provide an optical system capable of suppressing variation of a diffraction angle of a laser beam regardless of the distance between a diffraction element and a laser element even when the wavelength of the laser beam is varied by temperature change of the laser element, to provide an optical apparatus, an optical pickup and an optical disk device. - 特許庁

光学系は、複数のレーザ光源から出射されるレーザ光の光路上にそれぞれ配置され、それぞれのレーザ光を同一の光路に向けて反射するダイクロイックミラー１０７〜１０９と、レーザ光の強度を検出するための検出器１１０とを含む。例文帳に追加

The optical systems are respectively arranged on the optical paths of the laser beams emitted from a plurality of laser beam sources, and include dichroic mirrors 107 to 109 reflecting the respective laser beams toward the same optical path and detectors 110 for detecting the intensity of the laser beam. - 特許庁

光学系の取りつけ位置が変化して各レーザビームの光軸がずれても、再度も各色のレーザビームの露光開始タイミングを調整することなく各レーザビームの露光開始位置を一致させることができるレーザ露光装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a laser exposure device which matches the exposure start positions of laser beams of respective colors with one another without the need to adjust the exposure start timing of the laser beams of the respective colors again even if an optical system shifts in fitting position and the optical axes of the respective laser beams shift. - 特許庁

モード同期レーザ装置１１と、このモード同期レーザ装置１１から出力されるレーザ光を波長変換する波長変換部１２と、分散光学系を用いてパルスレーザ光のパルス幅を伸長させるパルス幅伸長部１３とを有する構成とする。例文帳に追加

The pulse laser beam generating device comprises a mode-synchronous laser device 11, a wavelength conversion unit 12 for converting the laser beam outputted from the mode-synchronous laser device 11, and a pulse width expansion unit 13 for expanding the pulse width of the pulse laser beam using the dispersion optical system. - 特許庁

青色レーザー(DB)と、赤色レーザー(DR)と、赤外レーザー(DIR)から成る複数波長光源を有する光ピックアップ装置において、波面変換素子(WC)は、複数波長光源から射出され、コリメータ光学系(CL)を通過した赤色，赤外レーザー光(LR,LIR)の波面形状を変換する。例文帳に追加

In the optical pickup device provided with a plurality of wavelength light sources constituted of a blue layer DB, a red laser DR and an infrared layer DIR, a wave surface conversion element WC converts the wave surface shapes of red and infrared laser beams LR and LIR emitted from the plurality of wavelength light sources and passed through a collimator optical system CL. - 特許庁

被照射体が設置された移動可能な第１のステージと、少なくとも２台以上のレーザ光を射出するレーザ発振器と、前記レーザ発振器と光学系が設置された移動可能な複数の第２のステージと、レーザ光の照射位置を検出する手段とを有する。例文帳に追加

The laser irradiation apparatus has a first movable stage on having an irradiation object placed thereon; at least two or more laser oscillators emitting laser beams; a plurality of second movable stages having the laser oscillators and optical systems provided thereon; and a means for detecting an irradiation position of each of laser beams. - 特許庁

筒状筐体とレーザー光源とレーザービームを生成する光学系とを備えたレーザービームポインターにおいて、レーザービームの輝点の移動を検出する移動検出手段１４と、輝点の投影を制御する制御手段１５とを備えた。例文帳に追加

In the laser beam pointer equipped with a tubular housing, a laser light source and an optical system for forming a laser beam, the pointer is also provided with a movement detecting means 14 for detecting the movement of a bright spot of the laser beam and a control means 15 for controlling the projection of the bright spot. - 特許庁

レーザ検知器１の評価装置２ｂにおいて、透過型ＬＣＤ２１の任意の画素２０１からパルスレーザ光３を透過させ、このパルスレーザ光３をレンズ２３により集光することにより、レーザ検知器１の光学系１０に対する入射角度を変更する。例文帳に追加

In the evaluating equipment 2b for laser detectors 1, pulse laser light 3 from any pixel 201 of a transmission LCD 21 is allowed to pass through the equipment, and the pulse laser light 3 is gathered using a lens 23, the incident angle of a laser detector 1 with an optical system 10 being thereby varied. - 特許庁

レーダ装置１は、レーダ波となるパルスレーザ光を照射する光源２と、レーザ光を検出する光検出器３と、光源２から照射されたレーザ光を走査する走査部５と、入射したレーザ光を光検出器３へ導く受光光学系６とを備える。例文帳に追加

A radar apparatus 1 comprises: a light source 2 for radiating a pulse laser beam to be a radar wave; a photodetector 3 for detecting the laser beam; a scanning part 5 for scanning the laser beam radiated from the light source 2; and a light-receiving optical system 6 for guiding the incoming laser beam to the photodetector 3. - 特許庁

複数の走査光学系を使用した場合においても、第２のレーザ光が第１の走査光学系の光検出系に進入することを防ぎ、第１の走査光学系のレーザ光により励起された蛍光を効率良く検出することが可能な走査型レーザ顕微鏡を提供する。例文帳に追加

To provide a laser scanning microscope capable of efficiently detecting fluorescence generated by excitation with a laser beam from a first scanning optical system with preventing entry of a second laser beam into the first scanning optical system even when a plurality of scanning optical system are used. - 特許庁

複数の走査光学系を使用した場合においても、第２のレーザ光が第１の走査光学系の光検出系に進入することを防ぎ、第１の走査光学系のレーザ光により励起された蛍光を効率良く検出することが可能な走査型レーザ顕微鏡を提供する。例文帳に追加

To provide a scanning laser microscope which prevents second laser light from impinging on a light detection system of a first scanning optical system to efficiently detect fluorescence excited by the laser light of the first scanning optical system in the case a plurality of scanning optical systems are used. - 特許庁

円形のレーザビーム１ａを出射するレーザ光源１２と、レーザビームを直線状に変形するレンズ系１４と、レーザビーム１ｂの強度分布の均質化するホモジナイザ１６と、ホモジナイザとレンズ系の間に設けられレーザビームの干渉作用を低減する干渉低減装置２０とを備える。例文帳に追加

The laser irradiation apparatus is provided with the laser beam source 12 for emitting the laser beam 1a of the circular shape, a lens system 14 for deforming the laser beam to the rectilinear shape, a homogeneizer 16 for homogeneizing the intensity distribution of the laser beam 1b, and an interference reducer 20 disposed between the homogeneizer and the lens system to reduce the interference effect of the laser beam. - 特許庁

光源装置６は、レーザ光を所定の光軸上に出力するレーザ光源２５と、レーザ光源２５を保持する保持部材４２と、所定の光軸Ｌ上に位置し、レーザ光を受光して、その受光したレーザ光を所定の対象に導く光学系素子２６と、光学系素子２６を収容する本体フレーム３５とを含む。例文帳に追加

The light source device 6 includes a laser light source 25 which outputs laser light onto a prescribed optical axis, a holding member 42 which holds the laser light source 25, an optical system element 26 which is positioned on the prescribed optical axis, and receives the laser light and guides the received laser light to a prescribed object, and a body frame 35 housing the optical system element 26. - 特許庁

半導体レーザ１０１、１０２から出射されたＨＤ用レーザ光とＤＶＤ用レーザ光はコリメートレンズ１０６によって平行光とされて（無限共役系）対物レンズ１１１に入射され、半導体レーザ１０３から出射されたＣＤ用レーザ光は拡散状態（有限共役系）のまま対物レンズ１１１に入射される。例文帳に追加

A laser beam for HD and a laser beam for DVD emitted from semiconductor lasers 101 and 102 converted into parallel beams (an infinite conjugated system) by a collimator lens 106 and made incident in the objective lens 111 and a laser beam for CD emitted from a semiconductor laser 103 is made incident in the objective lens 111 in a diffusion state (a finite conjugated system). - 特許庁

レーザ光の強度分布を任意の強度分布に整形することと、レーザ光の波面を制御することとを両立するレーザ光整形及び波面制御用光学系において、レーザ光を拡大又は縮小するために光学レンズの加工時間が増加することを抑制するレーザ光整形及び波面制御用光学系を提供する。例文帳に追加

To provide an optical system for laser beam shaping and wavefront control that performs both shaping of the intensity distribution of laser beams into optional intensity distribution and control of wavefronts of the laser beams, and that suppresses increase in time for processing an optical lens for enlarging or reducing the laser beams. - 特許庁

レーザカラー顕微鏡）１００は、レーザ光光学系（第１光学系）１と白色光光学系（第２光学系）２とを含み、これらは共通の対物レンズ１７を有する。例文帳に追加

A laser color microscope 100 includes a laser light optical system (a first optical system) 1 and a white light optical system (a second optical system) 2, and the optical systems have a common objective lens 17. - 特許庁

基材上に少なくとも粘着剤層を有しており、かつ屈折率比が１以上であるレーザー加工用保護シートを使用し、前記有機系被加工物のレーザー光入射面側に該レーザー加工用保護シートの粘着剤層を貼付する工程、レーザー光を照射してレーザー加工用保護シート及び有機系被加工物を加工する工程、レーザー加工用保護シートを加工後の有機系被加工物から剥離する工程を含むレーザー加工品の製造方法。例文帳に追加

The method includes a step of bonding the adhesive agent layer for the laser processing protection sheet to the laser beam incident surface side of the organic article to be processed, a step of processing the laser processing protection sheet and the organic article to be processed by irradiating the same with a laser beam, and a step of separating the laser processing protection sheet from the organic article to be processed after the processing. - 特許庁

この窒化物系半導体レーザ装置素子２０は、光出射面５ａに形成されたＡｌＮからなる誘電体層５ｂを有する窒化物系半導体レーザ素子５と、窒化物系半導体レーザ素子５が気密封止されるパッケージ部１とを備えている。例文帳に追加

Nitride semiconductor laser equipment 20 is provided with: the nitride semiconductor laser element 5 having the dielectric layer 5b formed of AlN which is made on a light emitting face 5a; and a package 1 where the nitride semiconductor laser element 5 is hermetically sealed. - 特許庁

この窒化物系半導体レーザ装置素子２０は、光出射面５ａに形成されたＳｉＯ_２からなる誘電体層５ｂを有する窒化物系半導体レーザ素子５と、窒化物系半導体レーザ素子５が気密封止されるパッケージ部１とを備えている。例文帳に追加

Nitride semiconductor laser equipment 20 is provided with: a nitride semiconductor laser element 5 having the dielectric layer 5b formed of SiO_2, which is made on a light emitting face 5a; and a package 1 where the nitride semiconductor laser element 5 is hermetically sealed. - 特許庁

加工ガス１０の流路に発半導体レーザー１および光学系５を配置し、半導体レーザー１および周辺光学系５の防湿、防塵効果を持たせると共に、半導体レーザー１および周辺光学系５を空冷する構造とする。例文帳に追加

A semiconductor laser 1 and an optical system 5 are disposed in a flow passage of process gas 10 to realize the moisture-proof and dust-proof effects of the semiconductor laser 1 and the peripheral optical system 5, and the semiconductor 1 and the peripheral optical system 5 are air-cooled. - 特許庁

励起ユニット１０は、励起光を放射する半導体レーザ１１と、励起光を集光する集光光学系１５と、半導体レーザ１１を保持する半導体レーザホルダ１２と、集光光学系１５を保持する光学系ホルダ１６などで構成される。例文帳に追加

The exciting unit 10 is constituted by a semiconductor laser 11 for emitting excited lights, a condensing optical system 15 for condensing the excited lights, a semiconductor laser holder 12 for holding the semiconductor laser 11, an optical system holder 16 for holding the condensing optical system 15, and the like. - 特許庁