「主要面」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

溝付き基板１２と蓋１４との一体物１７の外面の主要な稜線部１７ａに面取り１８を施す。例文帳に追加

Filleting 18 is applied to main edge parts 17a of the outer surface of a united body 17 of the substrate 12 with grooves and the cover 14. - 特許庁

二つの主要な側部と二つの副次的な側部とを有する頂面と、底面と、ほぼ長方形な周囲縁部とを具備する。例文帳に追加

A top face having two main side parts and two secondary side parts, a bottom face and a substantially rectangular circumferential edge part are provided. - 特許庁

これにより，映像の主要部がドームスクリーン上で，操作者から見て背面に来るか正面に来るかを容易に選択できる。例文帳に追加

Consequently, an operator can easily makes a choice of whether the main part of the video is in the rear or front on the dome screen when viewed from the operator. - 特許庁

このような構成において、前記属性情報生成部は、前記属性情報として各領域の表示面積または表示面積の比率を用い、前記主要領域選出部は、当該表示面積または表示面積の比率が大きい領域を主要領域として選出することも好ましい。例文帳に追加

Preferably, the attribute information generating part uses a display area or display area ratio of each domain as the attribute information, and the major domain selecting part selects a domain with the greater display area or display area ratio as the major domain. - 特許庁

第１プリズム４１の射出面５３には、迷光防止手段として、主要光線が通る光学有効面５３ａの周囲と段差部５８との間の主要光線が通らない部位に、滑らかに連続する曲面を含む拡張面５７が形成されている。例文帳に追加

An extension face 57 including a smoothly continuous curved surface is formed as a stray light preventing means at an emission face 53 of the first prism 41 around an optical effective face 53a where principal light beams pass and at a part where the principal light beams do not pass a level difference section 58. - 特許庁

半導体装置の製造方法は、テンプレート２に形成された主要パターン部２０と被加工膜４上に配置されたレジスト材５とを接触させる工程と、主要パターン部２０とレジスト材５との接触状態において、被加工膜４の表面と主要パターン部２０の被加工膜４に対向する表面との距離が所望の距離となるように距離を調整する工程と、を含む。例文帳に追加

The method includes: a step of bringing a main pattern part 20 formed on a template 2 into contact with a resist material 5 arranged on a film 4 to be processed; and a step of adjusting a distance so that the distance between a surface of the film 4 and the surface opposed to the film 4 of the main pattern part 20 becomes a predetermined distance while the main pattern part 20 is brought into contact with the resist material 5. - 特許庁

撮影画面内の各領域のピント状態（ベストピント、前ピン、後ピン又はボケ等）を検出して主要被写体領域をベストピントの領域に移動させることにより、撮影画面内において主要被写体が移動した場合に、主要被写体に継続して合焦させることができるオートフォーカス装置を提供する。例文帳に追加

To provide an automatic focusing device capable of continuously focusing a principal subject when the principal subject is moved within a photographic image plane by detecting the focused state (e.g., best focus, front pin, back pin, or blur) of each area of the photographic image plane, and shifting the principal subject area to the best focused area. - 特許庁

この変換ループ変調器は、変調の仕組みがGMSKであるGSM規格の主要な側面の一つを利用している。例文帳に追加

The translation loop modulator takes advantage of one key aspect of the GSM standard: the modulation scheme is Gaussian-filtered minimum-shift keying (GMSK).  - コンピューター用語辞典

一部の内臓の内面を覆い、ムチン（粘液の主要な成分）を生産する細胞から発生するがんの一種。例文帳に追加

a type of cancer that begins in cells that line certain internal organs and produce mucin (the main component of mucus).  - PDQ®がん用語辞書 英語版

この湖は，全面積が25,300 km2，全容積が470 km3，湖長が386 km，平均湖幅が17 kmあり，三つの主要な水域に明確に分けられる。例文帳に追加

The lake has a total area of 25,300 km2, total volume of 470 km3, length of 386 km, mean width of 17 km, and is divided into three major, distinct subbasins. - 英語論文検索例文集

一　発生器室の床面積、壁、屋根、天井、出入口の戸及び排気筒の構造、材質及び主要寸法並びに収容する装置の数例文帳に追加

(i) Floor area, structure, material and main dimensions of wall, roof, ceiling, door of entrances and exits of the generator room and exhaust pipe, and number of welding equipment installed in the generator room  - 日本法令外国語訳データベースシステム

これは、通常の禅宗寺院が原則として南を正面とし、南北に主要建物を並べるのとは異なっている。例文帳に追加

The layout of Tenryu-ji Temple is contrary to the general layout of Zen temple grounds that face south with major buildings aligned along the north-south axis.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

鞍馬寺西門（貴船口）は貴船川に面しているが、鞍馬寺の主要な諸堂までの参道は山道となっており、ハイキングの用意が必要である。例文帳に追加

Kurama-dera Temple's Nishimon (western gate) (Kibuneguchi) faces the Kifune-gawa River but the mountain path to the temple's main halls means that visitors must be prepared to hike.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

要約に記載され，かつ，出願の図面に示されている主要な各技術的特徴には，括弧付きの参照符号を付すことができる。例文帳に追加

Each main technical feature mentioned in the abstract and illustrated by a drawing in the application may be followed by a reference character placed between parentheses.  - 特許庁

要約に記載され，かつ，明細書の図面に図示されている主要な技術的特徴の各々には，括弧に入れた参照記号を付さなければならない。例文帳に追加

Each main technical feature mentioned in the abstract and illustrated by a drawing in the specification must be followed by a reference sign placed between parentheses.  - 特許庁

要約書に記載され、かつ出願書類の図面に図示されている主要な技術的特徴は、それぞれに、括弧付きで参照符号を付する。例文帳に追加

Each main technical feature mentioned in the abstract and illustrated by a drawing in the application shall be followed by a reference sign, placed between parentheses.  - 特許庁

出願の主要部分が第三者の説明，図面，ひな形，器具若しくは装置から，又は第三者が使用した方法から窃取したものであること例文帳に追加

that the essence of the application had been usurped from the descriptions, drawings, models, implements or installations of a third person or from a process used by him.  - 特許庁

要約とは，明細書，請求の範囲又は図面の主要な内容の概要からなる発明に関する簡潔な記述をいう。例文帳に追加

Abstract shall mean a concise summary of the invention which constitutes a summary of the subject matter of the description, claims or drawings.  - 特許庁

出願の主要なすべての書類，すなわち明細書，クレーム及び図面は，複製ができるように提出しなければならない。例文帳に追加

All the main documents of the application, namely: description, the claims and drawings must be submitted so as to enable their reproduction.  - 特許庁

(5) 出願中の要約において言及され，図面により図解されている主要な各技術的特徴には，括弧に入れた引用符号を付す。例文帳に追加

(5) Each main technical feature mentioned in the abstract and illustrated by a drawing in the application shall be followed by a reference sign, placed between parentheses. - 特許庁

ＴＦＴアレイ基板としての主要部分を形成した後に、表面に感光性アクリル系樹脂膜１０を塗布して平坦化する。例文帳に追加

After the main portions as the TFT array substrate have been formed, a photosensitive acrylic resin film 10 is applied to their surfaces to planarize the surfaces. - 特許庁

表面処理層９を構成する主要ポリマーとしてアクリル−フッ素系樹脂とアクリル系樹脂との混合物を用いる。例文帳に追加

A mixture of an acrylic fluororesin and an acrylic resin is used as a principal polymer constituting the surface treatment layer 9. - 特許庁

ＴＦＴアクティブマトリクス基板としての主要部分を形成した後に、表面に感光性アクリル系樹脂膜１０を塗布して平坦化する。例文帳に追加

After the main portions as the TFT active matrix substrate have been formed, a photosensitive acrylic resin film 10 is applied to their surfaces to planarize the surfaces. - 特許庁

すると、表示制御部１１ａによって、表示部１８にて壁紙状画像の前面に上記主要画像を切換えて順次表示する。例文帳に追加

Then a display control unit 11a changes and displays principal images in foregrounds of wallpaper images in order at the display unit 18. - 特許庁

フレーム１は単一部品からなり、収容空間１２への加熱素子３の固定手段１５が、主要面２、２’の領域に設けられている。例文帳に追加

The frame 1 comprises a single component, and fixation means 15 of the heating elements 3 to the storage spaces 12 are provided in a region of the main faces 2, 2'. - 特許庁

クロマキー合成用背景装置１は、背面支持部２、クロマキー用背景部３、４、光源７、９などを主要な構成とする。例文帳に追加

The background device 1 for chroma key synthesis comprises a back face supporting part 2, background parts 3 and 4 for chroma key, and light sources 7 and 9. - 特許庁

このことにより、無線ＩＣデバイス主要部６とは反対の主面からの信号に対してもＲＦ−ＩＤとして機能する。例文帳に追加

The device functions as an RF-ID also to a signal from the main surface opposite to the wireless IC device main section 6. - 特許庁

ｐ型半導体層１０３とｐ側電極１０５との界面（中間層１０４）には、主要な構成元素として５Ｂ族元素が含まれる。例文帳に追加

5B element is contained as a major compound element on an interface (middle layer 104), between the p-type semiconductor layer 103 and the p-side electrode 105. - 特許庁

この半導体デバイスは更に、基板の第２の主要面１１４上に配置された第１および第２の導電性接続パッド１４０，１４２を含む。例文帳に追加

The semiconductor device further includes first and second conductive connecting pads 140 and 142, which are located on a second major surface 114 of the substrate. - 特許庁

これによって、円形の主要構造のエッチング時に現れる面方位を持ったメサ部１３１が再成長層１１０で被覆される。例文帳に追加

In this way, the mesa part 131 emerged with a plane direction at circular main structure etching is coated with the regrowth layer 110. - 特許庁

軟磁性粒子では、鉄を主要成分とする鉄粉粒子に表面にソフトフェライト層が被覆されている。例文帳に追加

The soft magnetic particles are manufactured by coating iron powder and particles, containing iron as the main component with soft ferrite layers. - 特許庁

エピタキシャルシリコンの表面モホロジーが良好になるように改良された半導体装置の製造方法を提供することを主要な目的とする。例文帳に追加

To provided a manufacturing method for a semiconductor device for improved surface morphology of epitaxial silicon. - 特許庁

特に主要面に対して垂直方向の衝撃に対する衝撃吸収性の高い部材を提供する。例文帳に追加

To provide a member with high shock absorbability, especially, against a shock in a direction perpendicular to a main surface. - 特許庁

ホーンアンテナにおいて、簡単な構造付加により、垂直面指向性における主要ｎｕｌｌのレベルアップを行う。例文帳に追加

To improve a main null level in vertical surface directivity by adding a simple structure in a horn antenna. - 特許庁

本発明は、異なる膜厚の半導体領域を有し、素子形成面を平坦とすることを最も主要な特徴とする。例文帳に追加

To provide a semiconductor device which is provided with semiconductor regions of different thicknesses and a flattened element forming surface. - 特許庁

マグネシウム合金素材に塑性加工を施し、塑性加工後の主要部の表面粗さを７０μｍＲａ以下にする。例文帳に追加

Plastic working is applied to a magnesium alloy stock, a surface roughness of a principal part after plastic working is ≤70 μm Ra. - 特許庁

ＢＣＨ符号器の主要部である線形帰還シフトレジスタを、表面弾性波素子を用いて構成する。例文帳に追加

A linear feedback shift register being a major part of the BCH coder is configured with a surface acoustic wave element. - 特許庁

下部電極５２の主要部分の面積は８ｍｍ×８ｍｍであり、離れた位置に下部電極用のランドが形成される。例文帳に追加

The area of a major part of the lower electrode 52 is 8 mm × 8 mm, and a land for a lower electrode is formed in a part apart from it. - 特許庁

ポリオレフィン系樹脂からなる主要層の表面を非接着で酸素透過性が低い樹脂で被覆する。例文帳に追加

The surface of a major layer comprising the polyolefin-based resin is coated with a resin having low oxygen permeation performance that is not attached. - 特許庁

針付け構造の主要構成要素として四番車受けピンを備えた電波時計において、その平面的サイズを小さくすること。例文帳に追加

To reduce the planar size of a radio controlled timepiece provided with a fourth-wheel reception pin as a principle constituent element of a hand attachment structure. - 特許庁

本発明は、マグネットの吸着力を利用してスチール製の棚板の裏面に収納箱などを取付けることを最も主要な特徴とする。例文帳に追加

To fix a storage box or the like on the back surface of a steel shelf board utilizing the attractive force of a magnet. - 特許庁

穴４１の少なくとも１つは、部材４０の主要な平面Ｐ_40に対して傾斜した方向Ｘ_41に延びている。例文帳に追加

At least one of the holes 41 extends in the direction X_41 inclining to a main plane P_40 of the member 40. - 特許庁

一実施例のＭＥＭＳデバイスは、主要面に対して垂直な磁束場を生成するための１つまたは複数の構成要素を含む。例文帳に追加

The MEMS device of one embodiment includes one or more components for generating a magnetic flux field perpendicular to a major plane. - 特許庁

陰影抽出部は、各画像データのそれぞれから主要被写体の陰影部を抽出し、それらの各陰影部を面積算出部に入力する。例文帳に追加

The shading extraction part extracts shading parts of main objects from the respective pieces of image data, and inputs the respective shading parts in an area calculation part. - 特許庁

本発明のゴルフクラブヘッドのフェース部１１は、ヘッドの内側面において、第１から第４の主要リブ１２〜１５を備えている。例文帳に追加

The face portion 11 of the golf club head is provided with first to fourth main ribs 12 to 15 on the inner surface of the head. - 特許庁