「二次ビーム」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

光源からの出射光を回折光学素子１３ａによりメインビーム（０次光）、第一のサブビーム群（±１次回折光）、第二のサブビーム群（±２次回折光）、第三のサブビーム群（±３次回折光）に分割する。例文帳に追加

The outgoing light from the light source is divided into a main beam (0-th order beam), a first sub-beam group (±1st-order diffracted beams), a second sub-beam group (±2nd-order diffracted beams), and a third sub-beam group (±3rd-order diffracted beams). - 特許庁

入力ビーム２２を受け取り且つ後方反射した相反的出力ビーム２８を伝送する光反射器であって、互いに平行な第一の二次的ビーム２７及び第二の二次的なビーム２８を提供するビームスプリッタ２０と、各々が、二次的なビームをビームスプリッタに向けて方向変更し且つサニャック干渉計を形成する後方反射手段２１とを備える反射器。例文帳に追加

An optical reflector which receives an input beam 22 and transmits a retroreflected reciprocal output beam 28 is provided with a beam splitter 20, which provides first and second parallel secondary beams 27 and 28 and backward reflecting means 21, which changes the directions of the secondary beams 27 and 28 toward the beam splitter 20 and forms a Sagnac interferometer. - 特許庁

集束イオンビーム装置による二次荷電粒子像の観察方法例文帳に追加

METHOD OF OBSERVING SECONDARY CHARGED PARTICLE IMAGE ON FOCUSED ION BEAM APPARATUS - 特許庁

それにより、薄膜陽極４から二次電子ビーム６が放射される。例文帳に追加

This causes secondary electron beams 6 to be emitted from the thin-film anode 4. - 特許庁

二次元配列された光ビームの配列間隔変換光学系例文帳に追加

ARRAYING INTERVALS TRANSFORMATION OPTICAL SYSTEM OF TWO-DIMENSIONALLY ARRAYED LIGHT BEAMS - 特許庁

同様に、複数の二次ビームが二次ビーム検出器121に照射される位置を、二次ビーム検出器121の出力を用いて調整して、キャリブレーションを行う。例文帳に追加

Similarly, calibration is executed by adjusting a position where a secondary beam detector 121 is irradiated with a plurality of secondary beams by using the output of the secondary beam detector 121. - 特許庁

二次元ベクトル正規化装置、二次元ベクトル位相抽出装置およびビーム形成回路例文帳に追加

TWO-DIMENSIONAL VECTOR NORMALIZING DEVICE, TWO- DIMENSIONAL VECTOR PHASE EXTRACTING DEVICE AND BEAM FORMING CIRCUIT - 特許庁

複数の二次回折ビームは、１０％未満の二次総計効率を有する。例文帳に追加

The plurality of secondary diffracted order beams have a secondary aggregate efficiency of lower than ten percent. - 特許庁

源ビームの抽出手段は、互いに平行なビーム２３及びビーム２４を提供するビームスプリッタ２０と、二次的ビームの各々をビームスプリッタに向けて方向変更し且つサニャック干渉計を形成する後方反射手段２１、２５、２６とを備えている。例文帳に追加

A source beam extraction means is provided with a beam splitter 20 for forming beams 23 and 24 parallel to each other, and retroreflecting means 21, 25 and 26 which change the direction of each of secondary beams toward the beam splitter and form a Sagnac interferometer. - 特許庁

空間ビームドットパターンは二つの一次元回折光学素子を用いて、二つのビームドット配列をも含み得る。例文帳に追加

The space dot pattern may include two beam dot arrangements using two one-dimensional diffraction optical elements. - 特許庁

試料１５に対して荷電粒子ビームを照射する照射手段２１，２３と、荷電粒子ビームの照射によって試料１５から発生する二次ビームの二次元像を撮像する撮像手段４３，４４とを備える。例文帳に追加

The charged particle beam device comprises a radiation means 21, 23 for radiating a charged particle beam to a sample 15 and image pickup means 43, 44 for picking up the two-dimensional image of a secondary beam generated from the sample 15 with the radiation of the charged particle beam. - 特許庁

二次元又は三次元のビーム走査空間の形状を任意に設定できるようにする。例文帳に追加

To enable to arbitrarily set up the shape of two-dimensional or three-dimensional beam scanning space regarding an ultrasonic diagnostic equipment particularly a scanning technique of an ultrasonic beam. - 特許庁

一次又は二次小球はプロセスビーム内で機械的及び熱的相互作用によって分解される。例文帳に追加

The primary or secondary globule is decomposed in the process beam either mechanically or through thermal interaction. - 特許庁

短期の焦点ドリフトは一次ファン・ビームから出ている二次ビームによって検出され、一次ビームに対するコリメータを調整することによって、リアルタイムで補正される。例文帳に追加

The short-time focus drift is detected by a secondary beam 21 emitted from the primary fan beam to be corrected in real time by adjusting a collimator for the primary beam. - 特許庁

光源からの出射光を回折光学素子３ａにより０次光であるメインビーム、＋１次回折光である第一のサブビーム、−１次回折光である第二のサブビームに分割する。例文帳に追加

An outgoing light from a light source is divided by a diffraction optical element 3a into a main beam which is a zero-order light, a 1st sub-beam which is a +1st order diffracted light, and a 2nd sub-beam which is a -1st order diffracted light. - 特許庁

ビームの直径は、ビームが不均一電極領域の導電部から二次電子を発生させるように増大される。例文帳に追加

The diameter of the beam is increased so that the beam generates secondary electrons from the conductive portion of the non-uniform electrode area. - 特許庁

オフセット配置の二次曲面鏡によって生じるビームピーク歪みを補償することができるマルチビーム反射鏡アンテナ装置を得る。例文帳に追加

To provide a multi-beam reflection mirror antenna device in which beam peak distortion caused by the secondary curved mirror of offset arrangement can be compensated. - 特許庁

続いて、第二のビーム照射工程ステップＳ３−２において、点Ｒから蓋体の外周に沿って第一のビーム照射工程ステップＳ３−１のビーム走査方向と対向する方向に順次ビームを走査して点Ｑまで電子ビームを照射する。例文帳に追加

Then, in a second beam irradiation process step S3-2, electron beam scanning is conducted in the opposite direction from the beam scanning direction in the first beam irradiation process step S3-1 along the outer periphery of the cover from the point R to successively irradiate the electron beam to the point Q. - 特許庁

荷電粒子ビーム光学装置は、荷電粒子源からの一次荷電粒子ビームの照射により試料から得られる電子を二次荷電粒子ビームとして検出する。例文帳に追加

The charged particle beam optical apparatus detects electrons obtained from a sample irradiated with a primary charged particle beam from a charged particle source as a secondary charged particle beam. - 特許庁

半導体基板１４に電子ビーム１３を照射し二次電子１６を検出する。例文帳に追加

An electron beam 13 is radiated to the semiconductor substrate 14 to detect secondary electrons 16. - 特許庁

断面への二次粒子の再付着を簡単に抑制することのできるイオンビーム装置を提供する。例文帳に追加

To provide an ion beam apparatus which can simply suppress redeposition of secondary particles to a section. - 特許庁

観察面（断面）への二次粒子の再付着を防止することのできるイオンビーム装置を提供する。例文帳に追加

To provide an ion beam device capable of preventing secondary particles from re-adhesion on an observing surface (cross section). - 特許庁

偏光素子１９を有する光積分器１８は、二次色のビームを供給する。例文帳に追加

A light integrator 18 with a polarizing element 19, such as a polarization converter or polarizing filter, provides a beam of the secondary color 20. - 特許庁

二次元的にビーム方向を変化させることが可能であり且つ小型のアンテナ装置を提供する。例文帳に追加

To provide an antenna apparatus that changes a beam direction in a two-dimensional manner and is compact. - 特許庁

コレクタにおける二次電子の発生が少なく、イオンビームに対して悪影響を与えることの少ない電子ビーム冷却装置および良質のイオンビームを生成することのできるイオンリングを提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam cooling apparatus scarcely generating secondary electrons in a collector and rarely affects on an ion beam, and an ion ring for producing an ion beam in good quality. - 特許庁

第２モードでは、イオンビームは、ビーム走査システム128とパラライザー130を走査しないで通過し、かつ加工物122は、スポットイオンビーム112を通って二次元で走査される。例文帳に追加

In the second mode, the ion beam passes without scanning the beam scanning system 128 and the parallelizer 130 and the workpiece 122 is scanned through the spot ion beam 112 in two dimensions. - 特許庁

対車両用と対路側用のビームを一つのアンテナ開口で実現する２ビーム共用アンテナによって主アンテナと二次アンテナを構成し，各々の対路側用ビームが対向するように道路に沿って配置する．例文帳に追加

A main antenna and a secondary antenna are constituted of the two-beam shared antennas by which the beams for the vehicle and the road are realized by one antenna opening and are arranged along the road to permit the respective beams for the road to be opposed. - 特許庁

二次元フォトニック結晶を用いた半導体レーザにおいて、単純で造りやすい構造によって、出射ビームのビーム形状を単峰性ビームとする。例文帳に追加

To provide a semiconductor laser using a two-dimensional photonic crystal which has a simple easy-to-manufacture structure, whereby a beam shape of an outgoing beam is formed as a unimodal beam. - 特許庁

二次元配列微小ミラー１０８にレーザ光を入射させる前に、レーザビーム変換器１０７によって、マルチビーム化し、各マルチビーム化された細いレーザ光を各マイクロミラーに正確に入射させる。例文帳に追加

Before entering a two-dimensionally arranged micromirrors 108, a laser beam is converted into multibeams by a laser beam converter 107 so that each thin laser beam enters each micromirror accurately. - 特許庁

本発明は、試料にイオンビームを照射するイオンビーム源と、前記イオンビーム源のイオンを加速させるとともに二次電子サプレッサとして機能する加速電極と、前記イオンビームの電流を測定するイオンビーム電流測定器とを備え、前記試料と前記イオンビーム源との間に前記加速電極を設けたことを特徴とする。例文帳に追加

This ion milling device is provided with an ion beam source radiating ion beams to the specimen, an acceleration electrode accelerating ions of the ion beam source and functioning as a secondary electron suppressor, and an ion beam current measurement apparatus measuring electric current of the ion beams, and the acceleration electrode is installed between the specimen and the ion beam source. - 特許庁

イオン源から放出されるイオン８０を減速し、ビーム径を絞ってイオンビーム８１とするビーム成形器６１、６２に、移動機構７５を設け、二次電子電流を測定する前に、ビーム成形器６１、６２にイオン８０が照射されないようにする。例文帳に追加

A moving mechanism 75 is formed on beam forming units 61, 62 for decelerating ions 80 emitted from an ion source and forming them into an ion beam 81 by reducing the beam diameter, so that the ions 80 are prevented from being applied on the beam forming units 61, 62 before a secondary electron current is measured. - 特許庁

荷電粒子ビームの照射対象をマトリックス状に配置してなる試料上で荷電粒子ビームを二次元的に走査する走査ビーム装置において、照射対象のピッチサイズに応じて、荷電粒子ビームを走査する走査領域のピッチサイズを可変とする。例文帳に追加

In a scanning beam device for scanning a sample which is made up, by arranging irradiation objects of the charged particle beam in the form of a matrix, with the charged particle beam in a two-dimensional fashion, the pitch size of a scanning area which is scanned by the charged particle beam, is made adjustable according to the pitch size of the irradiation objects. - 特許庁

集束イオンビーム装置（ＦＩＢ）における二次電子検出系の二次電子収集効率を高めてＦＩＢ画像のコントラストレベルを上げる。例文帳に追加

To raise contrast level of the FIB image by increasing the secondary electron collection efficiency of the secondary electron detection system in the focusing ion beam device(FIB). - 特許庁

マルチビーム装置で二次電子を検出器に入射させるためのコンデンサレンズを必要とせず、二次電子を効率よく検出するようにする。例文帳に追加

To efficiently detect secondary electrons without making a condensing lens for making the secondary electrons incident on a detector necessary in a multi-beam device. - 特許庁

電子ビームの数を増加しても二次電子間のクロストークが生じないような二次光学系を備えた電子線装置を提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam device equipped with a secondary optical system in which the cross talk between the secondary electrons is not generated even if the number of electron beams is increased. - 特許庁

前記マルチビームの各々により試料面から発生する二次電子を二次光学系において互いに独立に検出できる検出器を含む。例文帳に追加

A detector is included which can detect the secondary electrons mutually and independently generated from the test piece surface by each multiple beam in the secondary optical system. - 特許庁

表面を像形成する方法は、表面の第１領域を一次荷電粒子ビームで第１スキャン速度においてスキャニングして、その第１領域から第１の二次荷電粒子ビームを発生し、表面の第２領域を一次荷電粒子ビームで上記第１スキャン速度よりも速い第２スキャン速度においてスキャニングして、その第２領域から第２の二次荷電粒子ビームを発生することを含む。例文帳に追加

The method for imaging a surface includes: scanning a first region of the surface with a primary charged particle beam at a first scan rate so as to generate a first secondary charged particle beam from the first region; and scanning a second region of the surface with the primary charged particle beam at a second scan rate faster than the first scan rate so as to generate a second secondary charged particle beam from the second region. - 特許庁

第２カラーホイール、透過反射式二色性ビーム分割器、又は、入力偏光ビーム分割器との組み合わせにおけるカラー感応偏光スイッチのような原色分離器は、二次色ビームを第１偏光原色ビーム及び第２偏光原色ビームに分離し、第１及び第２イメージャパネルの方に向けられる。例文帳に追加

A primary color separator, such as second color wheel, transflective dichroic beamsplitter, or color-sensitive polarizing switch in combination with an input polarizing beamsplitter, separates the secondary color beam into a first polarized primary color beam and a second polarized primary color beam, which are directed to first and second imager panels. - 特許庁

マルチビーム型の荷電粒子線応用装置において、試料の特性に応じて試料表面における電界や電圧を変更すると、試料表面における複数の一次ビーム、検出器上における複数の二次ビームの配置が変化する。例文帳に追加

To solve a problem wherein, when an electric field or a voltage on a surface of a sample is changed in accordance with a characteristic of the sample, the arrangement of a plurality of primary beams on the sample surface, and a plurality of secondary beams on a detector is changed, in a multi-beam type charged particle beam application device. - 特許庁

主制御系３４は、試料４上に一次電子ビームＢ１を照射した際に生ずるチャージアップ量に応じ、電子ビーム検出器３０の検出面における二次電子ビームＢ２の焦点ずれ量を示す電圧マップを予め作成し記憶装置４３に記憶する。例文帳に追加

A main control system 34 previously forms the voltage map indicating the quantity of the focal point displacement of the secondary electron beam B2 in a detecting surface of an electron beam detecting unit 30 in response to the quantity of the charge up generated when a sample 4 is irradiated with the primary electron beam B1, and stores this voltage map in a memory device 43. - 特許庁

欠陥検査装置は、複数のビームを試料上に合焦させ、該ビームの最大間隔より十分大きい距離にわたって、複数のビームを同時に走査し、各走査点から放出された二次電子を拡大光学系で拡大してそれぞれの複数のビームからの二次電子を検出する装置であることが好ましい。例文帳に追加

The defect inspecting device focuses a plurality of beams on a sample, scans simultaneously the plurality of the beams over a sufficiently longer distance than the maximum interval of the beams, and preferably detects secondary electrons from the plurality of the beams by magnifying the secondary electrons emitted from each scanning point by a magnifying optical system. - 特許庁

次に、その第二パターンデータをＣＡＤシステムから電子ビーム描画装置に送り、電子ビームを第二パターンデータに応じて、レチクル上に塗布されたレジストの所定領域に照射する。例文帳に追加

Then the 2nd pattern data are sent from the CAD system to an electron beam drawing device and a specific area of resist applied onto the reticle is irradiated with an electron beam according to the 2nd pattern data. - 特許庁

また、このシンチレーション検出器組立体を一次イオンビームに近接配置することによって、二次電子収集効率をさらに高める。例文帳に追加

By arranging this scintillation detector assembly adjacent to the primary ion beam, secondary electron collection efficiency is further increased. - 特許庁

一次電子線の収差を減少し、マルチビームを用いる場合の二次光学系の構造を簡単化しスループットを高める。例文帳に追加

To heighten a throughput by decreasing aberration of primary electron beams and simplifying a secondary optical system structure in the case of using a multi-beam. - 特許庁

一次ビームの試料上の照射領域を制限することなく、二次ビームの倍率色収差を抑えることができる、基板検査装置および基板検査システム並びに基板検査装置の制御方法を提供する。例文帳に追加

To control the chromatic aberration of magnification of a secondary beam without restricting the irradiated region by a primary beam on a sample. - 特許庁